基于有限状态机模型的光刻版图自动布局系统

采用有限状态机模型设计了集成电路光刻版上各个图形布局的自动系统。将布局的各个阶段定义为不同的状态,布局规则定义为触发条件,组成一个有限状态机。基于此模型的计算机自动布局系统能自动完成图形在光刻版上的布局,充分利用硅圆片面积并给出布局报告。     

光刻版数据处理中的工艺涨缩问题

介绍了集成电路行业中在光刻版数据处理时的工艺涨缩问题，分别讨论了正涨缩和负涨缩问题，涨缩与反转处理的次序问题，尤其对位于版图边沿图形的涨缩进行了详细的讨论，并且提出了一种电子设计自动化软件的解决方案和实际结果。     

光刻版清洗工艺及设备研究

光刻版的洁净程度直接影响到光刻的效果,定期对光刻版进行清洗是保证光刻版洁净的必要手段。根据光刻版污染物的特点介绍了多种光刻版清洗工艺及相关设备的种类及组成．最后通过试验考查了工艺设备的使用效果。     

普通玻璃光刻版对产品成品率影响的研究

介绍了半导体工艺中光刻版的重要作用,特别针对在实际工艺中使用普通玻璃材质光刻版对产品造成的成品率波动问题。通过对大量实验中失效现象的分析总结,找出波动产生的原因,并且根据实际采集数据进一步验证。最后得出结论:由于使用普通玻璃光刻版,使该产品的对位一直处于临界状态;当在单台设备上作业时,由于不存在设备之间的匹配问题,因而没有发生大规模的良率波动问题;但是,当使用多台设备交叉作业时,就不可避免地发生了良率的波动。     

光刻版清洗工艺及设备研究

光刻版的洁净程度直接影响到光刻的效果,定期对光刻版进行清洗是保证光刻版洁净的必要手段。根据光刻版污染物的特点介绍了多种光刻版清洗工艺,并介绍了相关工艺设备的种类及组成．最后通过试验考查了工艺设备的使用效果。     

全自动光刻版清洗机工艺原理与工作过程介绍

介绍了常用的光刻版清洗工艺,并详细讲解了全自动光刻版清洗机的工作过程。同时,简单介绍了为提高光刻版清洗效果而设计的浸泡系统、药液供给与循环系统和温控系统。     

63.5mmX127mm英寸UT 1X光刻版的设计及制造

提出一种新的UT1X光刻版规格63.5mm×127mm,与原来的76.2mm×127mm的UT1X光刻版适用于同一种UltraTech步进光刻机。相应的光刻版数据处理以及夹具进行了调整。新规格的光刻版将127mm×127mm的基材的产出提高了一倍,加快了光刻版的生产速度,同时减少了废弃物的产生,有利于降低成本和环境保护。     

改造双极生产线Cr版代替明胶版光刻技术研究

本文叙述了用匀胶铬版制作光刻掩模代替超微粒干版制作光刻掩模的工艺过程，文中就图象发生器直接曝光匀胶铬及图象的黑白反转工艺作了较为详尽的介绍，对集成电路的光 刻技术有一定参考作用。     

激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用

为了对光掩模版亮场缺陷进行修补,采用激光化学气相沉积的方法,利用功率密度为1.3×108W/cm2的55nm紫外激光诱导Cr(CO)6分解,在1.5s内获得了光掩模亮场区域附着力强、消光比高的金属Cr膜.结果表明,在开放的环境下,采用高功率密度、短作用时间的方法能够得到高质量的沉积薄膜,满足了微电子行业中对掩模版修复的要求.     

EDA技术在芯片设计中的发展与应用

EDA（Electronic Design Automatic）技术已成为电子系统设计和电子产品研制开发的有效工具。分析了EDA技术的发展过程、基本设计方法，并阐述了当今EDA工具在芯片设计过程中存在的问题，同时从硅虚拟原型（SVP）及可测试性技术（DFT）二个方面讨论了EDA技术应用的发展趋势。     

Fabrication for metal photomask pattern by using fountain-pen nanolithography

The fabrication of photomask by fountain-pen nanolithography (FPN) with silver nanoparticles ink is studied. The FPN, a kind of pen-type nanolithography technique, enables on-demand patterning of micro-meter size at large area. Firstly preparation of silver nanoparticles ink and patterning condition by FPN were investigated. Then the photomask was fabricated by the FPN with the prepared ink. And photolithography process with the photomask was tried. The result indicates that the pattern made by the FPN behaved as a photomask.     

基于有限状态机的UART设计

文章结合UART的设计，分析阐述了硬件设计中的有限状态自动机理论；并在分析UART功能特点的基础上，给出了利用有限状态自动机理论进行UART设计的实例，与其他设计方法相比较，利用有限状态自动机理论设计控制逻辑具有直观简单，设计流程短等优点，在EDA技术中必将发挥重要的作用。     

数字IC可测性设计及其EDA流程

介绍了数字IC可测性设计(DFT)的概念和方法及其在电子设计自动化(EDA)环境中的实现流程.DFT实质上就是在设计时更改或添加设计结构和模块,使之能够满足测试的需要.它的目标包括:所设计的电路和系统易于测试;由此设计所引起的附加硬件应尽可能少;电路的附加部分对原来电路的性能影响应尽可能少;设计方法的适应面要广.着重介绍了内建自测试DFT、内扫描DFT、边界扫描DFT、IEEE P1500--嵌入式核的测试标准.     

电子类EDA教学中引入MPW计划的研究与实践

EDA技术的快速发展，给我国高校电子技术教学带来严峻挑战。如何使高校培养的EDA人才符合市场需求，是现代EDA教学改革的目标。论文首先分析了现代EDA教学现状，介绍了MPW的基本概念及国内外MPW计划的实施情况，然后提出在本科电子类EDA教学中结合科研项目，引入MPW计划的必要性和可行性，并以多年来我校工程实践和毕业设计实践说明MPW计划在现代电子设计教学和人才培养中的作用。     

LF747集成双运放计算机模拟及版图设计

以逆向设计为主导方向，对国外集成双运放NSC747原理电路进行了模拟分析，并与国内同类产品做了对比实验，设计出了改进型的LF747电路版图。     

片上系统的设计技术及其研究进展

综述了微电子领域中集成电路以及片上系统目前的发展情况,详细介绍了片上系统的设计方法,设计技术及其设计过程中亟待解决的问题,并对其研究进展做了展望。