多层膜软X光反射镜

复旦大学物理系激光研究室从1984年开始软X光反射镜的研制工作。六年来,进行了超薄多层膜的膜厚监控的方法研究、单层超薄金属膜的特性研究、Ni-C和Mo-Si多层膜软X光反射镜的制备与测试以及用PVD与LB技术相结合制备软X光反射镜。本文详细介绍了这些工作。     

镍—碳多层膜软X光反射镜的一种设计

本文介绍了Ni—C多层膜软x光反射镜设计与计算的一种方法,并分析了提高反射率的有关因素。     

软X射线多层膜反射镜的设计、制备与检测

本文提出一种图像直观、结果可靠的软X线多层膜设计方法,讨论了与软X射线多层膜制备有关的基板选择,膜厚控制等工艺问题。给出Mo/Si软X射线多层膜小角度衍射及171Å、231Å及256Å处软X射线反射率的测试结果,并对软X射线多层膜工作做了展望。     

类镍钽软X射线激光用多层膜反射镜的研制

设计并制备了工作波长为4.48 nm类镍钽软X射线激光用多层膜反射镜。选择C r/C、C r/Sc为多层膜材料对,模拟了多层膜非理想界面对多层膜反射率的影响。采用直流磁控溅射技术在超光滑硅基片上制备了C r/C、C r/Sc多层膜。利用X射线衍射仪测量了多层膜结构,在德国Bessy II同步辐射上测量了多层膜的反射率,C r/C,C r/Sc多层膜峰值反射率分别为7.50%,6.12%。     

C/Al软X射线多层膜反射镜的制备与测量

在λ＝ ２８．５ｎｍ 波长处,我们选择了一种新的多层膜材料对Ｃ／Ａｌ。正入射Ｃ／Ａｌ多层膜在１５．０ｎｍ 附近有很低的二级衍射峰。磁控溅射法制备的Ｃ／Ａｌ多层膜样品,用Ｘ射线小角衍射法对其结构进行了测试,并测得Ｃ／Ａｌ软Ｘ射线多层膜的正入射反射率２２％ ±４％ 。     

C／AI软X射线多层膜反射镜的制备与测量

在λ＝２８．５ｎｍ波长处,我们选择了一种新的多层膜材料对Ｃ／ＡＩ。正入射Ａ／ＡＩ多层膜在１５．０ｎｍ附近有很低的二级衍射峰。磁控溅射法制备的Ｃ／ＡＩ多层膜样品,用Ｘ射线小角衍射法对其结构进行了测试,并测得Ｃ／ＡＩ软Ｘ射红多层膜的正入以射率２２％±４％。     

用磁控溅射法制备软X射线多层膜

本文介绍用直流-射频平面磁控溅射法制备软x射线多层膜的初步实验结果。在一定工艺条件下,采用计算机定时控制膜厚的方法,严格按照设计周期制备了多层膜样品,并给出了X射线衍射仪小角衍射的检测结果。     

同步辐射软X射线多层膜反射率计的设计

分析了同步辐射软X射线多层膜反射率计;介绍了单色器系统、反射率计系统、真空系统以及双重二倍角机构的设计要点。     

宽带平坦型软X射线多层反射膜的设计

提出一种宽带平坦型软X射线多层反射膜的设计方法。给出了18nm 20nm波段的设计结果,整个波段的反射率与25%的最大偏差小于1.5%.这种方法对于软X射线波段的成像、光谱分析等应用有重要意义。     

同步辐射软X射线多层膜分光反射率测试装置

采用多层膜反射镜作为分光元件,成功地研制了同步辐射软X射线反射率计。可完成对各种光学反射镀层的光学常数的测试和评价。工作波段(2-20)nm,角分辨率0.01°,扫描范围(0-80)°。该装置安装在BEPC同步辐射实验室3B1光刻光束线上。     

同步辐射软X射线多层膜反射率计测量控制系统

本文介绍我们首先使用一块软X射线多层膜反射镜作为色散元件而研制的同步辐射软X射线反射率计的软硬件结构、功能与特点,并报告了实测结果。     

软X射线探测器

西安光机所自1984年开始,共研制了不同型的五台软X射线条纹相机;1987年开始,研制了软X光分幅相机。这些仪器,已在激光核聚变研究、激光等离子体诊断、核试验及爆轰物理研究等领域,作为有效的测试工具。本文介绍了我们的有关研究工作和X线条纹相机、分幅相机的主要性能。     

软X射线辐射测量

在软X射线辐射测量中,和光度学一样,光源标准和探测器标准都同时存在,长春光机所八十年代初,研制了真空紫外光谱区的标准光源;近两年研制了软X射线标准探测器稀有气体电离室和传递标准探测器Al₂O₃光二极管。电离室光谱响应的稳定性和重复性好于±2%;光谱辐射绝对定标的不确定度小于±5%。Al₂O₃光二极管光谱响应稳定性好于±2%,数只二极管的一致性好于±6%。     

软X射线稀有气体电离室

软X线稀有气体电离室^[1][2]作为软X线波段绝对探测器,是通过测量光电离子流得出光谱辐射强度。介绍我们研制的1m软X射线稀有气体电离室的工作原理及结构,测出空阴极光源辐射出的HeⅡ25.6nm离子线及Henke源C^k_α4.47nm的强度随电离室工作气压的变化外推出零气压下谱线光谱辐射强度,最终得出谱线的绝对光谱辐射强度。