LSA—1型电弧离子镀膜机结构研制

简述了电弧离子镀的进展及其特点;介绍了它的工作原理,着重论述了电弧离子镀膜机的基本结构及作用和真空泵的选择,最后指出了它的应用前景。     

电弧源喷射微粒及膜沉积率空间分布

测量了冷阴极电弧源镀膜时膜沉积率及源喷出的微粒空间分布。为了获得最大沉积率及减少膜层中微粒,给出了工件最佳工作位置选择。     

HHB—66—И1型多弧离子镀膜设备的性能分析

介绍了前苏联生产的ＨＨＢ－６６－Ｍ１型多弧离子镀膜机的技术条件、结构形式、性能特点。与美国ＭＵＬＴＩ－ＡＲＣ公司生产的ＭＡＶ－３２Ｄ多弧离子镀膜机的性能进行了对比分析。     

浅析离子辅助光学薄膜镀膜机的特性

真空镀膜产品的质量问题，一直是应用镀膜技术人员探索的课题。人们经过长期探索，采用离子束辅助沉积镀膜技术，改善了镀膜层牢固性，提高了反射率。本技术在通讯技术、太阳能应用、汽车、装潢等领域应用十分广泛。本文介绍了真空离子束辅助沉积镀膜设备特性。     

离子沉积电弧蒸发电源装置

ＺＸＧ型离子沉积电弧蒸发电源装置，专门用于多弧离子镀膜机的电弧蒸发。本文 基于阴极放电的机理，对此装置的功率规范，电流调控特性作了具体分析与论证，并给 出了试验数据．     

用于真空电弧离子镀膜的受控电弧蒸发源

本文在研究了阴极弧斑运动规律的基础上，发展了多功能受控电弧蒸发源，它可在自由电弧状态下运行，而在２００～２５０Ａ高参数运行时，可使阴极弧斑覆盖几乎整个阴极表面且多轨迹旋转，使阴极烧蚀均匀，提高了镀膜沉积速率，薄膜质量也相应提高。研制的另一种环形阴极旋转电弧蒸发源，可基本消除液滴，使阴极利用率更高。     

过滤式真空电弧离子镀膜技术及应用

介绍了一种新的镀膜技术—过滤式真空电弧离子镀膜技术。针对典型的过滤式真空电弧镀膜装置，描述了其结构组成，分析了它的工作原理。分析结果表明，该技术与传统真空电弧离子镀膜技术相比，可有效地消除宏观颗粒对镀层的污染，可广泛应用于制作各种微电子膜透明导电薄膜（ＩＴＯ）以及类金刚石（ＤＬＣ）薄膜。     

离子镀膜技术的进展

本文概括地介绍了五十年来离子镀膜技术的发展概况,介绍了离子镀膜技术的意义、原理、特点、发展和应用范围。从D.M.Mattox发明离子镀膜技术以来的五十年中,离子镀膜技术适应高端产品加工和高新技术发展的要求,得到了飞速发展。各种激励气体放电过程技术,提高等离子体密度的措施层出不穷,满足各种需要的新的薄膜材料在各个应用领域得到了广泛的应用。对国防事业、宇航事业、高新技术产品和美化人民生活做出了突出贡献。我们期待离子镀膜技术继往开来,在新的五十年中再放光彩。     

多层复合真空离子镀膜技术的新发展

本文回顾了多弧——磁控溅射多功能离子镀膜设备的结构和功能，并且对该设备在氮化钛掺金离子镀（IPG）方面的典型应用，做了较为详细的膜层性能分析。同时，本文了对近年来一种新型的多功能离子镀设备——复合式离子镀膜设备的结构及特点做了介绍，给出了该类型设备的典型应用场合，并且向读者介绍了使用该设备镀制的金属/金属陶瓷多层膜的优异性能。     

阴极电弧沉积技术及其发展

本文分析了阴极电弧等离子沉积技术，以及有关的机理和应用，与其它物理气相沉积技术也作了定性和定量的比较，特别强调了重要的技术方面和最近的发展。     

多功能复合离子镀膜机的研制

详细介绍了一台我院新近研制的多功能复合离子镀膜机.该机配有柱弧源、电磁控大面积弧源、小多弧源,使得在不同材质的工件上原位连续镀制各种多层膜及复合化合物膜;偏压电源采用我院自行开发的叠加式直流脉冲偏压开关电源,使用该电源可有效控制基体温度,实现远离平衡态的低温沉积镀膜工艺;全部控制及工艺流程采用PLC(可编程控制器)自动控制,具有成本低、效率高、膜系质量优、工艺可重复性好等特点.用该设备开发的一些功能膜复合工艺已获得实际应用,取得了良好的使用效果.     

多弧源磁控溅射多功能离子镀膜机的开发

本文系统地介绍了真空多弧源磁控溅射多功能离子镀膜机的开发情况、基本性能、主要特点、结构原理及采取的各种技术措施，评估了该设备的经济技术价值及开发者的良好心愿     

离子镀膜用长寿命阴极电子枪

以硼化物为热电子发射体.在热阴极自持弧光放电状态工作的低电压大电流空心明极电子枪,在离子镀膜设备中用以熔化蒸发并电离膜材料。着重简述枪工作原理,对枪结构主要尺寸,气、电工作参数进行了设计.估算了枪效率。枪的结构简单,放电功率5～8kW.工作350h 后性能稳定。     

离子色谱法同时测定镀膜液中5种酸根离子和4种有机酸

建立一种同时测定镀膜液中常见酸根离子(如F-、Cl-、NO3-、SO42-、PO43-)和有机酸(如甲酸、乙酸、草酸、柠檬酸等)的离子色谱方法,用IonPac AS19阴离子交换柱为分离柱,以淋洗液自动发生装置产生KOH进行梯度淋洗。在优化的色谱条件下,即色谱柱温度为30℃,流速为1.00mL/min,采用电导检测器,在20min内能实现上述5种常见酸根离子和4种有机酸的分离和检测。用于标准样品检测时,其均呈现出良好的线性关系,相关系数在0.9992~0.9998之间。将该方法应用于3种不同镀膜液的测定,样品加标回收率在85.4%~112%之间。该方法简便快速,灵敏度高,准确性好,可广泛用于镀膜液中常见的酸根离子和有机酸的同时测定。     

多弧离子镀膜机靶源电磁场的研究

多弧离子镀设备蒸发源的电弧放电受外加磁场的严格控制，靶面处不同的磁场分布 具有不同的电弧放电形貌，这样，靶面处磁场强度的计算显得特别重要。本文基于多年 科研实践和研究生论文试验对电磁线圈在靶面各处产生的磁场强度的计算进行了理论推 导和研究，建立了数学模型，并进行了比较精确的磁场计算。计算值与实测值较好地相 吻合。该计算可作为多弧靶设计的依据。     

非晶金刚石离子镀膜机自动化控制系统的设计

结合非晶金刚石离子镀膜机的工艺特点和要求，本文介绍了一种成功应用的分布式控制系统的设计，重点讨论了控制系统的硬件配置、软件设计、通信服务程序以及软件编程中的几个控制算法。     

TG—46S型双室双面镀钢板多弧离子镀膜机的研究

叙述了TG－46S型双室双面镀钢板多弧离子镀膜机的主要参数,结构及其特点,并就该机的应用领域及其发展前景进行了探讨。     

旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机

本文介绍了旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机的特点和所镀氮化钛膜的组织、性能     

多室镀膜机的结构特点与工业应用

首先介绍镀膜技术的分类、软硬衬底涂层设备的结构特点及多室系统、现代卷绕镀膜机单室、双室及三室的真空设计,其次介绍直线式与集束式多室镀膜机的结构特点,最后叙述大型真空镀膜设备工业应用及进展情况。(1 Torr=133 Pa)     

镀膜机张力控制系统的改造和微机接口电路设计

本文从系统设计角度对长膜镀膜机张力控制系统进行了分析，详细介绍了张力控制系统的接口方法和接口电路，以及控制对象工作状态判别的原则。