ADS TFT-LCD漏光敏感性影响因素研究与改善

ADS TFT-LCD暗态受外力时存在漏光亮度高、范围大、颜色偏黄的敏感性差问题,模组极易产生漏光。本文研究了玻璃、液晶和隔垫物(PS)3方面对暗态漏光敏感性的影响。研究得出,玻璃厚度减小,可以改善按压亮度变化,例如外力30N时,0.5T玻璃的L_o亮度相比0.7T L_o亮度下降了33%;降低液晶Δnd可以改善按压发黄;相同Δnd,减小Δn,增加K,可减少LC散射,继而可减小按压亮度高和范围大问题,例如外力30N时,散射值0.027的L_o亮度相比散射值0.038的L_o亮度下降了28%;增加PS的支撑密度,可以减小按压亮度和范围的变化,例如PS密度3 168 μm~2/mm~2的L_o亮度相比PS密度2 364 μm~2/mm~2的L_o亮度下降了22%。通过以上措施,可以改善ADS产品L_o漏光敏感性。本文对敏感性改善的机理也做了相应解释。     

TFT-LCD发粉不良改善及机理分析

广色域、低功耗TFT-LCD在高温高湿运行测试时容易发生周边发粉不良,严重影响器件的视觉效果.本文研究了不同成分的绿色色阻、有源层与平坦层材料制成的微型液晶盒与TFT-LCD在光照、高温与高湿环境中的透过率变化情况,以及周边发粉的起始时间,明确发粉不良的根本原因为绿色色阻中的非金属配合物分子结构的Y颜料,且不良程度与产...     

TFT-LCD白点不良机理研究及改善

TFT基板四道掩膜版工艺可提升产能,但其带来的产品品质困扰着各工厂,白点不良即为四道掩膜版工艺产生.本文通过直流实验探究了白点产生的原因;采用光照实验和高温实验,研究了白点产生的机理,同时利用工艺调整来改善白点不良.结果表明,有源层膜质存在异常,其导电性不同导致了反冲电压(ΔVp)的差异,最佳公共电压的不同形成白点不良...     

液晶显示屏挤压漏光的分析及改善

为提高液晶面板挤压漏光最大临界力值和抗挤压能力,通过对液晶面板挤压漏光机理进行分析,结合企业实际生产,采用实验设计（DOE）筛选主要因子。DOE结果表明,挤压漏光的主要因子有柱状隔垫物（Photo spacer,PS）尺寸、黑色矩阵（Black Matrix,BM）宽度、PS站位以及平坦化层（PLN）厚度。在实际生产过程中对挤压漏光进行改善设计实验,结果表明：增加PS的尺寸能有效提升面板抗击压能力的32.69%,且尺寸增大后,其弹性回复率增加了4.4%,能有效降低挤压漏光的发生;增加3μm BM宽度设计的面板挤压漏光平均临界值提升了30.61%;改变PS站位整体居中设计较PS偏右上设计的面板的挤压漏光平均临界力值提升了33.33%;PLN厚度减小0.6μm能有效提升27.08%的面板挤压漏光临界力值。     

Zara漏光和Rubbing Mura改善研究

研究了摩擦强度对Zara漏光和摩擦痕Mura的影响。实验表明,当摩擦强度偏低时,Zara漏光易发生,而摩擦强度偏高时,则易引发摩擦痕Mura。通过选择合适的摩擦强度,可降低Zara漏光和摩擦痕Mura的发生率。另外,利用FIB对基板表面进行分析,找到了FFS型产品容易发生Zara漏光和摩擦痕Mura的原因。     

降低小尺寸液晶显示模组漏光不良

文章介绍了小尺寸TFT液晶显示模组漏光生产的重要不良类型．分析了发生漏光的主要原因,并提出改善的建议和对策。     

TFT-LCD模组温升分析与改善

本文实验确定了TFT-LCD显示模组的热源,提出了为分散热源而变更LED位置的两种结构设计,最后再从减少产热和增强散热这两种不同途径提出了具体的改善措施。结果表明：IC与LED为模组的主要热源,变更两者相对位置能减少热量集中降低温升;降低背光功耗能减少热功率降低温升;BLU背面增加“鳍片”状Al散热片能增强对流散热降低温升。本文为解决TFT-LCD显示产品在应用过程中出现温升过高问题提供参考。     

ADS TFT-LCD贴合产品按压漏光研究及改善

按压漏光是发生在ADS TFT-LCD贴合产品上的一种漏光不良,本文对8.5G工厂1 225mm (55in)产品按压漏光的发生原因进行分析,发现漏光为玻璃基板固定位置受外部应力作用形变导致。同时分析了辅助封框胶排布、封框胶固化前外部应力对基板的影响等。通过改变翻转台运动方式,能有效改善按压漏光发生程度,按压漏光发生等级由Level 2(L2,客户不接受等级)下降至Level 1(L1,客户接受等级)。该方法的首次导入,为后续其他产品漏光的解决提供了思路。     

TFT-LCD光致发绿不良改善、机理分析及研究

广色域TFT-LCD产品需要使用高颜料浓度的RGB色阻,光照状态下易于发生发绿不良,严重影响TFT-LCD显示器件的视觉效果。通过研究不同成分的色阻制成的TFT-LCD与光电测试样板在光照前后的发绿情况以及光电特性变化,确定TFT-LCD光致发绿不良源于绿色色阻中含有的金属酞箐类G颜料,且不良程度与绿色色阻中G颜料含量强关联。此类颜料具有共轭结构与半导体特性,光照状态下发生电子迁移,导致介质损耗因数升高,影响TFT-LCD的耦合电场,进而导致RGB像素亮度的差异化,形成光致发绿不良。依托方法:(1)在保证TFT-LCD样品色度规格的前提下,通过广色域G颜料以降低绿色色阻中的G颜料含量;(2)使用高敏感度的光起始剂,可以有效改善TFT-LCD产品的光致发绿不良,尤其方法(1)更为有效。本文建立TFT-LCD显色核心的彩色滤光片RGB色阻成分管理基准,同时搭建光致发绿不良的生产线与实验室评价体系,为后续色阻材料开发提供理论指导。     

大尺寸薄膜晶体管液晶显示器的一种条状显示不均的分析和改善研究

研究了大尺寸薄膜晶体管液晶显示器产品开发中遇到的一种新的条状显示不均。通过扫描电子显微镜、四探针测试仪和分光光度计设备对这种显示不均进行了分析,这种显示不均与薄膜晶体管阵列基板上的金属配线的膜厚周期性波动有关,金属膜厚的周期性波动导致了液晶显示器的液晶盒盒厚的不均匀,从而造成显示不均。这种膜厚的周期性波动与液晶高世代线广泛采用的平面靶材溅射设备构造有关。通过对设备结构的改造,提高了基板面内的金属膜厚的均一性,改善了此不良。     

TFT-LCD生产中毛刷清洗工艺的研究

以玻璃基板表面残留的各种微粒（Particles）的去除率为依据,研究TFT-LCD生产清洗工艺中毛刷的旋转方向、旋转速度和毛刷相对玻璃的压入量等因素对玻璃基板表面particles清洗效果的影响,探讨这些因素的作用机理,为TFT-LCD生产以提供最佳的清洗工艺方法。     

TFT-LCD工艺中角落白Mura的成因机理研究与改善

在新产品导入过程中会突发各种Mura类不良。本文为解决TV机种导入中出现的一种原因未知的角落白Mura,首先进行了大量的排查和推理,初步判定异常来源于成盒工艺(Cell)段,利用气相色谱(GC)、高效液相色谱(HPLC)设备测试并对比了角落白Mura区域与正常区域的液晶纯度、液晶组份和框胶溶出的差异,最后探讨了其形成的机理。结果表明角落白Mura区域液晶组份发生较大变动,液晶组份挥发是角落白Mura产生的主因。通过优化贴合时的真空抽气时间、真空保持时间、液晶滴下点数、液晶与边框胶距离等一系列的改善措施,使产品的角落白Mura发生率从16.59%降到了0.001%以下管控范围。实验有效解决了角落白Mura异常并为今后类似Mura类不良的对策提供了思路,同时提升了公司的效益和竞争力。     

FFT—LCD残像原理与分析（基础篇）

残像是TFT-LCD的一种显示特性,主要表现为当液晶显示器长时间显示同一个画面,在把画面切换到下一个画面时,原先的画面会残留在下一个画面中。文章基础篇系统地介绍TFT-LCD残像的分类、发生机理、试验条件、判定方法和对策方向,为改善相应的显示残像问题提供较佳的处理方案。     

TFT-LCD残像原理与分析-加强篇一

残像是TFT-LCD的一种显示特性,主要表现为当液晶显示器长时间显示同一个画面,在把画面切换到下一个画面时,原先的画面会残留在下一个画面中。本文的加强篇一从设计面的Feedthrough DC成分、非对称像素结构、TFT相关的特别是Leak系导致的残像,具体分析了其原因和改善方法。     

TFT—LCD显示特性分析

本文分析 TFT-LCD 显示单元间耦合电容、液晶材料介电各向异性对象素电极电压的影响,在此基础上讨论其显示特性。分析了引起 TFT-LCD 显示残象、闪烁以及影响灰度的主要原因,并介绍改善图象质量的几种方法。     

TFT-LCD控制电路IP设计

本文意在设计能与广泛TFT-LCD显示器进行无缝连接的接口控制电路IP。论文首先论述了TFT-LCD彩屏显示驱动知识和控制原理，接着讨论了控制电路和电源电路的设计思路，最后提出了如何通过FPGA进行原型验证和调试。这块控制电路IP可植入各种多媒体处理器的SOC中。     

TFT-LCD制程中Sand Mura的失效模式分析及改善研究

在薄膜晶体管液晶显示器件(TFT-LCD)的制作过程中,Mura是一种常见的不良现象,它可以直接影响到产品的画面品质。本文结合生产工艺的实际情况,采用宏观微观检查设备Macro/Micro(M/M)、扫描电子显微镜(SEM)、聚焦离子束测试仪(FIB)等设备进行检测分析,研究了产品开发过程中出现的Sand Mura问题。实验结果表明,Sand Mura发生的主要原因是像素电极ITO在刻蚀过程中由于过刻发生断裂,导致在通电时该处液晶分子偏转发生异常,进而阻挡了光的透过而形成暗点;通过变更ITO薄膜的厚度及刻蚀时间等一系列措施,防止了像素电极在PVX过孔处因过刻引起的断裂,不良发生率降至0.3%,产品质量得到了很大的提高。此外,过孔设计优化方案有助于新产品开发阶段避免该不良的发生,为以后相关问题的研究奠定了一些理论基础。     

TFT-LCD残像原理与分析-加强篇二

残像是TFT-LCD的一种显示特性,主要表现为当液晶显示器长时间显示同一个画面,在把画面切换到下一个画面时,原先的画面会残留在下一个画面中。本文的加强篇二从材料面的彩膜、液晶、配向膜及工艺面的配向膜工程、ODF工程导致的残像具体分析了其原因和改善方法。     

大屏幕TFT-LCD内部接口技术研究

内部接口技术是大屏幕TFT-LCD驱动关键技术之一,它不仅决定着整个驱动系统的硬件结构,而且其数据传输可靠性更是直接关系到显示效果的优劣。本文主要从电学参数、体系结构和传输协议3个方面介绍了以PPDS为代表的新一代内部接口技术,并与当前主流技术RSDS进行对比,分析其优缺点。