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抛光是光学加工中获得超精密表面的主要手段.为明确抛光垫特征对平面光学元件抛光面形的影响规律,分析了抛光垫与工件之间的界面接触形式,并建立接触力学分析模型,运用有限元方法分析了工件与抛光垫之间的接触压力分布情况,获得了抛光垫厚度及表面球半径等特征对抛光压力分布的影响规律.基于理论分析结果,提出了一种新的平面抛光面形控制技术.在实验中对一块尺寸为430 mm×430 mm×60 mm的熔石英元件进行了加工,通过将抛光垫表面修整为微凸面,同时对抛光转速比进行精确控制,实现了工件面形精度的快速收敛. 相似文献
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分析了在线电解修整(ELID)磨削和磁流变光整加工(MRF)的加工原理与特点,充分结合这2种技术的优点对单晶硅反射镜进行纳米级精度的组合加工.首先进行ELID高效率磨削,在线检测工件表面误差后进行补偿磨削,使反射镜面加工成形,并获得较好的形状精度和表面质量.然后,利用磁流变技术进行确定性的光整加工,以减少反射镜的亚表面损伤,使加工表面的形状精度与表面粗糙度得到很大提高与改善.利用该组合工艺,对硅反射镜进行了系列的加工实验,高效率地得到了低于1nmRMS的表面粗糙度和69nmp-V形状精度的工件表面. 相似文献