降低浮法玻璃下表面渗锡量的体会

浮法玻璃在锡槽复杂的气液固多相系统中成形,不可避免受到锡的污染,若玻璃下表面渗锡超标,在热处理会时因晶格膨胀而产生钢化虹彩,本文分析、列举了一些针对性措施,以减少锡液污染和锡离子的扩散,从而降低了玻璃下表渗锡量。     

浮法玻璃渗锡量检测方法研究进展

随着基板玻璃向轻薄化发展,对其渗锡量提出了更严格的要求。基于分光光度法、X射线荧光分析法等方法在浮法玻璃渗锡量检测上的应用,分析了通过检测透过率、玻璃钢化彩虹快速定性分析浮法玻璃表面渗锡量的方法。归纳分析其优缺点,以期为后续建立薄玻璃渗锡量的检测方法提供帮助。     

平板玻璃表面渗锡量测试方法的研究

浮法玻璃表面渗锡含量的高低,直接影响玻璃的再加工质量,本文通过对浮法玻璃表面渗锡量测试技术的分析、研究,确定了渗锡量的两种测试方法。     

浮法玻璃渗锡问题分析及相应措施

浮法玻璃渗锡问题严重限制了我国浮法玻璃在玻璃深加工领域中的应用和发展。通过分析热加工虹彩现象和离子强化玻璃翘曲现象及浮法生产工艺中渗锡影响因素和测试方法,提出了监控锡槽内气体和锡槽密封性的必要性以及准确及时有效测试渗锡量和渗锡分布的重要性。     

浮法玻璃下表面渗锡分布特点成因及渗锡量测量探讨

我国浮法玻璃的外观质量已与国外先进水平相接近,浮法玻璃下表面渗锡引起的深加工玻璃产品的“虹彩”缺陷是我国几家主要浮法玻璃生产厂产品的最突出的缺陷。本文简要介绍了运用SEM、EDS和我院自行研制的FS-100型渗锡测定仪等手段对国内外浮法玻璃样品的渗锡分布分析、渗锡量的测试及结果,讨论了由于各浮法玻璃厂生产工艺上的差别引起的渗锡分布不同以及某些工况条件对渗锡量的影响。     

浮法玻璃表面渗锡与渗锡量测定

以锡槽中的化学反应为基础,介绍了浮法玻璃表面渗锡的原因,分析了浮法玻璃表面渗锡层中卫星峰的形成机理,讨论了影响浮法玻璃表面渗锡量的主要因素及渗锡量的分布特征,比较了几种渗锡量测定方法的准确度.     

浮法硼硅酸盐玻璃下表面渗锡的研究

根据实验样品的成分,制定一定的浮法成型的温度制度,采用自制小型石墨锡槽,模拟硼硅酸盐玻璃的浮法成型过程,用电子探针结合能谱仪,测试浮法硼硅酸盐玻璃在1250~650℃温度范围内不同温度段下表面渗锡的分布情况,研究硼硅酸盐玻璃不同于传统钠钙硅浮法玻璃的渗锡特点。研究结果表明,在特定的浮法工艺制度下,硼硅酸盐玻璃渗锡的深度达到40μm左右,并且高温段锡离子以纵向深度扩散为主,低温下锡离子主要在玻璃的近表面富集。在浮法成型的过程中,渗锡的分布曲线上会出现卫星峰,但是最终在出锡槽的温度下渗锡曲线是单调递减的。     

浮法玻璃表面渗锡的研究

浮法玻璃表面的渗锡量是表征玻璃质量的一项重要指标,本文研究对比了国内外有代表性的浮法玻璃表面渗锡情况,测定了玻璃带横向的渗锡分布曲线,以及温度和槽压与渗锡量的关系,研究了SO_2处理对降低玻璃表面渗锡量的作用,提出了减少玻璃表面渗锡量的途径与措施。     

浮法玻璃渗锡量的测量方法

渗锡量是浮法玻璃渗锡过程的一个重要控制参数,它影响到玻璃的散射和透过率,特别对热处理玻璃的透过率,它与浮法玻璃在加热前后的透过率的比值有直接关系。为此提出测量浮法玻璃在加热与不加热时的透过率比值来计算渗锡量的测量方法。实验结果表明:方法灵敏度随加热温度的增加而增加,加热温度为770℃时,方法灵敏度为0 05g/m2,测量结果的误差为±2 2%。     

提高槽压降低渗锡量

锡槽内气氛压力影响到玻璃下表面的渗锡量，而后者又影响到浮法玻璃的深加工性能－钢化白霜。通过对比试验，初步摸索出槽压与渗锡量的特殊关系，并提出影响槽压的几个因素。     

浮法玻璃下表面渗锡的X射线光电子谱

利用X射线光电子谱仪（X-ray photoelectron spectroscopy,XPS）对国内外浮法玻璃样品（样品A和样品B）下表面渗锡情况进行了对比分析。结果表明：在浮法玻璃下表面900nm范围内,2种样品中的锡离子在渗锡面均以Sn^0,Sn^2＋,Sn^4＋ 3种价态存在,Sn^2＋在整个渗锡量中均占最大比例。在近表面区,渗锡均以Sn^2＋态为主,Sn^0和Sn^2＋含量之和均占到总渗锡量的90％以上,且样品A渗锡量远远高于样品B的渗锡量。样品A的不同锡离子相对含量沿深度变化较大,而样品B的不同锡离子相对含量沿深度变化小于1％。结合扫描电子显微镜形貌观察可知：钢化虹彩现象是由钢化处理中,Sn^2＋转变为Sn^4＋的氧化反应导致的体积膨胀引起的。在该反应过程中单胞体积增大3％。综合XPS与钢化虹彩实验结果可知,XPS分析可以有效而精确地提供浮法玻璃中锡的价态以及含量信息。     

锡污染的防止与清除

从生产的机理和如何控制等方面对沾锡、光畸变、虹彩三种缺陷进行了分析和探讨,着重阐述了对锡槽锡液中含氧量的控制方法和措施,在提高浮法玻璃质量,防止浮法玻璃污染,减少玻璃表面缺陷等方面采取切实可靠的技术措施.     

锡槽中的化学反应及其对浮法玻璃质量的影响

在锡槽内,玻璃液、锡液和保护气体构成一个多相体系,各相界面都进行着复杂的氧化、还原反应.在浮法工艺条件下,钠钙硅玻璃熔体和纯锡液接触时,会产生多相反应.溶解在锡液中的钠和氧在锡液/耐火材料界面处析出Na2O,进而与槽底砖反应而使槽底砖破坏.氧化锡、氧化亚锡、硫化亚锡等锡的化合物是对玻璃质量产生影响的几种主要化合物.浮法玻璃所特有的几种缺陷-"钢化彩虹"、"沾锡"、"斑点"和"小波纹"都是锡及锡化合物参与反应的结果.     

降温速率对浮法硼硅酸盐玻璃下表面渗锡的影响

研究锡槽中降温速率对浮法硼硅酸盐玻璃下表面渗锡的影响.采用不同降温速率制备浮法硼硅酸盐玻璃,用电子探针测试浮法硼硅酸盐玻璃在1 250～650℃温度范围内不同降温速率情况下表面渗锡分布情况.研究结果表明:浮法成形过程中硼硅酸盐玻璃渗锡的深度可达到40.0μm左右,并且在1 050℃以上的高温段锡离子以深度方向扩散为主,在1 050℃以下的低温阶段锡离子主要在玻璃的近表面富集.随着时间的延长浮法硼硅酸盐玻璃近表面的渗锡量增加,而深度大于7.0μm以上的内部的渗锡量不会由于时间的延长而累加,只与温度有关.在浮法成形过程中渗锡曲线会在1 050℃左右,距玻璃表面15.0μm处出现卫星峰,但最终在低温时该卫星峰会由于逆扩散而消失.     

玻璃窑炉电极砖运行管理

板状氧化锡电极砖会随着窑炉运行出现不同程度的侵蚀,造成窑炉工艺偏离,影响生产的稳定性。通过检测OLED及LTPS平板显示基板玻璃窑炉半成品玻璃中氧化锡质量百分比的变化,确定氧化锡板状电极砖推进量,优化推进时间及推进量,进而稳定窑炉工艺状态及窑内液流。     

Control of the near-surface OH concentration of float glass by anodic proton injection

Controlling the OH concentration near the float glass surface was investigated via anodic proton injection into a glass melt under conditions simulating the float glass process. A DC voltage of 1-4 V was applied to the glass at 1000°C between the molten tin as an anode and graphite placed on the glass as a cathode. Although the OH concentration of the glass near the glass/tin interface was controlled to the same level as that in the interior of the glass when a DC voltage of 3 V was applied, the decrease in Na concentration, one order of magnitude greater than the amount of injected protons, was observed around the glass/tin interface. Therefore, the OH concentration by dehydration cannot be restored using anodic proton injection without substantial composition change. Tin was observed to be electrochemically injected into the glass when a DC voltage of >4 V was applied, and majority of the injected protons were released from the glass under the experimental conditions. Finally, the conditions that achieved an OH concentration near the glass/tin interface matching with that in the interior of the glass without substantial composition change around the anode are discussed and proposed.     

溶胶-凝胶法制备SnO2：Sb光学薄膜

以无机金属盐氯化亚锡（SnCl2·2H2O）和三氯化锑（SbCl3）为原料,用溶胶-凝胶法制备了掺锑与不掺锑的二氧化锡低辐射镀膜玻璃。研究了掺杂量、涂覆层数、热处理制度对制得的镀膜玻璃透光率的影响规律,并利用XRD测定了薄膜的微结构。     

从废ITO玻璃回收铟及制备高品质玻璃

为回收废弃LCD面板中的金属铟及高品质玻璃,提出了一种铟锡氧化物(ITO)玻璃资源化回收方法,用HF溶液浸蚀ITO玻璃碎片得富铟溶液和经表面除杂的玻璃基板,富铟溶液经蒸发、浓缩得富铟物,将富铟物溶解并经铝置换、熔炼、提纯得到粗铟,玻璃基板作为配合料进行再生制样. 结果表明,ITO玻璃破碎会造成铟流失,8 mol/L HF在3 h内即可有效回收ITO中的铟,制得纯度达92.3%的粗铟,回收率达89.2%. 再生玻璃试样成型温度为1462℃,热膨胀系数最大为3.2′10-6/℃,维氏硬度平均值为584.9,密度为2.43097 g/cm3,可见光透射比为75.2,部分性能有所下降,可降低配合料用量,以实现ITO玻璃基板的资源化回收.