热退火对氧化镓薄膜性质的影响

采用真空蒸发技术在蓝宝石衬底上制备了氧化镓透明半导体薄膜;研究了热退火对氧化镓薄膜结构、电学和光学等特性的影响.在退火前,氧化镓薄膜是一种无定型的、高阻薄膜.经过退火后转变成多晶薄膜,但薄膜的电学特性变化较小.随着退火温度的升高,氧化镓薄膜逐渐形成了(401)择优取向,薄膜的光学带隙也随之变大,在750℃退火时得到了最大的光学带隙为4.79eV.     

退火温度对ZnO薄膜结构及光学性能影响

以二水醋酸锌为原料,使用溶胶凝胶法在玻璃基体上旋涂氧化锌薄膜.用X射线衍射、室温光致发光、可见分光光度计等方法对薄膜的结构、光学特性进行了研究,同时结合AFM和分光光度计,讨论了不同退火温度对氧化锌薄膜结构,透光率的影响.结果表明随着退火温度的升高,ZnO薄膜衍射峰增强,其中在500 ℃时,(002)峰最强,即沿C轴的取向性最好,晶粒尺寸依次增大,其中500-550 ℃时,晶粒尺寸比较小且分布均匀,平均粒径40 nm,表面粗糙度最小,小于8 nm;退火温度为550 ℃时,ZnO薄膜的透光率最高,达96%以上.并在380 nm附近有很强的紫外发射峰.     

退火条件对ZnO薄膜结构和光学性能的影响

采用溶胶-凝胶法在单晶硅Si(100)衬底上制备了ZnO薄膜,研究了退火温度对ZnO结构和光学性能的影响。实验发现,退火可以明显地改善ZnO薄膜的结构和光学性能。随着退火温度的升高,ZnO薄膜的晶粒增大,同时在室温下观察到明显的紫外发光现象,其紫外PL谱峰值变强,并有红移现象。     

退火温度对Al掺杂ZnO薄膜结构和性能的影响

采用直流磁控溅射技术,在玻璃衬底上制备了ZnO:Al(ZAO)薄膜样品。其他参数不变,在不同的温度下对样品进行了退火处理,研究了薄膜的结构性质、电学和光学性质随退火温度的变化关系。实验结果表明:在退火温度为200℃时,ZAO薄膜具有较优的光电性能,其电阻率为9.62×10-5.cm,可见光区平均透射率为89.2%。     

退火温度对MoS2 薄膜光学性能的影响

在大气条件下采用激光剥离技术制备了MoS₂ 薄膜, 研究了MoS₂ 薄膜在不同退火温度条件下的形貌结构及其光学性能。实验研究发现, 退火温度对MoS₂ 薄膜表面的作用显著, 并且退火温度的不同会使得MoS₂ 薄膜XRD 图谱中衍射峰的位置产生明显的偏移。随着退火温度的升高, 薄膜生长质量及其吸光度都得到明显的提升。进一步对比分析了不同退火温度下MoS₂ 薄膜光学性能的差异, 结果显示退火温度为850 ℃ 时MoS₂ 薄膜的光学性能最佳。     

化学成分及退火温度对连续退火再结晶织构的影响

在MULTIPAS平台上模拟了不同化学成分的IF钢的两种连续退火生产方案。通过X衍射仪和全自动拉伸试验机对样品进行了检测,结合织构分布及力学性能分析了化学成分及退火温度等对IF钢再结晶织构的影响。研究发现当退火温度大于800℃时,退火温度对〈111〉//ND织构强度无显著影响,得到了C、N、Ti元素含量与样品织构的关系。     

银纳米颗粒-玻璃复合薄膜的三阶非线性光学性能

采用离子交换结合热处理方法,制备出银纳米颗粒-玻璃复合薄膜.利用光学吸收谱和Z-扫描技术研究了该复合薄膜的线性和三阶非线性光学性能.研究结果表明,延长热处理时间有利于提高银纳米颗粒尺寸和银纳米颗粒在玻璃中的体积分数,导致复合薄膜的三阶非线性系数增大.当熔盐中AgNO3/NaNO3的质量分数由0.1%提高到0.5%时,相同条件热处理后玻璃中银纳米颗粒的尺寸和体积分数有较大增长,复合薄膜的三阶非线性系数增大;进一步提高熔盐中AgNO3/NaNO3的质量分数,热处理后玻璃中银纳米颗粒的尺寸反而降低,但银纳米颗粒在玻璃中的体积分数增大,材料的三阶非线性系数不增反降.     

退火温度对Nd4.2Dy0.8Pr4Fe85Nb1B5纳米复合材料磁性能的影响

用熔体快淬和晶化处理的方法制备了Nd4.2Dy0.8Pr4Fe85 Nb1B5纳米复合材料,研究了退火温度对材料磁性能的影响.结果表明,经不同退火温度进行退火处理得到的Nd4.2 Dy0.8Pr4Fe85Nb1B5纳米复合材料的磁性能不同,在580℃下退火处理3 min得到的样品具有最佳磁性能,即Hci=6787.0 ...     

CuInS2纳米晶的制备及三阶非线性光学性质的研究

以无水醋酸铜(Cu(AC)2)为铜源,氯化铟(InCl3)为铟源,正十二硫醇(DDT)为硫源,1-十八稀(ODE)为溶剂在240℃条件下反应3h,合成了金字塔形的CuInS2纳米晶。用X射线粉末衍射(XRD),X射线光电子能谱(XPS),透射电子显微镜(TEM),能量分散光谱(EDS),Z-Scan技术对粉体的结构、形貌、相组成、三阶非线性光学特性进行表征。结果表明:通过一锅法可以合成单分散颗粒尺寸为5-7nm的金字塔形CuInS2纳米晶;分散在正己烷中的CuInS2纳米晶的三阶光学非线性折射率γ,三阶光学非线性吸收系数β以及三阶光学非线性极化率χ(3)分别为3.444×10-17m2/W,4.526×10-7m/W和1.390×10-8esu。     

退火对Ti离子注入LiNbO3光波导的影响

以高质量的ＬｉＮｂＯ３晶体为衬底，采用离子注入技术制备出低损耗的ＬｉＮｂＯ３光波导。测试了其背散射谱，并对相应的结果做了分析，为解决光波导的横向扩散问题提供了一条可行途径。     

有机三阶非线性光学材料的研究进展

有机三阶非线性光学材料因其在光通信、光信息存储、光计算及全光开关等领域的潜在应用而引起广泛的重视。简要介绍了三阶非线性光学效应的基本理论和研究方法以及影响因素．综合评述了有机三阶非线性光学材料的研究现状与进展,展望了有机三阶非线性光学材料的研究趋势．     

二茂铁系金属有机三阶非线性光学材料的合成

金属有机三阶非线性光学材料是功能材料研究的热点.以二茂铁,2,3-二氯-1,4-萘醌,四氯苯醌,苯甲醛,对苯二甲醛等为原料,分子设计并合成了五个具有大π共轭体系,含二茂铁电子供体,苯醌、萘醌等电子受体的金属有机三阶非线性光学材料化合物,分析合成反应过程并优化了条件,合成化合物Ⅰ和Ⅱ过程中使用二氯甲烷代替甲醇可显著提高收率,在进行Wittig反应时钠氢要明显优于叔丁醇钾.所有化合物均由核磁共振、红外和紫外等表征了结构,收率为41%~83%,方法简单、可行.     

Antibacterial and corrosive properties of copper implanted austenitic stainless steel

Copper ions were implanted into austenitic stainless steel (SS) by metal vapor vacuum arc with a energy of 100 keV and an ions dose range of (0.5-8.0)×1017 cm-2. The Cu-implanted SS was annealed in an Ar atmosphere furnace. Glancing X-ray diffrac-tion (GXRD), transmission electron microscopy (TEM) and Auger electron spectroscopy (AES) were used to reveal the phase compositions, microstructures, and concentration profiles of copper ions in the implanted layer. The results show that the antibacterial property...     

再结晶退火温度对无取向硅钢织构和磁性能的影响

对冷轧及退火后无取向硅钢织构及磁性能的变化进行研究。借助电子背散射衍射（EBSD）技术测量退火试样的极图,计算取向分布函数（ODF）和织构组分的体积分数,并利用TYU-2000M磁性能测量仪测量试样的磁性能。结果表明,810、840、880℃下退火3min后,试样的再结晶均充分完成,且晶粒随着退火温度的升高而长大;退火后,试样中首先显现{111}〈112）织构组分,且随退火温度的升高呈增强趋势;退火温度继续升高时,{111}〈110〉织构组分增强,一次再结晶后材料中出现{111}面织构,导致试样的磁感应强度B50降低,同时由于晶粒的长大使得试样的铁损P15减小。     

Effects of annealing temperature on the microstructure and properties of the 25Mn-3Si-3Al TWIP steel

Microstructures and mechanical properties of the 25Mn twinning induced plasticity (TWIP) steel at different annealing temperatures were investigated. The results indicated that when the annealing temperature was 1000°C,the 25Mn steel showed ex-cellent comprehensive mechanical properties,the tensile strength was about 640 MPa,the yield strength was higher than 255 MPa,and the elongation was above 82%. The microstructure was analyzed by optical microscopy (OM),X-ray diffraction (XRD),and transmission electron...     

温度控制Fe基合金带纳米微晶生长技术的研究

研究了Fe73.0CuNb1.5V2Si13.5B9非晶带经不同温度（480℃、510℃、540℃、570℃）退火而长成的纳米微晶薄带的软磁特性,发现540℃是其最佳退火温度,经该温度退火可获得最高的巨磁阻抗效应。     

1,3-对称取代的克酮酸衍生物光学性能研究

通过实验来研究1,3-对称取代的克酮酸衍生物的三阶非线性光学特性,计算出其分子超极化率,探讨了产生三阶非线性光学性能的原因.确定该衍生物在一定条件下具有较大的三阶非线性光学性质和较快的光学响应.     

Effects of Annealing Temperature on the Electrical Conductivity and Mechanical Property of Cu-Te Alloys

The effects of annealing temperatre on the electrical conducitivity and mechanical property of Cu-Te alloys were studied via an AG-10TA electronic universal machine, an SB2230 digital electric bridge, SEM, EDS and XPS. The results show the electrical conductivity increases while the tensile strength fluctuates when the annealing temperature becomes higher because the recrystallization occurs during the annealing process, leading to the density of dislocation decreasing, grain size growing up, but the second phase precipitating sufficiently and simultaneously.     

光开关在分布式光纤温度传感系统的应用研究

分析了决定分布式光纤温度传感器系统传感距离的因素,提出了使用光开关扩展系统的传感长度。设计了多模1×2棱镜光开关的单片机驱动接口,计算机软件通过RS232串行接口发出指令控制光开关的切换。测试结果表明,嵌入了1×2光开关可使系统传感光纤长度延伸为原来的2倍。     

等离子体基离子注入过程中试样温度的预测

建立了等离子体基离子注入过程中试样温度预测的理论模型,应用这个模型进行了一系列数学模拟.以纯铝为例测定了在不同的注入条件下试样的温度变化,得到的实验结果与数学模拟相符合.试验表明,低功率注入时,系统达到热平衡的时间较长,而且热平衡温度低;随功率的上升,试样升温加快;注入功率密度高时,试样容易在注入过程中达到平衡温度,而且其平衡温度受注入功率的影响较小;试样的尺寸也是影响试样温度平衡的一个主要因素.在此基础上提出了在等离子体基离子注入过程中控制试样温度的方法.