制备工艺参数对TiNx/Ag/TiNx低辐射膜性能的影响

采用射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积了TiNx/Ag/TiNx低辐射膜,研究了制备工艺参数对低辐射膜光学性能的影响以及低辐射膜的耐腐蚀性能.结果表明,TiNx薄膜可对膜系起到很好的保护作用,当膜系的TiNx保护层厚度为32nm、内层TiNx膜厚为16nm(氮气流量为55sccm)、Ag层厚度为16nm时,制备的低辐射膜系具有优良的透过率、低辐射性能和耐腐蚀性能.     

脉冲激光沉积法制备抗近红外/紫外金属氧化物纳米薄膜

用准分子脉冲激光沉积法(PLD)制备了一系列的锌、铁、钛、银、铝、硅、铜等的氧化物单层和多层薄膜,用AFM研究了薄膜的组成和结构;经紫外和红外光谱发现抗紫外性能最好的是氧化锌,在190～380nm区间,其吸收率可达90%以上.抗近红外性能最好的是氧化银薄膜,其次依次是氧化铁、氧化锌、氧化钛、氧化铝、氧化铜;多层薄膜中,含有氧化锌层的抗紫外效果最好;含有氧化银层的抗近红外性能效果最好.如氧化铁/氧化锌/氧化银薄膜,在190～380nm区间,其吸收率接近100%,近红外(780～2500nm)吸收率在70%以上,最高可达90%.在可见光区其透过率在80%左右.     

电子束蒸发沉积重掺硅薄膜及其在低辐射玻璃上的应用

采用电子束蒸发法以普通玻璃为基板制备了重掺硅薄膜,通过SEM、EDS、透射光谱对其形貌、成分以及透射率进行了测试表征.进一步采用铝诱导低温晶化法在玻璃基板上沉积Al薄膜,对重掺硅薄膜进行铝诱导晶化.XRD测试、电学性能测试以及可见-红外光谱透射率测试结果表明,硅薄膜在温度为300℃以上出现了Si(111)的衍射峰,薄膜的导电性得到了提高,且具有较强的红外反射能力,表明在低辐射玻璃上具有一定的应用价值.同时采用电子束蒸发法制备了结构为glass/Si/Ag/Si的Ag基低辐射玻璃,通过光学性质测试和腐蚀情况观察结果表明硅薄膜具有保护低辐射薄膜的作用.     

热原子层沉积技术制备的TiAlC薄膜的性能

为了解以热原子层沉积技术制备的TiAlC薄膜的特性,在不同基底温度下,以硅和二氧化硅为基底材料制备了TiAlC薄膜;采用椭偏仪、分光光度计、X射线光电子能谱、原子力显微镜、X射线衍射仪对薄膜的性能进行了测试。结果表明:随着基底温度的升高,TiAlC薄膜平均透射率逐渐降低,吸收边产生红移,光学带隙由2.56eV降低到0.61 eV;薄膜的沉积速率由0.09 nm/cycle升高到0.20 nm/cycle,表面粗糙度由1.82 nm降低到0.49 nm;不同基底温度下生长的薄膜均为无定型结构;膜层中的氧源于空气的自然氧化,且膜层的氧化程度与膜层中TiC的含量及膜层的致密性有关;TiAlC薄膜的形成主要源于高温条件下TiC的形成及三甲基铝的分解。     

玻璃基底TiO2纳米管阵列的制备及其光电性能研究

提高二氧化钛纳米管阵列电极的机械稳定性,改善电极的透光性能,有助于提高其光电催化性能,拓展电极的应用范围.通过室温射频溅射方法在玻璃基底上溅射一层金属钛膜,然后在含0.5%HF的电解液,10V阳极氧化电压下进行阳极氧化,得到玻璃基TiO2纳米管阵列电极.扫描电子显微镜和X射线衍射分析表明,玻璃基表面形成了孔径为20～30nm,管长约130nm排列有序的锐钛矿型TiO2纳米管阵列.光电性能测试表明,玻璃基TiO2纳米管阵列与金属钛基TiO2纳米管阵列表现出相似的光电催化性能,明显优于磁控溅射制备的TiO2薄膜.     

磁控溅射法镀制红外低辐射膜的研究进展

本文介绍了采用磁控溅射法在玻璃和柔性衬底上镀制红外低辐射薄膜的研究进展.根据国内外的研究现状,对薄膜的节能原理、制备方法、膜层结构及其光学、热学性能进行了综述,较详细地论述了目前低辐射薄膜研究中较为突出的金属银氧化和介质层增透的问题.     

柱状晶形貌TiO2膜厚对FTO/TiO2镀膜玻璃光催化活性影响

采用溶胶凝胶法,在FTO(SnO2:F)低辐射镀膜玻璃衬底上制备了柱状晶体结构的TiO2薄膜,获得双层结构FTO/TiO2镀膜玻璃样品.研究了TiO2薄膜厚度对FTO/TiO2镀膜玻璃样品的光催化活性、低辐射性能以及透光性能的影响.结果表明,FTO/TiO2镀膜玻璃样品光催化活性随着TiO2薄膜厚度的增加先升高后下降,在TiO2薄膜厚度为300 nm时光催化活性最佳;低辐射性能随着TiO2薄膜厚度的增加而下降,但TiO2薄膜厚度为300 nm时仍然具备一定的低辐射性能;透光性能与TiO2薄膜膜厚的关系不大,可见光透射比保持在72%左右;表面平均粗糙度约为1 nm,表面光滑,不易沾染油污灰尘.该镀膜玻璃在保证低辐射建筑节能和透光的前提下,兼具光催化自清洁功能,具有很好的应用前景.     

Al/Al2O3多层膜的表面和界面的分析研究

用热蒸发沉积和自然氧化及加热法制备纳米量级的Al/Al2O3薄膜和多层膜.用X射线光电子谱仪(XPS)和透射电镜(TEM)对样品进行检测.XPS实验说明自然氧化的Al2O3膜层厚在2～5 nm.Al/Al2O3薄膜及多层膜的O与Al的原子浓度比为1.43～1.85.Ar离子刻蚀的XPS实验结果(刻蚀速率为0.09 nm/s)说明2个对层的Al/Al2O3多层膜截面样品具有周期性结构.TEM观察到了5个对层的Al/Al2O3多层膜的层状态结构,其周期为4 nm.由此说明,热蒸发及自然氧化法是制备纳米量级的Al/Al2O3多层膜的有效方法.     

膜厚对SnO2∶Sb薄膜红外光学性能的影响

采用溶胶-凝胶法在玻璃基底上制备了Sb掺杂SnO_2(SnO_2∶Sb)薄膜。研究了膜厚对SnO_2∶Sb薄膜红外光学性能的影响,利用X射线衍射仪、分光光度计、霍尔效应测试系统对薄膜样品进行表征和测试。结果表明:SnO_2∶Sb薄膜为四方金红石型结构;当膜厚为1220nm时,薄层电阻最小,为157Ω/□;在红外波段,透射率随膜厚的增加显著下降,当膜厚为890nm时,在波长2000nm处,透射率接近于0,膜厚为1220nm时,在波长1750nm处,透射率为0。     

车载主动式红外夜视系统中带通滤光膜工艺研究

在车载主动式红外夜视系统中,为满足光学系统对滤光膜的要求,提出一种800～1000 nm带通滤光膜,以实现夜间大视觉范围、降低背景中杂散光干扰以及提高成像质量的要求。针对车载主动式红外夜视系统中带通滤光膜的参数要求,以薄膜材料应用技术为基础,优化、设计带通滤光膜系结构。采用OTFC-1300镀膜机制备薄膜,建立评价函数,通过牛顿迭代法优化薄膜结构,调节敏感膜层厚度,优化工艺,解决了实际镀制的薄膜通带中心区域透过率低,以及光谱曲线边缘起伏震荡大的问题,最终制作了光学性能好的滤光膜。测试表明:在800～1000 nm波段平均透过率大于99%,在380～780 nm波段平均透过率小于3%,在1064～1270 nm波段平均透过率小于2%,该滤光膜可以满足车载主动式红外夜视系统环境使用要求。     

钛酸锶钡薄膜掺杂改性研究进展

钛酸锶钡(BaxSr1-xTiO3,BST)薄膜具有优良的铁电、介电性能,在可调谐微波器件、动态随机存储器、红外探测器阵列等方面具有良好的应用前景.综述了近年来BST薄膜掺杂改性研究所取得的进展,特别是对晶格掺杂和晶界掺杂进行了较详细的评述,并对目前BST薄膜掺杂研究的几个前沿问题进行了详细的讨论.     

Designed Patterning of Mesoporous Metal Films Based on Electrochemical Micelle Assembly Combined with Lithographical Techniques

Mesoporous noble metals and their patterning techniques for obtaining unique patterned structures are highly attractive for electrocatalysis, photocatalysis, and optoelectronics device applications owing to their expedient properties such as high level of exposed active locations, cascade electrocatalytic sites, and large surface area. However, patterning techniques for mesoporous substrates are still limited to metal oxide and silica films, although there is growing demand for developing techniques related to patterning mesoporous metals. In this study, the first demonstration of mesoporous metal films on patterned gold (Au) substrates, prefabricated using photolithographic techniques, is reported. First, different growth rates of mesoporous Au metal films on patterned Au substrates are demonstrated by varying deposition times and voltages. In addition, mesoporous Au films are also fabricated on various patterns of Au substrates including stripe and mesh lines. An alternative fabrication method using a photoresist insulating mask also yields growth of mesoporous Au within the patterning. Moreover, patterned mesoporous films of palladium (Pd) and palladium–copper alloy (PdCu) are demonstrated on the same types of substrates to show versatility of this method. Patterned mesoporous Au films (PMGFs) show higher electrochemically active surface area (ECSA) and higher sensitivity toward glucose oxidation than nonpatterned mesoporous Au films (NMGF).     

Structural aspects of Langmuir-Blodgett and cast films of zinc phthalocyanine and zinc hexadecafluorophthalocyanine

The processing of macrocyclic phthalocyanines (Pc) in the form of thin, nanostructured films has been usually carried out via evaporation techniques, owing to the low solubility exhibited by these compounds. The fabrication of Pc ultrathin films via the Langmuir-Blodgett technique may be advantageous from a technological point of view, since parameters such as film architecture and organization can be achieved without post-thermal treatments. In this study, a parent zinc phthalocyanine (ZnPc) and its fluorinated derivative (F₁₆ZnPc) were synthesized and manipulated in the form of LB films. The morphological and structural features of ZnPc and F₁₆ZnPc Langmuir-Blodgett films containing up to 31 layers were investigated using Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR), micro-Raman spectroscopy and X-ray diffraction analyses and were compared to ZnPc and F₁₆ZnPc cast films. The interplanar distance obtained by X-ray specular reflection decreases from 12.64 Å for ZnPc to 12.16 Å for F₁₆ZnPc. FTIR spectra indicated absence of order in the LB films from ZnPc and F₁₆ZnPc, at least in the direction perpendicular to the substrate surface. Therefore, the order observed in the X-ray diffractograms means that the molecules might be organized in crystallites that are randomly oriented in the film.     

磁光盘的介质膜材料AlN,AlSiN薄膜的电子显微分析

本文研究了磁光盘介质薄膜－ＡｌＮ和ＡｌＳｉＮ薄膜的电子显微结构，通过透射电镜分析了ＡｌＮ薄膜的多晶结构和ｃ轴垂直取向；通过Ｘ射线衍射分析、透射电镜分析和Ｘ射线光电子能谱分析，确定了ＡｌＳｉＮ薄膜并不是多晶ＡｌＮ和ＳｉＮ薄膜的简单组合，而是形成了稳定的非晶特征结构。且ＡｌＳｉＮ薄膜由于其非晶结构而比ＡｌＮ薄膜的磁光克尔效应增强效果更优越。     

新型红外增透膜和保护膜EI

介绍了类金刚石碳（ＤＬＣ）膜和碳化锗（Ｇｅ＿ｘＣ＿（１－ｘ））簿膜的沉积方法、特性和在红外光学镀膜中的应用进展。     

SrTiO3（110）上水热法外延生长PbTiO3薄膜

利用低温水热合成工艺，在一定浓度皆Ｐｂ（ＮＯ）３，ＴｉＣｌｒ的混合强碱性水溶液中，和在（１２０℃，０．２５ＭＰａ）的水热反应条件下，首次成功地在ＳｒＴｅＯ３单昌衬底上生长出具有面积构的ＰｂＴｉＯ３外延薄膜。     

聚酰亚胺的Langmiur—Blodgett膜

本文介绍了制备聚酰亚胺ＬＢ膜的“前聚物法”以及通过引入不同结构基团或各种后处理以得到不同性能的聚酰亚胺ＬＢ膜和它们各种可能的应用。     

ZrO_2薄膜的相结构与相稳定性

采用纯 Zr、添 Y_2O_3的 ZrO_2和添 MgO 的 ZrO_2为靶材,以射频溅射方法生成 ZrO_2薄膜。研究了这三个系列薄膜的物相结构,以及退火和研磨对物相结构的影响。研究表明,ZrO_2薄膜为单斜相,Y-ZrO_2和 Mg-ZrO_2薄膜为单斜相和正方相,且以正方相为主。它们的退火规律也各不相同,这与稳定剂的加入与性质有关。同时研磨并未诱导正方相向单斜相的转变。