单膜双室电沉积金属锰

鉴于含锰废水有毒有害,提出阴离子交换膜代替隔膜处理含锰废水。首先采用单因素法探究最佳工艺参数,在最佳条件下,电流效率为71.36%,锰回收率为85.6%,酸回收率为77.23%,能耗为7 784.78 kWh/t;电解锰的宏观形态光滑均匀,具有金属光泽。用SEM和XRD分析手段分析不同亚硒酸浓度对电解锰的影响,结果表明,当亚硒酸为0.07 g/L时,电解锰微观结构表面均匀、致密性好、光滑、无枝晶且空洞最小,晶体形态为α-Mn。     

阴离子交换膜无硒电解金属锰工艺及工业可行性探索

提出采用阴离子交换膜代替现有的布袋式隔膜,同时采用钌铱钽三元氧化物涂层电极作为阳极,结合现有的304不锈钢板作为阴极构成新型的阴离子交换膜电解槽用于电解锰的生产。采用阴离子交换膜,可将锰离子限制在阴极区,避免锰在阳极的沉积;研究发现,采用该电解槽沉积锰时,合适的锰离子浓度为20~25 g/L,该浓度下,合适的抗氧化剂(NH4)2SO3的添加量为0.2 g/L,最佳的电流密度为45~50 m A/cm2,电流效率达到68%,电解槽槽压比传统槽压低约0.5 V,无硒电解沉积吨锰能耗降至5 700 k W·h;所沉积锰板平整,晶粒细致均匀,有金属光泽。     

无硒高纯电解金属锰试验研究

研究以低品位锰矿为原料，进行了无硒高纯电解金属锰试验研究，开发出了具有成本低、电流效率高、可替代传统SeO2添加剂的新型无硒电解锰添加剂；利用该添加剂，获得了含Mn≥99．95％的高纯电解锰；现场生产试验表明，该工艺技术对我国电解锰厂具有非常强的实用性。     

国内电解金属锰生产用电解槽的发展探讨

中国已发展成为电解锰最大的生产和需求国,机遇与挑战并存,在供给侧结构性改革的时代浪潮中,电解锰行业要不断的提高产品质量,优化电解效率,调整产品结构,这些都离不开设备的创新与发展。对电解金属锰生产用的主要设备进行了叙述,对电解槽的指标进行了对比,阐述了阳极板的应用历程,为电解槽的发展提供参考。     

新型无硒电解金属锰添加剂的性能研究

采用电化学测试手段,研究新型添加剂对电极过程的影响,同时通过SEM、XRD等测试手段,考察了添加剂对阴极锰表面、对锰晶体结构的影响。发现添加剂具有显著增强阴极极化,促进电解锰由γ-Mn(体心四方晶系)向α-Mn(体心立方晶系)的相变转换作用。综合各类试验结果,判定新型添加剂作用机理符合选择吸附理论,即添加剂在电解过程中分解成极性小分子,在锰表面选择性吸附,阻滞了螺旋位错生长的发生,使得阴极沉积物平整致密。     

低硒电解金属锰试验

介绍了吉首武陵电化总厂近几年来，对低硒电解锰的生产试验，通过试验表明；该产品中硒的含量符合高纯硒电解金属锰产品的质量要求，从而达到提高电解金属锰纯度的目的，确保稳步低耗地生产出低硒电解金属锰。     

钛材在离子膜电解槽中的应用

在离子膜电解槽中阴、阳极室温度为90℃左右,阳极室有氯气和食盐溶液,阴极室有30～35％(wt)浓度的烧碱溶液,离子膜电解槽一般运行电流密度为30～40A/dm~2。如此苛刻的工况条件,在电解槽设计时,必须充分考虑电解槽的材料使用及防腐结构。离子膜电解     

无硒氯化物体系电解金属锰消减氯气的实验研究

为了减少氯化物体系电解金属锰中氯气的溢出量,通过电化学测试及电解实验探究了阳极电流密度、锰离子以及氯化铵浓度对氯气溢出量的影响。阳极极化曲线测试表明,在氯化锰、氯化铵溶液中,阳极过程按电流密度分成两个区域:低电流区域,以Mn2+和Cl-的氧化为主要反应;高电流区域,以氧的析出反应为主要过程。电解实验证实上述结果,电流密度越高,氯气的溢出量越少;溶液中氯离子浓度越高,氯气的产生量也越多;纯氯化物体系电解金属锰在接近工业生产条件时,阳极过程难以完全抑制氯气的溢出,采用混合电解质为1 mol/L NH4Cl+0. 5 mol/L (NH4)2SO4时,氯气溢出量低于检出限,无硒电解条件下,Mn沉积效率可达到72. 81%。     

电解金属锰电解槽节能技术的探讨

在电解金属锰的生产过程中,有95％以上的电耗集中在电解槽上,所以电解槽的设计、安装和相应的配置是否科学合理就直接决定能耗的高低,针对电解槽如何节能,提出了减小电解槽的电阻、设计安装时防止电解槽漏电、在生产管理上节能等观念。     

双低品位锰矿制取高纯无硒电解金属锰试验研究

论述了用含锰13%~15%的低品位二氧化锰矿与碳酸锰矿制取高纯无硒电解金属锰的工艺流程、技术条件等试验内容,获得了较好的技术指标。目前尚未见到有相同的资料报导。     

电沉积制备铜钴颗粒膜

采用电沉积方法制备了铜钴巨磁电阻功能膜，研究了电沉积工艺参数，包括镀液的主盐离子浓度、配合剂浓度、pH值以及沉积时的电流密度等对铜钴颗粒膜层的组成的影响．用扫描电镜、金相显微镜、EDX能谱仪和XRD分析了镀层组成、表面形貌和结构．膜层的组成成分、晶粒大小与镀液的主盐离子浓度、配合剂浓度、pH值以及沉积时的电流密度有着直接的联系．镀液中钴离子浓度增大时，镀层中的钴含量相应的提高，镀层结晶更加粗大．镀层中铜离子浓度增大时，镀层中的铜含量提高，镀层结晶变得致密．配合剂柠檬酸钠浓度增加对镀层中钴的含量起到一定的抑止作用，而对铜的沉积则有促进作用，同时颗粒膜层结晶更加致密．低pH值下有利于铜的沉积，但此时镀层的晶粒较为粗大．控制电流密度可以改变镀层的组成，较高的电流密度有利于钴的沉积．     

超声电沉积制备Cu-In合金膜

采用超声电沉积-热处理两步法和超声共沉积一步法在钼基底上制备了致密的Cu-In合金薄膜。分别用SEM,EDS和XRD分析了Cu/In双层膜以及Cu-In合金膜的表面形貌、成分及相组成。结果表明:采用不同的电沉积工艺参数可以调节合金膜的Cu/In比率;超声电沉积可以得到晶粒细小、均匀致密的Cu,In以及Cu-In合金薄膜;两步法中超声电沉积得到的双层膜为CuIn和Cu或In相,经过热处理后转变为Cu11In9和Cu或In相;一步法超声共沉积得到的合金膜主要为CuIn相,根据Cu/In比率的不同,还会含有少量的Cu11In9或In相。     

电沉积制备铜钴颗粒膜

采用电沉积方法制备了铜钴巨磁电阻功能膜,研究了电沉积工艺参数,包括镀液的主盐离子浓度、配合剂浓度、pH值以及沉积时的电流密度等对铜钴颗粒膜层的组成的影响.用扫描电镜、金相显微镜、EDX能谱仪和XRD分析了镀层组成、表面形貌和结构.膜层的组成成分、晶粒大小与镀液的主盐离子浓度、配合剂浓度、pH值以及沉积时的电流密度有着直接的联系.镀液中钴离子浓度增大时,镀层中的钴含量相应的提高,镀层结晶更加粗大.镀层中铜离子浓度增大时,镀层中的铜含量提高,镀层结晶变得致密.配合剂柠檬酸钠浓度增加对镀层中钴的含量起到一定的抑止作用,而对铜的沉积则有促进作用,同时颗粒膜层结晶更加致密.低pH值下有利于铜的沉积,但此时镀层的晶粒较为粗大.控制电流密度可以改变镀层的组成,较高的电流密度有利于钴的沉积.     

离子液体中铈的电沉积行为

以一氯丁烷、N-甲基咪唑和KPF6为原料合成了1-丁基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐离子液体([BMIM]PF6),用红外光谱(IR)法对合成的[BMIM]PF6进行了结构分析。用循环伏安法分别测试了[BMIM]PF6的电化学窗口和在[BMIM]PF6中加入乙二醇(EG)和CeCl3形成的体系([BMIM]PF6-EG-CeCl3)中Ce(III)的电化学行为。结果表明,在80℃时[BMIM]PF6的电化学窗口为4.0 V,[BMIM]PF6-EG-CeCl3体系中Ce(III)的电沉积是受扩散控制的不可逆电极过程,此过程传递系数α为0.05,扩散系数D0为2.45×10-6cm2·s-1。通过扫描电镜(SEM)观察了Ce在Cu片表面上电沉积层的形貌,发现随着沉积电势的增加,金属铈镀层的颗粒呈从小到大的变化规律。用X射线能量色散谱(EDS)分析了该电沉积层成分发现电沉积镀层为纯金属铈及其氧化物。     

用离子交换膜—电解法处理电解金属锰生产废水的研究

采用离子交换膜-电解分离技术处理电解金属锰生产废水，在实验基础上确定极板距离为3cm、阴极区的最佳电解液为（NH4）2SO4溶液及最佳pH值为8．0。在最佳工艺条件下，电解锰废水锰的电沉积效率达到62．44％。     

电硅热法冶炼金属锰

概论锰(Mn)是灰色有光泽的脆金属。地壳中锰的含量为0.09%。就其在地壳中的分布而言,锰居第十二位。锰铁之所以成为炼钢方面的主要铁合金之一,是由于锰可以使钢具有一系列贵重的性质:锰对钢的晶粒有细化的作用,使组织结构紧密。锰能增加钢的强度和硬度,并且     

电沉积制备Gd-Co合金膜的研究

在353K的乙酰胺-尿素-N aB r熔体中,P t、Cu电极上,Co(Ⅱ)+2e→Co(0)是一步完全不可逆反应,测得0.060m o l.L-1CoC l2-乙酰胺-尿素-N aB r中,Co(Ⅱ)在P t上,传递系数α=0.28,扩散系数D0=4.68×10-5cm2.-s 1,Cu上α=0.28,D0=4.06×1-0 7cm2.-s 1。G d(Ⅲ)不能单独还原为G d(0),但可以被Co(Ⅱ)诱导共沉积。由恒电位电解法得到非晶态的G d-Co合金,G d的含量随阴极电位的负移,G d(Ⅲ)/N i(Ⅱ)摩尔比增大以及电解时间延长而增大。     

三价铬离子在电沉积过程中的形态

研究证明三价铬离子在HCl体系中适应电活性物质是[Cr(H₂O)₆]³⁺,不同pH通过溶液中的存在形态而影响Cr³⁺电沉积过程。同时证实了Cr³⁺在HCOOH或(NH₂)₂CO存在时不与三价铬形成配位化合物。