RZK—1非圆曲线自编程控制器简介

一、概述程序控制线切割机床是依靠火花放电产生高温使金属熔化而进行机械加工的一种机床.该种机床主要由两大部分组成:床身及加工程序控制柜.床身上装有作为刀具的钢丝和可作x、y两个方向运动的工作台,座标工作台的运动靠步进电机拖动.加工时,钢丝的位置不动,工件随着工作台运动.加工程序控制柜控制工作台运动,就可加工出符合要求的工件来.因这种机床能加工出其它机床无法加工的繁杂工件,所以,程控线切割机在机械加工中得到广泛的应用.     

用电子束曝光机制作的微波低噪声晶体管

业已用自动化电子束曝光机大批量制作微波晶体管(ML-220),在6千兆赫下最小增益为8分贝,最大噪声系数为5.5分贝。本报告讨论了电子束曝光机制作的高性能的 ML-220晶体管及其工艺过程和成品率。采用大视场电子光学系统和完全自动化图形对准系统,使电子束光刻的实用性增加了。其它的机器性能已有说明,例如(1)校准图形位置、大小、旋转和在±2500埃以内的正交性的计算机控制的图形对准系统;(2)计算机控制的 x—y 工作台能够在7.5×7.5厘米范围内准确地作步进重复;(3)适合于制作微波晶体管的电子抗蚀剂工艺;(4)能刻出0.5微米宽的晶体管发射极条的计算机控制的电子束记录仪。一般说来,在本合同期间研制的电子束技术,能用于需要较高频率性能和较高封装密度的各种固体器件。电子束技术可用于磁泡存储器、电荷耦合器件、表面波器件和场效应晶体管。     

掩模移动曝光系统精密定位工件台研制

为满足掩模移动曝光技术制作微光学元件的要求,研制了接近式曝光系统中使用的x-y二维精密移动工件台.该工件台由x-y二维整体手动工作台子系统、x-y二维掩模精密移动台子系统和承片台子系统组成.利用一个方导轨和两对V形导轨组成的滚动导轨副实现了x向和y向精密移动的导向功能;利用驱动器、电机、光栅、细分卡、单片机构成的闭环控制系统保证了x和y向的运动精度;在气浮的作用下,利用掩模版靠平基片实现了调平功能;利用差动螺旋机构和1∶2杠杆缩小机构实现了间隙的调整功能.经检测,工件台在8 mm的工作行程范围内,沿x,y方向移动的直线性分别达到了4"和3",两个方向的正交性达到了10",运动定位精度达到了1.2 μm.     

NIKON与Canon分别推出采用变形照明光源的新型Stepper

<正> 在92年12月2～4日于日本举办的“Semicon/Japan’92”展览会上,日本NIKON和Canon两家公司分别推出了采用变形照明光源的新型片子步进机。 NIKON公司展出的NSR-2005i9C型样机、采用了数值孔径NA为0.57的i线5倍缩小镜头,视场尺寸为22×22平方毫米(17.9×25.2mm),分辨率优于0.45微米,当采用SHRING变形照明光源后,分辨率可达0.35微米。分辨率R为0.40微米时,焦深DOF为2微米。该机的总套刻精度优于0.1微米,(|(?)|+3σ),可适用于16MDRAM的批量生产和64M DRAM的小批量试制。 Canon公司展出的FPA-2500i3型样机,采用了数值孔径NA为0.60的i线5倍缩小     

低温固相反应合成纳米Ba1-ySryTi1-xSnxO3

以TiCl4,SnCl4·5H2O,Sr(OH)2·8H2O和Ba(OH)2.8H2O为原料,采用低温固相反应合成了一系列纳米Ba1–yZnyTi1–xSnxO3(0≤x≤0.30,0≤y≤1.00)固溶体。XRD物相分析证明产品为立方晶系的完全互溶取代固溶体。TEM形貌观察,粒子为均匀球形,平均粒径50 nm。制陶实验发现,在BaTiO3纯相中掺入适量的Sn 4+和Sr2+,当(x=0.1,y=0.1)时,经1 150℃烧结的陶瓷片室温相对介电常数达到13 000,介质损失仅为0.008,烧结温度较之微米级粉体降低200～250℃。     

DX型电子快门照相机

随着半导体电子技术的发展,传统的照相机进入了光学、机械、电子三者紧密结合的时代.DX型电子快门照相机是上海第二光学仪器厂最近试制成功的普及型带内藏闪光灯的自动照相机.该机操作简便,能使使用者在各种复杂环境条件下拍出曝光正确的底片.在DX型照相机中,作为自动曝光控制核心的     

电子束曝光机的精密x-y工件台和基片装卸系统

<正> 对于一台电子束曝光系统来说,关键的问题是待曝光的基片相对于电子束扫描区域能够精确地定位。高精度要求x y工件台能够精确地定位,并且装片夹板可以以稳定及可重复性方式装片。采用将掩模或晶片定位于光路系统的每一个曝光区域的方法,工件台完成电子束系统的步进一重复功能。工件台的定位精度严格受到系统可能做到的小的几何结构限制。装片夹板就是一个框架。它能夹住基片。它提供了将基片放在工件台上和在装卸过程中保护基片的方法,以及使作图表面与工件台电接触。     

扫描曝光系统中二维工作台x轴测量镜的面形在线检测

为了提高二维工作台的定位精度,提出了一种在线检测二维工作台x轴测量镜面形的方法。无需y轴测量镜,利用三路激光干涉仪检测工作台x轴测量镜的二次微分信息,对所得数据进行二次积分得到工作台测量镜的精确面形。分析了零点误差对工作台测量镜面形误差检测的影响,并提出了相应的校正方案。对所提出的方法进行了理论推导和实验验证,结果表明,所提方法的检测重复精度优于2.6521nm,验证了该方法对工作台测量镜面形误差检测的正确性,并且可对工作台x轴测量镜的面形误差进行实时补偿。     

用于生产16MDRAM的第一台X射线片子步进机

<正> 日本熊谷的尼柯尔公司于87年4月发表了他们研制成功的X射线曝光装置—SX-5。这是第一台日本制造的用于制作16MDRAM芯片的设备。 新发表的SX-5型片子步进机具有0.5微米的高分辨率,其曝光面积为29×29平方厘米。该机采用电子轰击式X射线源,波长为     

简讯

重庆光机所研制成功的JC—l型激光表面粗糙度测试仪,于1985年10月24日经重庆市科委组织通过技术鉴定。 该仪器是测量金属表面粗糙度的定量检测设备。测量范围:Ra=0.63～0.008微米、重复测量误差≤±2％、示值误差≤±20％,可同时数显并打印记录Ra值和原光洁度级次,可对不同加工方法和不同材质工件进行选择性测量。     

JS—3型光栅定位精缩照相机

制版是半导体集成电路生产的第一道工序,掩模的套准精度、表面质量,直接影响电路的质量及成品率。在超大规模之前的中大规模集成电路的发展中,常规的制版,甚至在自动制版系统中,精缩照相机仍然是制版工艺的一项关键设备。 1970年前后,国外精缩照相机已有系列化定型产品,包括单头机和多头机。单元图形面积最大可达10×10毫米,掩模最大面积可达到150×150毫米,线条达到1微米,重复精度达到±0.1微米～±0.25微米(标准误差),其定位方式基本上采用激光和光栅两种形式。这些设备已能满足     

青岛QD-6型照相机电路原理与故障检修

<正> 青岛QD-6型照相机是一种用手动输片和调焦、采用曝光准确的电子程序快门、能自动测光与曝光的小型相机。此相机还带有折叠式一体化内藏闪光灯,能在光线较暗的条件下,进行补光拍照。在其自动曝光电路中,采用的是联邦德国阿克发公司的专用相机电子快门集成电路S491,其功能与日本相机专用ER1211、M1211等电子快门集成电路功能相似,工作过程也基本一样,是目前较受欢迎的一种全自动曝光照相机。     

200型1:1投影曝光机

美国帕金,艾尔默公司继研制成功140型投影曝光机之后,最近又研制成功200型1:1投影曝光机,从而使能够制出的最小线宽由3微米提高到2微米乃至更小的数量级。该设备具有自动对准及自动装载片子系统,自动对准精度为0.25微米,畸变误差为0.25微米,照明均匀性误差为4％。同上一代的140型机一样,该系统依然系用一套1:1光学投影系统。在曝光过程中,掩模图形被以一次扫描的方式快速地复印在涂有光致抗蚀剂的硅片上。在通常情     

百微米芯径光纤激光器及其模式控制技术研究

研究了阶跃折射率分布的百微米芯径双包层光纤激光器的输出特性及其模式控制技术.理论上对光纤缠绕法模式控制技术应用于百微米芯径光纤激光器的可行性进行了分析.实验中,采用腔内小孔法对百微米芯径光纤激光器的输出激光模式进行控制,研究了不同孔径对输出激光光束质量的影响.在腔内不加小孔时输出激光x,y方向的光束质量因子M2分别为4.67和4.60,在腔内加入直径为2 mm的/JqL后,x,y方向的光束质量因子M2分别为1.96和2.01,腔内小孔对输出激光的光束质量有明显的改善.     

每小时能处理50个片子的X射线曝光装置

<正> 日本超大规模技术研究组合共同研究所最近研制了每小时能曝光50个片子的 x 射线曝光装置。该系统可使6个片子同时曝光,大大提高了系统的生产率。具体措施是:1)在与 x射线源等距离的位置上,配置六组预先对准好的掩模一片子组,使 x 射线束有效立体角增加,弥补了低灵敏度的抗蚀剂和低效率的 x 射线源的缺点。2)位置对准与光学曝光中的方式基本相同,但使掩模-片子间的位置对准机构与曝光机构分别成为独立的部分。3)为使 x 射线源与片子的距离尽量靠近而缩短曝光时间,并尽量减少复制图象的半影和几何误差,采用共形掩模使掩模与片子附着紧密。4)六个曝光窗能独立开闭,曝光时间能     

微机械加工系统

美国新罕布尔州的J.P.Sercel Associ-ates公司生产的IX—300微机械加工系统包括准分子激光器,平均功率为25W,脉冲重复频率为500Hz。系统尺寸为36×56in。整个系统包括小型准分子激光器、气体系统,花岗岩x/y工作台,光束传输系统。Windows-NT控制系统、2000X视频系统,电源和互锁     

日研制成功超大规模集成电路曝光装置

据日本《日刊工业新闻》七月十三日报道:日电信电话公司武藏野电气通信研究所十二日宣布,作为超大规模集成电路的一环,在日本光学工业公司协助下,在世界上首次试制成功一种高精度和高功率的“软x射线投影曝光装置”。该装置能够以±0.2微米的掩膜套合精度复制最小线     

调频步进雷达高速运动目标距离像合成方法研究

调频步进信号具有作用距离远、硬件实现简单的特点,在现代雷达目标识别中具有明显优势。该文推导了调频步进信号合成距离像的原理,分析了目标运动对合成距离像的影响。为了克服调频步进信号回波对目标运动敏感的缺陷,提出一种脉冲重复时间可变的调频步进信号,通过对脉冲重复时间预先设计来消除目标速度与频率的耦合效应,并通过回波对消技术消除目标加速度对合成距离像的影响,给出了该算法对脉冲重复时间的精度要求。仿真结果证明了算法的有效性。     

基于复振幅调制的半导体激光光束整形方法

为了改善半导体激光光束质量,使其能够满足大距离高精度干涉测量的要求,使用空间光调制器对半导体激光光束进行整形,提出了一种基于复振幅调制算法的光束整形方法。利用该方法可将半导体激光光束整形为准直性好、光强分布均匀的无像散基模高斯光束。通过光束质量分析对整形后的光束进行评估,实验结果显示整形后半导体激光光束在x和y方向的M2因子均趋于1,像散接近于0,验证了该光束整形方法的有效性。将提出的半导体激光光束整形方法应用于大距离干涉测量中,在8m处进行了微米级步进位移测量,与纳米位移工作台相比,所得结果达到了亚波长的测量精度。实验结果表明整形后的光束能够满足大距离高精度干涉测量的要求,验证了提出的半导体激光光束整形方法的可行性。     

一种新型的底部对准光学系统设计

介绍了一种新型的底部对准系统,倍率的变化不是靠换不同物镜,而是靠变换辅助物镜焦距来变换倍率。x、y向工作台带动整支光路运动,不会给光路带来光轴偏离误差,z向调焦则通过前后移动物镜观察成像。