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在有机高分子聚合物薄膜,如投影仪专用胶片上超声波化学镀M—Cu—P合金,研究了镀液各组分浓度、pH值变化对沉积速度的影响:通过扫描电镜(SEM)观测镀层的表面形态及厚度,并用其所附带的能谱(EDS)分析镀层成分,采用透射电镜(TEM)观测镀层中粒子的微观形貌及大小,利用X-射线衍射(XRD)表征镀层的微观结构。结果表明,M—Cu—P合金化学镀层为非晶态合金,光亮、均匀,与基体结合面平整:镀层厚度100μm,镀层颗粒大小在30~40nm,各成分含量分别为77.73%~90.64%Ni,0.38%~5.27%Cu,7.23%~14.30%P。 相似文献
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通过正交试验得到化学镀Co-Ni-P的优化基础配方(g.L-1)和施镀条件:CoSO4.7H2O为16、NiSO4.6H2O为9、NaH2PO2.H2O为30、Na3C6H5O7.2H2O为60、(NH4)2SO4为70,于pH=10、80℃施镀1 h;研究了阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵对Co-Ni-P镀层成分以及镀层与基体结合力的影响。实验结果表明,在优化的基础配方中加入30 mg.L-1的十六烷基三甲基溴化铵,镀液稳定性好,沉积速率加快,镀层表面光亮,镀层与基体的结合力增强,镀层中钴含量增加,镍、磷含量降低,镀层的性能得到了很大的改善。 相似文献
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玻璃表面化学镀Co-Ni-P合金的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
实验研究了玻璃基体表面化学镀Co-Ni-P合金的工艺过程和操作方法.讨论了镀液pH值及其他因素对镀层质量的影响.并对玻璃镀件进行了电镜扫描、X射线衍射、结合力和耐腐蚀性检测.实验结果表明:玻璃基体经过预处理、敏化及活化处理.镀液条件控制在80℃、pH为6、施镀时间40min进行化学镀合金,可以得到结合力较强、质量较好的Co-Ni-P合金镀层. 相似文献
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利用等离子发射光谱仪、电子能谱仪、X-射线衍射仪和振动样品磁强计等分析了Ce对化学镀Co-Ni-P合金层成分、结构和磁性能的影响.结果表明:随镀液中ρ(Ce)的增加,化学镀Co-Ni-P镀层中的Ce、Co和Ni含量有所增加,P的含量则相应降低;镀层由非晶态Co-Ni-P合金镀层转变成了具有微晶、晶态结构的Co-Ni-P-Ce合金镀层.稀土Ce的加入提高了镀层的饱和磁化强度和矫顽力,降低了剩余磁化强度. 相似文献
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考察了影响化学镀Co-Ni-P合金薄膜化学成分的因素,镀液中cco^2+/(co^2+cNi^2+)的比值越高和总金属离子浓度越低,薄膜的钴含量越高,镍和磷的含量越低。较高的pH值和较厚的薄膜会提高薄膜的钴含量,降低镍含量,磷元素倾向于偏聚在晶界上。 相似文献
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酸性化学镀Ni-Zn-P工艺的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
研究了硫酸锌、添加剂和pH值对镀层沉积速率及镀层腐蚀电位的影响.测试了镀层在质量分数为3.5%的NaCl溶液中的Tafel曲线;用电化学阻抗实验对镀层的耐蚀性进行了测试.研究结果表明:镀层在质量分数为3.5%的NaCl溶液中,相对甘汞电极的腐蚀电势为-0.600 9 V,比化学镀Ni-P合金镀层的腐蚀电势-0.343 V低258 mV. 相似文献
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化学镀Pd-Ag合金的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
从化学镀理论出发,建立了Pd-Ag共沉积行为的数学模型,通过验证表明该模型参数计算值与实验值的误差较小,对化学镀共沉积钯银有一定的指导意义。分别考察了在一定的镀液金属总浓度([M]O)、还原剂肼的浓度([N2H4])和pH的条件下,模型参数温度(t)、镀液中Pd/Ag摩尔比(α)和ED-TA浓度(ρ)对金属沉积速度、镀层银含量和两金属还原电位差的影响。实验结果表明,当[M]0、t、ρ和α分别为5×10-3mol/L、40℃、40 g/L和4∶1时,采用化学镀共沉积法可制得陶瓷负载型76.9%Pd-23.1%Ag无机复合膜,且镀层厚度为8.5μm。在350℃和0.3 MPa下,氢气和氮气通过膜的渗透通量分别为7.9×10-3m3/(m2.s)和2.1×10-6m3/(m2.s)。 相似文献
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研究了硫酸镍、次磷酸钠、乳酸和稳定剂等对钢铁表面镀层沉积速率的影响,并对镀层的结合强度以及耐蚀性等方面进行了考察,确定了合适的工艺条件。根据该工艺制备的Ni-P镀层具有良好的表面质量和较高的结合强度,提高了耐蚀性。 相似文献