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<正> 照相感光阿业对明胶的要求已不完全满足于是否是合格优质的照相胶,而是要求与正在使用的照相胶是否具有完全一致或相同的照相性能。因为,只有这样才能简化或省去调整乳剂配方所耗费人力、物料和时间的繁杂工作。但要判断明胶的照相性能取得批与批之间的重复一致性,迄今仍然只能通过照相乳剂试验来确定。本文作者认为,决定明胶照相性能的因素应是明胶中所含微量杂质和组分综合作用的结果,因而用合理的乳剂配方和正确的判定方法进行测试和判断是一种好方法,但应该不是唯一和永远不可被取代的方法。本文作者设想,明胶的照相性能应是明胶抑制性和增感性的某种平衡的体现,故通过混浊度 相似文献
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铱盐对卤化银照相乳剂性能的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了在乳化开始及乳化过程中添加铱盐(NH4)2IrCl6对乳剂照相性能的影响,并用设计出的可行方法测定了乳化开始时加入的铱在卤化银晶体中的分布。进一步说明了 在卤化银晶体中的电子陷阱作用。 相似文献
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本文报导以“~(60)γ射线辐照引发,制备明胶-烷基丙烯酸酯-烷基丙烯酸三元共聚物,考察明胶接枝物存照相乳剂制备过程中的作用,发现它可以作为卤化银的分散剂、沉降剂、增黑剂使用。 相似文献
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本文在进行了大量试验的基础上,研制出了一种能有效地去除顽固性奶垢的清洗液,并简化了原清洗工艺。现场成功实施后,提高了巴氏灭菌质量,避免了设备的频繁拆卸,收到了良好的社会效益。 相似文献
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<正> 自从1871年Maddox将卤化银晶体分散于明胶制作照相材料以来,到现在一百多年,明胶仍然是卤化银的分散介质和粘合剂的主要原料。明胶具有许多适合于制作照相材料的物理的和化学的性质;这些性质是其它天然的和合成的聚合物所没有的。目前只能用合成聚合物取代部分明胶,以改善照相材料的物理机械性能。明胶聚肽大分子由18种氨基酸组成。认为影响卤化银乳剂照相过程的主要是其中一些含氧、氮、硫的氨基酸残基,如表1所示。 1.明胶在卤化银晶体表面的吸附明胶大分子主要是通过它在卤化银晶体表面的不可逆吸附来影响照相过程的。通常,聚合物分子以其在溶液中的无规线团构象吸附于固体表面,并且大分子只将 相似文献
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一种新型厌氧胶专用清除剂清除效果的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了一种新研制的厌氧胶清除剂的清除效果。在常温下,用这种清除剂浸泡经不同品种厌氧胶粘接过的铜制和不锈钢螺栓连接件,30rnin即可以达到97%以上的清除率。并借助于扫描电镜观察浸泡前后的HTO42胶层的微观形貌,证实在浸泡前表面结构致密的胶层浸泡后结构变疏松,表明该清除剂对胶层有较好的溶胀和溶解作用,是一种在短时间内就能达到清除效果的低毒性通用型厌氧胶专用清除剂。 相似文献
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碘离子掺入到高氯乳剂可以显著提高其感光性能。碘离子掺入到亚表层可增加乳剂的光吸收,提高感光度,增加反差。最佳掺入量为0.6%mol/mol Ag,掺入位置在65%Ag处,KI加入速度约8s。在一定范围内(小于1.5%mol/mol Ag)碘离子掺入亚表层对清晰度没有明显影响。如果铱掺杂的掺杂位置为亚表层,掺杂量为10~(-7)mol/mol Ag,铱络合物可有效地改善含碘高氯乳剂的高照度互易律失效。 相似文献
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本文总结了一项用于感光材料工业的高聚物型防静电剂的研究成果,论述了其技术背景、产品生产方法、工艺流程、原料规格和成品物化性能指标。介绍了此防静电剂在医用及工业X射线胶片生产中的应用方法和实际效果。通过对此试验数据证实了高聚物型防静电剂在感光材料工业表面处理过程中所起到的显著效用。 相似文献
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SM-1型化学清洗剂是复合型固体清洗剂。通过将该清洗剂与化学清洗行业常用的盐酸、硝酸清洗性能的比较,证明其溶垢率与盐酸、硝酸相近,腐蚀率远低于盐酸、硝酸。此外,该清洗剂实现了固体化和低酸性,安全性大为提高。 相似文献
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以盐酸为主剂开发了水垢化学清洗剂,通过大量的实验和优化组合,筛选出适合于盐酸除垢时的复合缓蚀剂配方.结合设备酸洗操作工艺过程,探索了对密闭装置边清洗边监控的化学清洗方法. 相似文献
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以阴离子、非离子表面活性剂、助洗剂、缓蚀剂等复配制成固态状金属清洗剂,通过实验确定清洗剂配方,阴离子和非离子表面活性剂为25%~30%。试验验证该清洗剂室温下3min去油污能力大于90%,防腐性、防锈性能达到标准。 相似文献
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