石墨含量对TC4钛合金微弧氧化膜的影响

在硅酸钠+磷酸钠体系溶液中添加不同含量的石墨粉,以其为氧化液对TC4钛合金进行表面微弧氧化。通过扫描电子显微镜、能谱仪、X射线衍射仪及摩擦磨损试验机,研究了石墨含量对TC4钛合金微弧氧化膜表面形貌、元素分布、相组成及摩擦系数的影响。结果表明,石墨含量的增加对TC4钛合金表面微弧氧化膜的形貌无太大影响,氧化膜层呈多孔结构,膜层表面有块状石墨颗粒分布;膜层中的Ti、P、O元素含量相对稳定,Si、C元素含量略有波动;膜层主要由TiO_2和Ti组成,石墨对膜层中TiO_2的形成有一定的阻碍作用;微弧氧化膜中的石墨颗粒能够起到一定的减摩作用,随着石墨含量的增加氧化膜的平均摩擦系数从0.85降至0.54。     

正脉冲电压对Mg-4Gd-3Y-0.5Zr合金微弧氧化膜组织形貌与耐蚀性能的影响

采用SEM、覆层测厚仪、电化学工作站等研究了正脉冲电压对Mg-4Gd-3Y-0.5Zr稀土镁合金双脉冲微弧氧化膜的组织形貌及耐蚀性能的影响。结果表明：随正脉冲电压的升高,膜层厚度增加,膜层表面微孔数量减少、孔径增大,烧结强度增加,裂纹增大;耐蚀性能先增强后降低,均显著优于合金基体;最佳正脉冲电压为450 V,腐蚀电位与腐蚀电流分别为-1.495 V、10-8.62 A/cm2。     

微弧氧化对TC4钛合金耐磨、耐蚀及生物相容性的影响研究

为探究微弧氧化对TC4钛合金耐磨、耐蚀及生物相容性的影响,采用微弧氧化技术在其表面制备涂层。利用扫描电镜(SEM)表征了涂层的表面形貌;电压分别为375 V、400 V、425 V、450 V时测量其耐磨性,在450 V、475 V时测耐腐蚀性,并借助能谱检测研究了微弧氧化后TC4钛合金的生物相容性。结果表明：电压为425 V后膜层增长变缓,且耐磨性最好,摩擦系数为0.3;经微弧氧化处理后试样的自腐蚀电位正移为(0.633～0.928) V,相对钛合金基体自腐蚀电位都有提高,耐腐蚀性增强;XRD图谱分析得出涂层主要是金红石型TiO₂、锐钛矿型Ti O₂和纯Ti;经动物实验后微弧氧化处理的钛合金表面骨组织增多,进行12 W后的Ca/P为1.53,更接近人体骨的钙磷比1.67,对骨组织生长更有利。     

电压对TC4钛合金表面微弧氧化膜层红外发射率的影响

在硅酸盐、磷酸盐及高锰酸钾的混合电解液中研究了不同电压对TC4钛合金微弧氧化膜层性能的影响,通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)分析了膜层的微观形貌、相组成及化学成分,用傅里叶变换红外光谱仪测试了样品的红外发射率。结果表明,随着电压的升高,膜层的厚度、粗糙度及红外发射率持续增加,膜层中Ti O2与Ti的特征峰逐渐减弱,非晶相成为主要的组成部分。结合XRD与XPS分析结果可推断膜层中主要元素Si、P、Mn均以非晶态存在。当电压为540 V时膜层发射率有较大幅度的增加并达到最大,在8~20μm的波段范围内平均发射率可达0.84。     

微弧氧化对TC4钛合金微动磨损行为的影响

采用微弧氧化技术,在TC4钛合金表面制备高硬度氧化陶瓷层(MAO),对比研究了TC4钛合金基体与微弧氧化陶瓷层在2种不同位移幅值下的微动磨损行为.结果表明:位移幅值由80μm增大到150μm时,TC4钛合金基体微动损伤机制由粘着磨损和磨粒磨损转变为疲劳磨损和氧化磨损,而微弧氧化陶瓷层的损伤机制始终以氧化磨损为主;位移幅...     

微弧氧化表面处理工艺对零件表面粗糙度的影响

通过对比不同微弧氧化膜层厚度的7050铝合金试样孔内及试棒外圆微弧氧化前后表面粗糙度的变化,得出了微弧氧化表面处理对7050铝合金试样孔内和试棒外圆表面粗糙度的影响规律,为7050铝合金零件结构设计和生产提供了依据。     

Ce(NO3)3对大鼠内脏组织和大脑一氧化氮及合成酶的影响

本文研究了硝酸铈对大白鼠内脏组织、大脑及骨骼肌中一氧化氮、一氧化氮合成酶的影响。结果显示 ,腹腔注射高浓度的稀土后 ,大鼠肝脏、心脏、肾脏、骨骼肌中一氧化氮、一氧化氮合成酶的水平明显增加 ,注射低浓度的稀土后 ,肝脏、肾脏内一氧化氮的量显著增加。提示稀土能够广泛影响机体一氧化氮、一氧化氮合酶的水平 ,一氧化氮有可能参与了稀土的中毒过程。     

稀土和铬对铁基自熔合金涂层耐蚀性的影响

本研究着眼于考察稀土和合金成分对铁基自熔合金涂层的耐蚀性的影响,对不同成分的合金涂层进行了三酸一盐的浸蚀试验。结果表明在硫酸和硝酸溶液中,稀土的添加对合金涂层的耐蚀性有利,但在盐酸和氯化钠溶液中,稀土的添加对合金涂层耐蚀性无益。铬含量高的铁基自熔合金涂层在硝酸溶液中有优良的耐蚀性,但在硫酸和盐酸中的耐蚀性不如铬含量低的铁基自熔合金涂层。文中分析了不同合金在试验中的不同表现的原因,进而为铁基自熔合金的进一步工业应用提供有用的信息。     

La(Ⅲ)、Nd(Ⅲ)、Tb(Ⅲ)、Er(Ⅲ)与二溴水杨醛缩乙二胺配合物的合成与表征及薄层色谱研究

合成了四种稀土双核配合物,其组成为Ｌｎ２Ｌ３（ＮＯ３）６·３Ｈ２Ｏ〔Ｌｎ＝Ｌａ（Ⅲ）、Ｎｄ（Ⅲ）、Ｔｂ（Ⅲ）、Ｅｒ（Ⅲ）;Ｌ＝３,５－二溴水杨醛缩乙二胺〕,并通过元素分析、红外光谱、紫外光谱、差热－热重及摩尔电导分析等手段,对合成的配合物进行了表征,并研究了配合物的薄层色谱行为     

稀土掺杂对LaSrCoO4催化剂性能的影响

采用聚丙烯胺溶胶-凝胶法制备了类钙钛矿La0.7Nd0.3SrCoO4和La0.7Ce0.3SrCoO4复合氧化物催化剂,考察了它们对CO和C3H8的催化氧化活性,并运用XRD,IR,TPR和TPD等手段对催化剂进行了表征.结果表明,稀土掺杂后的LaSrCoO4复合氧化物均为K2NiF4型结构,不同稀土掺杂对LaSrCoO4复合氧化物的CO和C3H8氧化活性的影响不同,Nd掺杂能增加Co3+、化学吸附氧和晶格氧的数量,提高复合氧化物的活性.     

La(Ⅲ)、Gd(Ⅲ)、Yb(Ⅲ)与邻香草醛缩邻氨基苯甲酸配合物的合成和表征

合成了稀土硝酸盐与希夫碱邻香草醛缩邻氨基苯甲酸的三种新固体配合物。通过元素分析、红外光谱、紫外光谱、差热热重及摩尔电导分析，确定配合物的组成为［Ｌｎ（ＨＬ）（ＮＯ３）（Ｈ２Ｏ）］·ＮＯ３（Ｌｎ＝Ｌａ，Ｇｄ，Ｙｂ），并对它们的某些性质进行了研究。     

Y2O3和La2O3对金属陶瓷内衬显微硬度和耐蚀性的影响

研究了钇、镧等添加物对金属陶瓷内衬显微硬度和耐蚀性的影响。结果表明:加入Y2O3、L a2O3和S iO2可使陶瓷层的孔隙度降低,一定程度上使耐蚀性增加。L a2O3对提高陶瓷层性能的效果比Y2O3要好。     

稀土添加剂对微弧氧化膜层影响的研究进展

微弧氧化（MAO）技术是一种在金属表面原位生长陶瓷膜层的表面改性技术,可以大幅度提高金属的耐磨、耐腐蚀、耐热冲击等性能。但膜层表面粗糙多孔且存在裂纹是限制该技术进一步发展的瓶颈。诸多研究表明在电解液中添加稀土是改善MAO陶瓷膜层性能的有效手段之一。稀土添加剂能促使基体膜层钝化,提高溶液导电率,加快基体阳离子向膜层表面迁移速度,从而降低膜层粗糙度及孔隙率,提高厚度,增强结合力,改变相组成,继而提高膜层硬度,对膜层减摩耐磨、耐腐蚀、润湿性、抗高温氧化及耐热冲击性能均有一定影响。探讨了稀土添加剂对MAO膜层性能影响机制,最后指出了稀土添加剂未来应解决稳定分散、制备催化及生物活性膜层、多种添加剂复配等研究方向。     

电解液浓度对CaTi4(PO4)6微弧氧化陶瓷膜生长过程的影响

通过微弧氧化技术一步合成了CaTi4(PO4)6生物陶瓷膜,并研究了电解液浓度对微弧氧化膜生长过程的影响.结果表明,在同一电解液浓度下,微弧氧化膜层质量的增加与时间呈线性关系.随着电解液浓度的增加,膜层的增重速度加快,形成时间缩短,击穿电压降低,且陶瓷膜表面Ca元素含量增加,P元素含量基本不变;但当电解液浓度增大到一定程度后再继续增加时,陶瓷膜表面的Ca、P元素含量逐渐降低.     

电解液体系对ZrH_(1.8)表面微弧氧化陶瓷层的影响

采用恒压模式分别在Na2SiO3,Na5P3O10和Na5P3O10+H2O2电解液体系下对ZrH1.8表面进行微弧氧化(MAO),利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、膜层测厚仪测试了陶瓷层的表面形貌、截面形貌、相结构及陶瓷层厚度,通过真空脱氢实验评估了陶瓷层的阻氢性能。研究结果表明:采用微弧氧化技术在氢化锆表面可以制得厚度范围在35~60μm的微弧氧化陶瓷层。不同的电解液体系下在氢化锆表面得到的微弧氧化陶瓷层的厚度不同,Na2SiO3电解液体系下得到的陶瓷层最厚,Na5P3O10+H2O2电解液体系次之,Na5P3O10电解液体系最薄。氢化锆表面微弧氧化陶瓷层由致密层和疏松层构成,靠近基体一侧为致密层,陶瓷层外层为疏松层。微弧氧化陶瓷层主要由单斜相氧化锆(M-ZrO2)和少量的四方相氧化锆(T-ZrO2)构成;综合比较,在Na5P3O10+H2O2电解液体系下可以获得厚度适中,表面平整,致密性较好,阻氢性能优异的陶瓷层,陶瓷层的PRF值达到最大值12.1。     

纳米Al2O3添加剂对VW75稀土镁合金微弧氧化膜层的影响

为提高VW75稀土镁合金表面耐蚀性,采用手动恒压法对合金进行了微弧氧化(MAO).基础电解液为硅酸盐碱性电解液(Na2SiO3-NaOH),通过添加纳米氧化铝(α-Al2O3)对电解液进行改性,优化原始微弧氧化层.利用数字式涂层测厚仪和带能谱的扫描电子显微镜(SEM)表征膜层厚度及表面微观组织特征,同时测试了合金在3....     

电源工作模式对微弧氧化过程和膜层性能的影响

通过对目前正在应用的各种微弧氧化电源工作模式进行综合比较,探讨了它们各自的特点和适用范围,并且通过实验研究了电源工作模式对微弧氧化过程和膜层性能的影响.     

电镀Cr涂层对TC4钛合金燃烧性能的影响

通过对镀有不同厚度（0、15、30、60 μm）Cr涂层的TC4钛合金在不同氧压下进行的富氧点燃试验,研究了镀Cr层厚度对TC4钛合金燃烧性能的影响规律,并通过扫描电子显微镜（Scanning electron microscope, SEM）、能谱分析（Energy dispersive spectrometer,EDS）和X射线衍射（X-ray diffraction, XRD）等手段进行显微组织分析。结果表明:当Cr层厚度为15 μm和30 μm时,对TC4的燃烧临界氧压无明显影响,而Cr层厚度增加到60 μm时,可将TC4的燃烧临界氧压由0.07 MPa提高至0.15 MPa。同时,燃烧速率随Cr层厚度的增加而降低,说明Cr层厚度的增加能有效抑制火焰传播速度。其作用机理可能是在燃烧的过程中,表层Cr元素通过固相扩散、熔化等方式进入熔池,与合金中的Al、V元素共同析出,形成了弥散分布的富Cr、Al、V相,并减少了Al与O的结合,对O元素的扩散有阻碍作用,从而降低了燃烧速率。      

助熔剂对LiGd(W_(0.4)Mo_(0.6)O_4)_2:Eu~(3+)红色荧光粉性能的影响

采用高温固相法制备了LiGd(W_(0.4)Mo_(0.6)O_4)_2:Eu~(3+)白光LED用红色荧光粉。通过扫描电子显微镜、X射线衍射仪、荧光光谱仪考察了不同助熔剂对荧光粉的形貌、结构、光学性能的影响,探讨了不同助熔剂的作用机理。结果表明,不同种类助熔剂未改变LiGd(W_(0.4)Mo_(0.6)O_4)_2的四方晶系白钨矿结构;396nm激发下,添加质量分数为2%的H_3BO_3,LiF或NH_4F使样品的发光强度分别提高了21%,17%,9.6%;而添加2%的Na_2CO_3样品发光强度下降了10.9%。同时,H_3BO_3可有效地减少样品颗粒的团聚,其最佳用量为3%;由于F-声子能量低,可减少能量的无辐射跃迁概率的原因,当以1%H_3BO_3与2%LiF同时作为助熔剂制备荧光粉时,相比未添加助熔剂的样品发光强度提高40%。     

电解液中Li2SO4对ZAlSi12合金微弧氧化膜特性的影响

采用微弧氧化技术在ZAlSi12合金表面制备氧化膜,研究了Li₂SO₄的加入对微弧氧化膜性能的影响.随着电解液中Li₂SO₄含量增加,试样表面氧化膜变厚且粗糙.X射线衍射分析表明,微弧氧化膜主要由Al₂O₃相和莫来石相组成.加入Li₂SO₄且经微弧氧化处理得到的试样耐腐蚀性能优于未经微弧氧化处理的试样.