磁控溅射镀膜技术的发展

磁控溅射由于其显著的优点应用日趋广泛,成为工业镀膜生产中最主要的技术之一,相应的溅射技术与也取得了进一步的发展.非平衡磁控溅射改善了沉积室内等离子体的分布,提高了膜层质量;中频和脉冲磁控溅射可有效避免反应溅射时的迟滞现象,消除靶中毒和打弧问题,提高制备化合物薄膜的稳定性和沉积速率;改进的磁控溅射靶的设计可获得较高的靶材利用率;高速溅射和自溅射为溅射镀膜技术开辟了新的应用领域.     

全玻璃真空集热管镀膜设备的发展

本文主要介绍了全玻璃真空集热管镀膜设备的发展历程,重点描述了集热管镀膜设备发展过程中的重大改进,以及镀膜设备提高生产效率和节能降耗的方法,对其他行业镀膜设备的发展和改进有一定的借鉴意义。     

磁控溅射镀膜膜厚均匀性设计方法

镀膜工艺中的薄膜厚度均匀性问题是实际生产中十分关注的。本文在现有的理论基础之上,对溅射镀膜的综合设计方法进行了初步的建立和研究,系统的建立可以采用"整体到部分,再到整体"这一动态设计理念,不断完善设计方法,并将设计方法分为镀膜设备工程设计、镀膜工艺设计和计算机数值仿真三大部分。镀膜设备工程设计、镀膜工艺设计及二者的数值仿真这三者之间是相辅相成的,镀膜设备工程设计决定镀膜工艺过程的实现,镀膜工艺促进镀膜设备的升级,而高性能的计算机仿真设计给两者的设计提供了强有力的支持。     

三柱靶磁控溅射镀膜机在工艺品装饰镀中的应用

将三柱靶磁控溅射镀膜机应用于工艺品装饰镀生产中,开发多种镀膜工艺并进行了批量生产,实践证明:三柱靶磁控溅射镀膜技术结合特制的衬底漆和保护面漆涂装工艺,能够在工艺品上获得合格的装饰层.拓展该技术在工艺品行业的应用,可有效减轻传统电镀对环境的污染.     

一种双真空室结构磁控溅射台的研制

本文研制了一种较高档的磁控溅射镀膜设备,用于微电子器件规模化生产过程中的基片表面镀膜.该设备采用双真空室结构,使溅射室始终维持较高的真空度和洁净度,提高镀膜质量和镀膜效率.环绕溅射室设计了3个直流靶和1个射频靶,能够溅射金属膜、介质膜、混合物和化合物薄膜.文中详述了该设备的设计原理、总体结构及工艺控制方法.该磁控溅射台已开发成功并投入使用,替代了同类进口设备.     

同轴磁控溅射离子镀膜在装铈膜和超硬膜中的应用

同轴式磁控溅射离子镀膜机是磁控溅射和离子镀膜相结合的一种镀膜设备。从不小于1.5×2m 大面积基底上所镀膜层的均匀性和实际应用的可行性来看,是一种较好的成膜手段。1.国内现状目前国内生产蒸发式镀膜设备的厂家不少。这种方法是以高纯铝丝或铁铬镍合金丝等作为膜材,在大面积上镀镜或镀建材玻璃膜。普遍认为蒸发膜存在着如下问题:     

卷绕式海绵材料真空磁控溅射镀膜设备的研制

本文介绍了海绵卷绕真空磁控溅射镀膜设备的结构及其特点，采用独特的传动机构，靶极结构及控制方式实现了海绵连续卷绕真空磁控溅射镀膜。     

第二十一讲真空卷绕镀膜

(接2021年第6期88页) 3.4 中频磁控卷绕镀膜 中频磁控卷绕镀膜是利用中频磁控溅射技术来实现卷绕镀膜的方法.中频交流磁控溅射通常采用两个尺寸大小和外形相同的靶并排布置或相对摆放,称为孪生靶.将双极脉冲中频电源的二个输出端连接到二个靶上,如图18所示.     

聚酯振膜镀膜用磁控溅射设备

本文介绍了一种在PET材料上镀制Ni膜的磁控溅射镀膜设备的结构及特点,解决了PET材料无法在高温环境中镀膜的问题.具有操作方便、成本低、生产效率高、膜层质量好及膜层制备可重复性好等特点.在实际生产中取得了良好的效果,有广阔的应用前景.     

粉末溅射法制备薄膜充电电池材料

经过长时间的研究和探索,在薄膜制作方法上研究开发了粉末磁控溅射镀膜法。利用这种方法,对全固体薄膜充电电池的多种负极活性物质、固体电解质、正极活性物质进行了薄膜材料的制作,得到了很好的结果。粉末溅射法的成功开发,使我们彻底摆脱了昂贵进口块状靶材的束缚,降低了全固体薄膜充电电池的制作成本,为进一步研究全固体薄膜充电电池奠定了坚实的基础。     

塑料ITO膜磁控溅射卷绕镀膜机的研制

本文介绍了塑料 ITO膜磁控溅射卷绕镀膜机的研制 ,就采用磁控溅射卷绕法制备 ITO膜的设备及成膜过程的一些工艺问题进行了探讨     

磁控溅射技术新进展及应用

主要简介了磁控溅射技术的基本原理、基本装置、近年来出现的新技术(多靶磁控溅射技术、磁场扫描法、非平衡磁控溅射、脉冲磁控溅射技术、磁控溅射技术与其它成膜技术相结合等),以及国内外利用磁控溅射技术在多层膜和化合物薄膜制备方面取得的一些成果.     

新型热控涂层Al-Al_2O_3金属陶瓷复合膜制备与性能研究

介绍了柔性基底金属陶瓷复合膜的膜系结构设计,利用脉冲直流磁控溅射技术,在聚酰亚胺基底上制备了Al-Al2O3金属陶瓷复合膜,自基底至膜层表面依次为:聚酰亚胺、金属反射层、金属陶瓷层、减反射层。并对所制备的金属陶瓷复合膜进行了光热学性能分析。实验结果表明:通过脉冲直流磁控溅射技术制备的Al-Al2O3金属陶瓷复合膜,具有高太阳吸收率(a≥0.90),低红外发射率(ε≤0.11),是一种高效吸热型热控薄膜材料。     

卷绕式磁控溅射镀膜机张力控制系统分析与优化

为避免卷绕式磁控溅射镀膜过程中张力引起的薄膜缺陷,以及原有张力系统响应速度慢、稳定性差等不足,对张力系统进行了分析与优化。通过分析确定了影响张力的关键因素是收(放) 卷的速度和卷径变化,建立了张力系统动力学模型,采用simulink 对张力控制系统进行仿真分析,利用实验验证的方法,分别在原设备和改造后的设备上制备Al2 O3 薄膜,并对比其SEM 图像。改造后的系统可在0. 65 s 内实现薄膜张力实时调整,而原系统需要8 s。改造后的系统能够保证镀制过程中的张力恒定,膜层致密均匀、卷材层间无空隙和皱纹。     

界面梯度对TiN／不锈钢涂层应力的影响

气相沉积表面涂层在科学技术各领域得到广泛应用，然而，由于涂层与基体在化学和物理性质上的差异，使得涂层与基体在界面两侧产生结构和性能上的突变，影响了涂层功能的充分发挥。为此，采用多靶磁控溅射技术制备了具有梯度过渡层的ＴｉＮ／不多靶磁控溅射技术制备了具有梯度过渡层的ＴｉＮ／不锈钢涂层，并研究了梯度层对涂层内应力的影响。研究结果表明：采用多靶磁控溅射技术，分别控制各靶的功率，能够精确控制梯度层的成份变化     

直流磁控溅射镀膜在玻璃涂层技术中的应用

本文在探讨镀膜玻璃一些基本问题的基础上,阐述了磁控溅射在玻璃涂层技术中的应用机理、靶的结构靶材的选取、提高膜层质量以及镀膜玻璃的应用及发展前景等问题。     

磁控溅射高温固体自润滑涂层的研究与进展

近年来,高温固体自润滑涂层在许多领域得到了快速发展,尤其是磁控溅射技术制备的微纳米高温固体自润滑涂层可以满足航空领域应用中对涂层厚度、力学性能、摩擦性能的更高要求。在综合国内外大量文献的基础上,对磁控溅射方法制备的高温固体自润滑涂层的材料体系、工艺参数优化和涂层结构设计取得的进展进行了综述,通过分析涂层组成相影响机理、工艺改进措施和涂层复杂界面结构,提出未来高温固体自润滑涂层有待进一步研究的问题。