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相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 15 毫秒
1.
机械工业部沈阳真空技术研究所为沈阳市玻璃计器厂研制的太阳能集热管磁控溅射镀膜机,经过一年的工业运行,性能良好。最近通过了技术鉴定。 DJT—800型太阳能集热管磁控溅射镀膜机是生产太阳能集热管的专用设备,适用于镀制太阳能集热管选择性吸收表面的光学薄膜。 太阳能集热管的热效率,主要取决于选择性吸收膜层的质量。目前,我国均采用化学电镀法镀制膜层,这种方法存在着工艺不够稳定,废品率高,膜层质量差,原材料消耗大,成本高,污染环境,危害工人健康等缺点。而应用磁控溅射镀膜机镀制太阳能集热管选择性吸收膜层,彻底实现了工艺革新,完…  相似文献   

2.
本文较全面的阐述了利用磁控溅射镀膜设备镀制真空玻璃太阳能集热管选择性吸收涂层(薄膜)新技术,并对适于批量生产高效率高性能的太阳能集热管的先进设备和工艺进行了论述。其设备结构简单、操作方便、性能稳定可靠,薄膜材料来源方便、价格低廉,所镀膜层均匀牢固,使用寿命长,具有较高的集热效果,其吸收率值高达0.95~0.97,辐射率为0.05~0.08;镀管成品率较高,可达95%以上,成本低,与化学工艺相比,可降低成本48%。可见具有明显的经济效益。同时这一新工艺无环境污染,工作人员劳动强度低,对身体无害。  相似文献   

3.
提高太阳能集热管磁控溅射镀膜沉积速率的研究   总被引:1,自引:1,他引:0  
工业上用磁控溅射技术为太阳能集热管制备Al-N/Al选择性吸收涂层,这种吸收涂层最外层为AlN介质减反层.在开环N2流量控制模式下,存在溅射制备AlN介质减反层沉积速率低的缺点.本文依据气相化学反应动力学理论,薄膜的沉积率正比于反应气体的浓度,提出了一种提高制备AlN陶瓷减反层沉积速率的方法.该方法将直流溅射靶电压反馈至模糊控制器,控制N2流量大小,让磁控溅射镀膜机稳定工作在拐点电压附近,实现反应溅射恒电压控制.并且采用单片机技术制作了样机,在SCS-700A型太阳能集热管镀膜机中使用,实验结果表明,镀膜沉积速率提高了4倍以上,整个系统工作稳定.  相似文献   

4.
康虹  陆景春 《真空》1992,(1):37-40
JPG-6型磁控溅射低阻值电阻镀膜机,是代替过去生产效率低,产品性能差的蒸发式镀膜机的一种新型镀膜设备。本文就设备的研制意义、工作原理、主要性能指标,以及结构设计特点等问题进行了论述.文中还给出了低阻值金属膜和金属氧化膜电阻的主要参数及其阻值范围。  相似文献   

5.
王贵义  王世忠 《真空》1990,9(6):7-11,29
本文叙述了双室旋转磁控溅射镀膜机的结构、工作原理和主要性能,并对磁场强度、充气压强、放电电压、电流等工作参数以及沉积速率的影响进行了一系列实验,从而选择了该机的最佳运动参数.  相似文献   

6.
以北京天瑞星公司生产的大型TX1 800商用磁控溅射镀膜机为例,分析了磁控溅射镀膜机靶的结构及配套冷却系统,引入航空航天领域应用较多的层板发汗冷却。在高温下气化蒸发带走基材热量,达到材料降温的目的。通过层板间的特殊结构实现对流体流量、流速等的控制,实现预想的冷却效果。  相似文献   

7.
陈志涛 《真空》2021,(2):20-26
本文主要介绍了制备四米槽式太阳能真空集热管的间歇式单体镀膜机和自动连续镀膜线,对两种类型设备的优缺点和存在的问题进行了对比分析,可以为其他行业镀膜设备的设计改进提供借鉴.  相似文献   

8.
9.
张文刚 《真空》2004,41(5):56-58
介绍了设备的结构、组成及工作过程,对新型矩形双平面磁控溅射阴极及有关的各阴极进行了分析、比较.  相似文献   

10.
王红岩  陆京 《真空》1997,(6):24-27
本文介绍用磁控溅射镀膜机制取的铜/不锈钢——碳质膜层的特点及膜的制取工艺。  相似文献   

11.
TRC—2020型磁控溅射镀膜机低温泵的设计考虑   总被引:2,自引:1,他引:1  
任家生 《真空》1991,(4):36-42
本文从溅射镀膜的要求出发,设计出符合溅射镀膜要求的 ZDB—200低温泵。在分析低温抽气机理的基础上,提出了ZDB—200型制冷机低温泵的主要参量。为此,在设计一、二级冷阵中,既考虑,到冷阵结构的一合理性,又要考虑冷阵温度分布的均匀一致,同时对如何提高致冷机的致冷效率也进行了讨论。  相似文献   

12.
魏海波  孙清  张君薇  池世春 《真空》2007,44(4):33-35
本文介绍了海绵卷绕真空磁控溅射镀膜设备的结构及其特点,采用独特的传动机构,靶极结构及控制方式实现了海绵连续卷绕真空磁控溅射镀膜。  相似文献   

13.
磁控溅射镀膜设备中靶的优化设计   总被引:15,自引:4,他引:11  
刘翔宇  赵来  许生  范垂祯  查良镇 《真空》2003,50(4):16-22
磁控溅射已发展为工业镀膜生产中最主要的技术之一。对在镀膜批量生产中普遍存在的靶材利用率、溅射速率和沉积速率低以及溅射过程不稳定等突出问题,固然可用优化电源设计和调整工艺参数等加以改善,但根本的问题在于整个系统,特别是靶的优化设计。本文简要评述了已有靶的典型设计及其特点;对靶分析和设计的通行方法,包括电磁场有限元、等离子体粒子模型及流体模型、以及设计过程中其它一些需要注意的问题作了讨论。鉴于国内目前在靶的分析设计方面与国际先进水平之间还存在着比较大的差距,希望能够引起有关方面的重视。  相似文献   

14.
陈志涛 《真空》2020,(1):35-39
本文主要介绍了全玻璃真空集热管镀膜设备的发展历程,重点描述了集热管镀膜设备发展过程中的重大改进,以及镀膜设备提高生产效率和节能降耗的方法,对其他行业镀膜设备的发展和改进有一定的借鉴意义。  相似文献   

15.
李石 《真空》1990,(2):37-40
本文介绍KZC—磁控溅射镀膜机电源的组成,工作原理和具有自动起动功能及抑 制系统振荡的良好动态特性。文中详述了“自适应电流调节器”、“电流截止负反馈”、 “触发电路”、“给定积分器和电压调节器”。该电源为磁控溅射镀膜设备实现自动控制 提供了方便。  相似文献   

16.
17.
李宪华 《真空》2000,(6):38-39
本文介绍了塑料 ITO膜磁控溅射卷绕镀膜机的研制 ,就采用磁控溅射卷绕法制备 ITO膜的设备及成膜过程的一些工艺问题进行了探讨  相似文献   

18.
一九八七年四月六日到八日,由北京市仪器仪表工业总公司主持,在北京召开了DHD-800型多弧刀具镀膜设备鉴定会。参加会议的有来自国家机关、科研单位、专业工厂和高等院校的研究员、付研究员、付教授、讲师、工程师、研究生、记者等57个单位的91位代表。 鉴定委员会认为:DHD—800型多弧刀具镀膜设备,是我国首次自行设计的电弧离子镀刀具工业生产型设备。 鉴定委员会还认为;该设备各项技术指标均达到设计要求。镀膜能力与美国八十年代多弧公司的MAV—32型设备相当。填补了我国多弧刀具镀膜机的空白,居于国内领先水平。对我国刀具生产具有重…  相似文献   

19.
安其 《真空》2011,48(2)
本文介绍了一种在PET材料上镀制Ni膜的磁控溅射镀膜设备的结构及特点,解决了PET材料无法在高温环境中镀膜的问题.具有操作方便、成本低、生产效率高、膜层质量好及膜层制备可重复性好等特点.在实际生产中取得了良好的效果,有广阔的应用前景.  相似文献   

20.
魏海波  勾颖  张晶宇 《真空》2004,41(5):49-50
介绍新型太阳集热管镀膜机及工艺,使太阳集热器的结构得到简化,无水箱、降低了成本使太阳集热器的热效率得到提高;真空集热管α=0.92~0.93 ε=0.06~0.08.并实现太阳能与建筑一体化的效果.  相似文献   

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