Ee—BES—40A全自动电子束曝光机

Ｅｅ－ＢＥＳ－４０光栅扫描电子束曝光机全部实现自动控制，为用户操作带来极大方便。本文简要论述该机的构成及调试中遇到的问题，重点论述真空自动化，送片机构的自动化，以及电子光柱调整的自动化。     

DB—5型光栅扫描电子束曝光机真空系统

本文介绍了我国自行研制的第一台生产实用型光栅扫描电子束曝光机的真空系统,包括系统设计、分子泵与离子泵的应用、全系统泵阀的可编程自动控制,以及为改善系统性能采取的一些措施。     

EBES—40A型电子束曝光机的软件开发

本文简要会介绍了一种圆形电子束曝光机应用软件的结构，工作原理及工作过程；并且根据作者长期应用这套软件的具体情况，对使用该软件过程是同到的一些具体问题和解决方法作了详细的说明。此外，对自行编制的软件也作了介绍。     

EeBES—40型电子束曝光机的图形生成系统

介绍了美国瓦里安公司１９７９年研制的一种生产型电子束曝光机的光栅扫描方式，以及光栅扫描作图的图形生成系统和该系统的主要组成部件。     

电子束曝光机自动套准系统的研究

本文描述了用于电子束曝光机的芯片自动套准系统，该系统包括：扫描控制器、图象采集子系统、相关位置计算单元和位置与角度修正子系统。利用该系统，完成一次双标记识别及修正的循环需时１１秒；角度最小修正值为０．０１４度，最终实现的套准精度达到３σ≤０．０７μｍ。     

电子束曝光机束斑的自动测控系统

根据亚微米电子束曝光机束斑直径、束流大小与各磁透镜电流之间的关系以及刀口法测试束斑的原理，设计了一套总线式的束斑自动测控系统。该系统以ＩＢＭ—ＰＣ／ＡＴ作为主控机，系统包括用于总线扩展的总线驱动板、电子束扫描控制板和束流信号数据采集板。     

DJ—2可变矩形电子束曝光机

电子束曝光机用于制造超大规模集成电路掩模版。它由电子光学柱、工件台、图形发生器、计算机及控制系统组成。可变矩形电子束曝光机,具有生产效率高,图形产生灵活等优点。束斑形状的变化是通过投影两个方光栏的象来实现的,用静电偏转的方法把第一方光栏的象相对于第二方光栏移动,两者重合组成的矩形象经缩小并投身到工件台上得到一个可变的矩形束斑。     

电子束直接曝光机简介

电子束直接曝光机简介郑国强（甘肃平凉市电子部第４５研究所，７４４０００）１引言电子束曝光技术是集光、机、电、计算机和超高真空技术为一体的综合性技术，它可以把亚微米工艺的集成电路和器件图形直接光刻在Ｓｉ和ＧａＡｓ等圆片上。电子束直接曝光设备在军事微电子...     

DY—5型亚微米电子束曝光机

本文介绍了ＤＹ－５型微米电子束曝光机的主要技术性能；最细特征线宽０．４μｍ，图形位置精度及拼接精度优于±０．１５μｍ；扫描场尺寸１×１ｍｍ＾２和２×２ｍｍ＾２；最高扫描速度１ＭＨｚ，可加工１００×１００ｍｍ＾２掩模版或Х７５硅圆片，给出了部分曝光试验结果。     

DY－5型亚微米电子束曝光机

本文介绍了ＤＹ－５型亚微米电子束曝光机的主要技术性能：最细特征线宽０．４μｍ；图形位置精度及拼接精度优于±０．１５μｍ；扫描场尺寸１×１ｍｍ２和２×２ｍｍ２；最高扫描速度１ＭＨｚ；可加工１００×１００ｍｍ２掩模版或Φ７５硅圆片。给出了部分曝光试验结果。     

电子束曝光机图形处理系统

本文针对现有电子束曝光机在图形处理过程中存在的一些问题，提出了以辅配微机来增强原机处理能力的方法。对曝光机的图形处理过程及异机通讯等问题作了较详细的介绍。     

电子束曝光机复合调整式30KV电源

介绍了复合调整式高压电源的总体设计方案，提出实现高压电源高稳定度的关键技术措施。     

电子束曝光机的误差与数据处理

本文综合分析了影响电子束曝光机加工精度的各种误差的来源与类型，误差的影响与估算．以及误差的综合与数据处理。     

0.1微米电子束曝光机成像系统的计算

系统介绍了０．１微米电子束曝光机系统的计算工作,并对每步都给出了程序实现的流程图,最终构成了总的程序计算框图。该程序具有一定的通用性,能对任何３级成像系统进行计算,最后对计算结果进行了定性的分析。     

提高电子束曝光机分辨率的探讨

某些电子束曝光机光刻出的线条是弯曲的 ,因而影响了机器分辨率的提高 ,本文对此现象做了分析 ,并提出可能产生这种现象的原因。这对于解决上述问题 ,提高电子束曝光机的分辨率具有重要意义。     

锁相技术在电子束曝光机工件台稳速控制中的应用

采用锁相技术，对电子束曝光机工件台运动实现速度环的全数字控制。设计了数字差频积分回路和数字差频比例控制器，能有效消除速度的静态误差和改善系统的动态特性。