磁盘用溅射铁氧体薄膜

为了实现高记录密度的磁盘,研究了采用溅射法制成的氧化物薄膜和镀有氧化铝膜的Al 合金板的新式氧化物磁盘介质。(1)氧化物磁性薄膜的制作方法分以下两步。首先在强氧化气氛中,通过反应溅射形成α-Fe_2O_3;然后继续在氢气中进行还原生成Fe_3O_4。(2)采用了与涂布型磁盘板相同的Al 合金基板,由于表面镀有较硬的氧化铝膜,所以与以前基板相比,提高了表面精度及耐磁头磨损性。(3)由于同时添加Al 和Co,提高了磁特性,而且记录密度达到了800位/毫米。(4)今后的研究课题不仅只限于电磁转换特性,而且还要对漏码、耐磁头磨损性等方面进行研究,同时考虑到生产率的问题还要进一步提高磁性膜的生成速度。     

磁盘备份与虚拟磁带库备份浅析

随着磁盘成本的不断降低,利用磁盘作为备份介质的趋势已经越来越明显。磁盘备份的通常分为直接和间接两种。直接将数据副本搬移到磁盘上,或者通过备份软件的Back to Disk选项将备份数据直接写到磁盘上,是常见的直接磁盘备份形式;而利用虚拟磁带库作为备份介质则是惯用的间接磁盘备份形式。所谓间接,是由于虚拟磁带库把磁盘仿真成物理磁带库,来实现备份软件对虚拟磁带库的管理,从而完成将数据备份到磁盘的目标。     

一种基于磁盘介质的网络存储系统缓存

随着计算规模越来越大,网络存储系统应用领域越来越广泛,对网络存储系统I/O性能要求也越来越高.在存储系统高负载的情况下,采用低速介质在客户机和网络存储系统的I/O路径上作为数据缓存也变得具有实际的意义.设计并实现了一种基于磁盘介质的存储系统块一级的缓存原型D-Cache.采用两级结构对磁盘缓存进行管理,并提出了相应的基于块一级的两级缓存管理算法.该管理算法有效地解决了因磁盘介质响应速度慢而带来的磁盘缓存管理难题,并通过位图的使用消除了磁盘缓存写Miss时的Copy on Write开销.原型系统的测试结果表明,在存储服务器高负载的情况下,缓存系统能够有效地提高系统的整体性能.     

电镀型磁盘基板的残余应力和变形

电镀型磁盘的基板是由铝合金及非电解镍镀膜等不同材料构成的,所以具有因研磨和施镀等加工处理而产生的复杂残余应力。本文中,用理论式表示了由各层残余应力所引起的盘的变形量,并与在铝合金上形成的非电解镍镀层的两层典型盘的加工实验进行了对比,证明所推导的理论式是正确的。其结果,镀应力取决于镀液的pH 值,而研磨盘面所产生的残余应力取决于磨粒直径。镀面加工变质层的深度和铝合金相比较是极小的。而且对直径360毫米的镀型磁盘基板的加工变形进行了模拟,表明了由上下面的镀层及加工变质层深度的不均衡引起的变形量,在不平衡率为50%时达到140—200微米。     

3.2 GB集合形磁盘装置用外围电路

本文示出了3.2GB集合形磁盘装置主要外围电路的定位电路和读写电路的设计、性能。对摇摆式定位方式(惯性矩为1000kg·mm~2)的磁头定位电路已实现了磁道间距23.5μm,平均存取时间为18ms。为了获得抗高频机械振动、抗外界干扰,高精度跟踪的功能,采取以下措施:(1)采用超前滞后2级补偿和积分补偿同时并用的回路设计,(2)采用了2相位置信号方式,从而达到了几百Hz的跟踪带域,并实现了0.7kg/μm的高刚性以及±0.5/μm的跟踪精度。另外,在读/写电路的设计中,为了提高溅射型、镀型等介质的数据鉴别能力,达到了如下性能:(1)介质信号质量与调制方式的配合及通道最佳化,(2)用扩大余弦均衡的数据分辨冗余度,使之达到扩展相位裕度20ns以上(溅射型介质,MFM调制方式)。     

使用计算机的磁盘测试装置

1.前言近来,磁盘介质的制造工艺大有改进,容量超过二亿字节的磁盘存储器已开始实用。为了研制出具有最佳价格-性能比的装置,磁盘的记录密度必须进一步提高。为此,需要获得有关介质特性和可靠性的详细测试数据,同时必须研究新的测试方法或测试系统。普通的磁盘测试装置主要是用作“好、坏”的简单判断,对高密度磁盘介质的测试不适用。因此,作者制造了一台由超小型计算机     

华胜工作站——第三讲 UNIX操作系统工作原理与实践(下)

<正> 1.SUNOS 操作系统的磁盘分区(1)有关磁盘的几个概念a.磁盘它是一种永久性存贮数据的磁性介质,一般来说,磁盘由磁头,磁头臂,介质和机械驱动等组成。     

磁盘用磁记录介质的发展

磁记录技术目前已在录音、录像、计测、通讯、信息处理等范围内得到了广泛的应用。随着计算技术的发展,对存储器的高记录密度、大容量的要求越来越迫切。从磁带发展到磁鼓和磁盘。磁盘存储器由于具有随机存取、容量大、体积小、数据传送率高等优点,已成为第三代计算机不可缺少的主要外存设备。磁盘已经应用了二十多年。在磁盘技术的研制方面,美国的 IBM 公司一直处于领先的地位。对涂布介质和环形磁头组合的电磁转换系统来说,技术发展过程表明了如下两点:1)电磁转换系统机械尺寸的减小和记录介质磁特性的改进,提高了线性密度(见图1)。     

磁性钴-镍合金的电沉积

本文研究产生硬磁膜的镀液,特别是用电解法沉积具有优越的磁性用于磁性记忆器件的Co-Ni膜。 具有高矫顽力的磁性材料能应用在磁鼓、磁盘、磁带等记忆元件上。通常,一些镀液在工业上可用来镀这些磁性材料,然而,在某些     

一种交换机话单备份以及优化的新方法

介质故障在几乎所有备份和恢复故障中是最常见的。磁盘方式产生介质故障的几率要比磁带、光盘低得多。所以采用磁盘阵列保存话单数据,既可以加快话单文件的查找与拷贝速度,又有利于介质空间的循环使用,大大降低了硬件成本,提高了话单数据的安全性。     

在4040BPI老磁盘上获得6300BPI的电路技术

最近,尤尼瓦克公司在其原来位密度为4040位/英寸的 ISS/Univac 8433磁盘驱动器中,采用了新的3PM 编码、cos~4Kf 的读出补偿器和带门槛的峰值检出器等记录系统电路技术,研制成功位密度为6300位/英寸的磁盘新产品 ISS/Univac 8434。为了进一步提高其数据可靠性,还采用了每道允许三个介质缺陷的“缺陷跳越”技术,从而使这种相当于IBM 3330中等性能磁盘的容量可靠地超过了IBM 3350高性能磁盘的容量。     

基于虚拟磁盘的可信加密磁盘的研究与实现

章分析了磁盘加密软件Tmecwpt,分析了其透明加解密的原理。同时文章还介绍了可信计算的基本思想。在基于虚拟磁盘管理技术及实时加解密磁盘软件Tmecwpt的基础上,结合可信计算的思想,利用USBKEY作为可信的硬件基础。设计了采用USBKEY的可信磁盘加密系统。通过使用USBKEY作为可信的硬件基础实现加密磁盘的可信性。     

软件加密工具：指纹磁盘生成器

磁盘是储存各种软件产品的主要介质,本文结合我们开发的加密工具,阐述磁盘软件加密的原理和方法。     

提高磁盘的记录密度——烧结型氧化物磁介质的开发

计算机的外存贮器中,磁盘装置起了相当重要的作用,为了使它容量大而经济,尽量提高记录密度是完全必要的,所以要不断对存贮介质、磁头、外国电路、结构精度等进行改进。最近每个盘组的存贮容量已达到了数十～数百亿字节。 现在磁盘的盘片是以铝合金园板上涂敷γ·Fe_2O_8为主流。为了提高磁盘的记录密度,必需对上述各个部分加以改进。作为记录介质本身,下面几点值得加以改进。 (1)改进涂敷技术,尽量减薄磁介质的厚度; (2)改进微粒磁性体的磁特性,特别要提高矫顽力和剩磁通密度。     

基于AES算法的磁盘加密设计与实现

设计了一种纯软件的磁盘加密系统,系统利用Windows驱动开发技术,采用AES（高级加密标准：Advanced EncryptionStandard）算法作为磁盘加密算法,在不需要添加额外硬件设备的情况下,实现对磁盘内部数据加密和解密,有效地保护了磁盘的敏感信息。     

熔接型光纤液位传感器的抗污染研究

讨论了熔接型触点式光纤液位传感器的污染问题,分析研究了传感头在水与油 2种不同介质中的污染情况;提出了在光纤传感头上利用液相沉积法(LPD):镀TiO2 薄膜来提高其抗污染能力的方法,并测试了镀TiO2 膜后的光纤传感头的抗污染性能。水中的实验表明:镀TiO2 膜后,光纤传感头的抗污染能力比镀膜前有显著提高。     

希捷垂直记录磁盘技术再创密度记录

希捷科技公司近日公布了其在垂直记录磁盘技术上的最新成果:在介质(磁碟表面)上的存储密度达到421Gb／(英寸)2的世界新记录。该公司还展示了垂直记录磁头和介质。希捷采用这一存储密度新成果,将推出40GB～275GB的1英寸     

关于改进磁盘盘片清洗方法的一些研究

前言 磁盘存贮器是电子计算机十分重要的外部设备,随着电子计算机技术的不断发展,磁盘技术特别是温式磁盘技术在提高记录密度、存贮容量及可靠性方面都取得了巨大的进展。根据目前资料,无论是低性能的非润滑磁盘直到一高性能的温式接触启停型的润滑磁盘,大都由铝基片表面上涂复γ-Fe_2O_3磁层所构成。磁层与铝基片的结合力要高,引起漏码的气泡、     

备份速率提数倍——ADIC推出Pathlight VX磁盘集成式解决方案

5月初获悉,在美国先进数字信息公司(ADIC)举办的“存储我先行”——2004年ADICCIO行业存储论坛上,ADIC全球副总裁ScottRoza介绍了ADIC刚刚推出的PathlightVX集成式解决方案,PathlightVX结合了串行ATA磁盘高性能和磁带长期数据保存的双重优势,不需要改变原有的数据备份模式、策略以及备份软件,但备份速率可以提高数倍。ADICPathlightVX是备份与恢复的集成式解决方案,PathlightVX采用了ADIC的四个核心技术:虚拟化软件层使磁盘系统能够将自己作为磁带驱动器和介质呈现给备份应用软件;I/O控制器技术能够在系统内外实现高性能…     

800兆字节磁盘装置的研制

根据数据通讯系统中联机存储器大容量低价格的要求,研制成目前世界上记忆容量最大的磁盘记忆装置,每轴容量达800兆字节。该机由于采用了薄磁层涂布介质、接触起停式狭道磁头、内部温度均匀的头盘组件等新技术,使记录密度达到了约9000位/毫米~2,因此磁盘单机容量为原来的四倍。此外还采用了动态交叉调用功能,每台控制器所能控制的轴数增加到32个,使磁盘子系统最大记忆容量提高了一个数量级。本机存取时间缩短到20ms,数据传送速率也提高到1.35MB/S。