全球管制HCFC使用日趋严格

全球管制 HCFC政策日趋严格 ,欧盟将在 2 0 0 3年元月一日起 ,禁止工业界在清洗中使用 HCFC(精密零件清洗除外 ) ,2 0 0 4年起全面禁用 HCFC;美国的步调更快 ,2年多前已开始禁用 HCFC- 141b清洗剂 ,并计划 2 0 0 3年起禁止生产和进口 HCFC- 141b;日本计划2 0 0 0年起逐渐废除 HCFC- 141b,2 0 10年起逐渐废除HCFC- 2 2 5清洗剂。面对国际的管制趋势及 HCFC清洗替代技术的成熟发展 ,产业界应及早做好准备 ,以免受到不必要的抵制及经济冲击 ,造成损失。全球管制HCFC使用日趋严格@张焕芬…     

无溶剂型氟树脂粉末涂料

日本油脂公司同旭硝子公司共同开发了无溶剂型热固性氟树脂粉末涂料“超F”。它是用旭硝子公司溶液聚合法氟树脂的制造技术与脱溶剂技术及日本油脂公司的粉化技术与涂料技术制成的,据说这种涂料的开发在世界上还是首次。由于不含溶剂,所以不污染环境,可低温烧结,一次涂装即能获得50～60微米的厚膜,从而改进了涂装工序。已从1990年8月中旬开始供应样品,10月正式出售。     

新型氟树脂

氟树脂具有优异的耐热性、耐药品性、高绝缘性、低介电常数、非粘性、低摩擦系数等性能,已开发生产的氟树脂品种繁多。近年来日本旭硝子公司在此基础上又开发了具有新的功能用途的透明性氟树脂和耐候涂料用氟树脂,本文将予以概要介绍。     

日本的氟树脂

日本有四个公司生产氟树脂,即大金工业公司,三井氟化学公司,旭硝子公司1978年日本氟树脂的消费量为3585吨,比2977年增长了20%,其消费量的     

软质氟树脂Cefral Soft的特性与应用

日本中央硝子公司开发了一种新的具有柔软性,且加工性能良好的热塑性氟树脂,并已于1987年投放市场。大金工业公司的氟弹性体Daiel thermoplastic是氟橡胶链段与氟树脂链段的嵌     

日本中央硝子株式会社来华技术交流内容简介

1988年5月24日日本中央硝子株式会社的精细化学品理事、营业部长角谷元,中央硝子株式会社东京研究所主席研究员胜原丰及三井物产的柳田东生三位先生来京,与我化工部所属各从事氟化学产品研究和生产的有关单位进行了为期两天的技术交流,介绍了日本氟化学工业现状和中央硝子的氟化学产品。     

旭硝子在日本建造新的制冷剂装置

正日本旭硝子公司于近日宣布,计划采用专有的氟化学品技术,在日本其千叶工厂建设新的高效率的生产装置,于2015年年中开始供应新的制冷剂HFO-1234yf。该制冷剂将提供给霍尼韦尔公司位于美国路易斯安那州的制冷剂设施。HFO-1234yf制冷剂正被欧洲和美国汽车制造商越来越多地获得采用,由于其符合欧洲移动空调(MAC)指令和美国     

HCFC-123(1,1,1-三氟-2,2-二氯乙烷)发展动向

一、概述 1,1,1-三氟-2,2-二氯乙烷(HCFC-123)是目前世界上公认的最佳、最重要的氟里昂代用品之一。作为制冷剂,HCFC-123可取代CFC-11用于冷水机组的空调设备;作为清洗剂,可与HCFC-141b掺混取代CFC-113,用于电子精密仪器的清洗。Du Pont、ICI公司以及日本的大金株式会社均致力于HCFC-123的研制和工业化生产路线的开发。估计首批商品化产品将在     

日本开发划时代的软质氟树脂

最近中央硝子公司用特殊的接枝聚合法开发了划时代的软质氟树脂,它的柔软性优于原有的氟树脂,而气体透过系数小于聚四氟乙烯和氟橡胶。在ABS树脂类烃系聚合物的制备中,是经链转移进行接枝聚合的,但这种接枝聚合方法不适于氟聚合物的制备。迄今为止尚未     

软质氟树脂合成革

“/CENCIA”是组合了日本中心硝子公司开发的软质氟树脂的溶液化技术和东洋公司拥有的制膜技术,并有效地利用氟树脂所具有的优异特性而制得的新型合成革。是一种在氟橡胶中接入结晶性氟树脂的树脂产品,性能介于氟橡胶和氟树脂之间。把这种树脂溶于有机溶剂中,则可制得溶液型的“G180Y”。东洋公司把     

聚三氟氯乙烯、乙烯—四氟乙烯共聚物及乙烯—三氟氯乙烯共聚物薄膜的性能与应用

一、ETFE 薄膜乙烯-四氟乙烯共聚物(ETFE)是具有高耐候性、透明性、紫外线透射性的氟塑料,其耐辐射、物理机械及化学性能亦佳。ETFE70年代首先由杜邦公司以商品名 Tefzel 投放美国市场,由德国赫斯特公司以 Hostaflon 的商品名投放欧洲市场。嗣后,日本旭硝子公司和大金公司也组织了这种共聚物的生产,产品的商品名分别为 Aflon Cop 和 Neoflon ETFE。这种可熔融加工的氟聚合物用作在155℃以下温度工作的高频技术导线和电缆的绝缘,特别是计算机和飞机中的导线、电缆绝缘。电子学、电工技术     

3M公司收买Dyneon公司的另一半股权

3Ｍ公司已购买了其与赫司特的氟聚物合资公司———Ｄｙｎｅｏｎ公司拥有的 5 0 %的股权。据 3Ｍ专门材料市场 (Ｓｐｅ ｃｉａｌｔｙＭａｔｅｒｉａｌＭａｒｋｅｔｓ)机构报道 ,Ｄｙｎｅｏｎ现已作为 3Ｍ的子公司开始运作。Ｄｙｎｅｏｎ公司 1998年的销售额为 3 5亿美元 ,其氟弹性体、ＰＴＦＥ、氟塑料及相关产品的销量在全球居领先地位。它在美国、欧洲和亚洲均有生产和开发设施。3M公司收买Dyneon公司的另一半股权     

日本扩增LCP产能

日本住友化学公司在爱媛的液晶聚合物 (LCP)产能将翻番 ,达到 40 0 0t/a。扩建将使住友化学在日本LCP市场位于Ticona子公司宝理塑料公司之后居第 2位 ,宝理塑料公司在日本富士拥有 480 0t/aLCP生产能力 ,其他LCP供应商有索尔维先进聚合物公司、Ticona公司、依斯曼公司和杜邦公司。全球LCP市场为 2 1万t/a,其中 1 2万t/a由亚太地区生产.日本扩增LCP产能@钱伯章     

旭硝子公司开发销售含氟防湿涂料

旭硝子公司今年3月7日首次开发出装配好的印刷线路板等用的氟树脂类防湿涂料(商品牌号为),10日起正式销售。与在防湿涂料中占主流的丙烯酸类和聚氨酯类相比,这种涂料具有不需干燥工序的特点。预计第一年的销售额为2亿日元。是由特殊化合物与从表面活性剂中得到的氟化丙烯酸酯反应后,     

电子材料

正日本电气硝子与东旭光电合资据报道,日本电气硝子公司近日宣布,与东旭光电科技及其全资子公司福州东旭光电科技就平板显示器(FPD)用玻璃加工合资业务达成了一致。三方的合资公司"福州旭福光电科技"将加工并销售第8.5代FPD用玻璃。将向正在福建省建设工厂的中国最大液晶面板厂商——京东方科技集团的福州工厂供应FPD用玻璃。该合资公司将于2017年6月开始生产。对于新公司福州旭福光电科技,日本电气硝子将出资40%,东旭光电科技出资10%,福州东旭光电科技出资50%。总投资额为约7亿元。合资公司将使用日     

一步法生产均苯四酸二酐

日本催化剂公司将实现一项用杜烯 ( 1 ,2 ,4,5-四甲苯 )一步气相氧化法生产均苯四酸二酐 (ＰＭＤＡ)技术的工业化。此法比常法简单 ,且不产生酸性废物。常用的液相氧化法 ,用硝酸将杜烯氧化成均苯四酸 (ＰＭＡ) ,然后与醋酐反应转化成ＰＭＤＡ。在催化剂公司的一步法中 ,用一已获专利的金属氧化物催化剂在 30 0～ 40 0℃ ,常压下将杜烯氧化成ＰＭＤＡ。通过迅速急冷和结晶操作 ,从已反应的蒸气中直接回收ＰＭＤＡ。该公司预计此法的生产成本将低于常法 ,但不愿透露具体数字。催化剂公司将于今年春季在其姬路工厂开始以 50 0ｔ ａ的规模生产…     

含氟聚合物富集氧分离膜

世界第一个销售氧浓度达40％以上的富集氧膜分离单元组件的是日本旭硝子公司。目前已在关西工场内建设了组装单元组件的批量生产车间,进行试生产。这种组件可用于医疗用浓缩氧发生装置、小型供氧装     

Samsung精细化学公司开发四氯化碳处理技术

Ｓａｍｓｕｎｇ精细化学公司最近宣布已与Ｐｏｈａｎｇ科技大学(Ｐｏｓｔｅｃｈ)合作开发成功一项用于处理四氯化碳的新催化技术。四氯化碳为生产氟里昂的基本原料 ,后者主要用在生产制冷剂和喷雾剂方面 ,对环境产生污染。 1 987年Ｍｏｎｔｒｅａｌ协议已将四氯化碳确定为破坏臭氧层物质 ,2 0 0 5年将禁止生产和使用四氯化碳。Ｓａｍｓｕｎｇ精细化学公司耗资 1 0亿 ,并经过两年多时间的研究 ,开发成功的催化处理工艺可将四氯化碳转变为二氯甲烷 (ＣＨＣｌ3) ,此项技术已申请 3项国家专利。Samsung精细化学公司开发四氯化碳处理技术…     

含氯氟烃替代物HCFC-141b的毒性试验小组成立

为了加快含氯氟烃替代物HCFC-141 b毒性试验计划的执行,8家含氯氟烃生产公司联合成立了一个研究试验小组。最近正在考虑用HCFC-141 b代替对臭氧层有破坏作用的CFC-11,用作聚氨酯、聚异氰脲酸酯和酚醛泡沫塑料生产时用的发泡剂。参加该试验小组的公司有杜邦公司、联合信号公司、佩恩沃尔特公司、阿托化学公司、阿克佐公司、索尔维公司、大金公司和ISC公司。试验小组希望通过共同的研究工作把试     

添加剂对静态条件下HCFC-141b水合物生成的促进作用

本文针对静态条件下水合物形成诱导时间长、生长缓慢、随机性大的问题,实验研究了静态系统中HCFC-141b(R141b)制冷剂水合物的生成促进技术以及表面活性剂SDS、Cu丝对HCFC-141b水合物形成的促进作用。研究结果表明SDS和Cu丝可大幅缩短HCFC-141b水合物形成诱导时间,促进静态条件下水合物的快速生成。实验发现SDS+Cu丝促进体系中的SDS添加量存在最佳质量浓度,SDS的最佳质量浓度为0.1%,在此条件下水合物形成平均诱导时间约为1.3 h,水合物生成重复性好,生成的水合物密实。