用于真空电弧离子镀膜的受控电弧蒸发源

本文在研究了阴极弧斑运动规律的基础上，发展了多功能受控电弧蒸发源，它可在自由电弧状态下运行，而在２００～２５０Ａ高参数运行时，可使阴极弧斑覆盖几乎整个阴极表面且多轨迹旋转，使阴极烧蚀均匀，提高了镀膜沉积速率，薄膜质量也相应提高。研制的另一种环形阴极旋转电弧蒸发源，可基本消除液滴，使阴极利用率更高。     

第二十讲 真空离子镀膜

(接2019年第6期第86页)b对电弧蒸发源的技术要求在正常镀膜气压下(5×10-1Pa),靶电流的可调范围较大(如以直径60mm圆形钛靶为例,靶电流范围35A^100A),而且在靶电流低(靶电流下限)时能稳定弧的运动;在高真空下(10-3Pa),可正常稳弧;磁场可调,靶面弧斑线细腻,弧斑线向靶心收缩且向靶边扩展运动均匀,靶面刻蚀均匀。     

真空电弧放电稳定性

本文研究了真空阴极电弧放电过程中阴极电弧源工作稳定及其影响因素,研究了真空电弧斑的产生及运动规律。     

多层复合真空离子镀膜技术的新发展

本文回顾了多弧——磁控溅射多功能离子镀膜设备的结构和功能，并且对该设备在氮化钛掺金离子镀（IPG）方面的典型应用，做了较为详细的膜层性能分析。同时，本文了对近年来一种新型的多功能离子镀设备——复合式离子镀膜设备的结构及特点做了介绍，给出了该类型设备的典型应用场合，并且向读者介绍了使用该设备镀制的金属/金属陶瓷多层膜的优异性能。     

第二十讲 真空离子镀膜

f圆形平面可控电弧蒸发源圆形平面可控电弧蒸发源的原理如图40所示。其磁场由静止的外磁环和往复运动的中心磁柱构成。靶材上方的磁场可分解为水平磁场B//和垂直磁场B⊥。B∥束缚部分电子并使其作圆周运动,致使阴极辉点作圆周运动。B⊥迫使作圆周运动的电子作径向运动,导致阴极辉点的径向运动。     

脉冲真空电弧镀的实验研究

本文介绍了利用脉冲真空电弧进行镀膜的初步研究结果。主要研究了在不同电气参数、结构参数……条件下，在炭钢基材上镀铝合金膜和不锈钢膜及影响成膜性能的因素。研究结果表明，这种镀膜方法，可以镀各种金属和合金膜；具有设备简单，镀膜速率高等特点，但仍需进一步消除膜中的大颗粒，改善膜的表面光洁度。     

阴极电弧沉积技术及其发展

本文分析了阴极电弧等离子沉积技术，以及有关的机理和应用，与其它物理气相沉积技术也作了定性和定量的比较，特别强调了重要的技术方面和最近的发展。     

离子沉积电弧蒸发电源装置

ＺＸＧ型离子沉积电弧蒸发电源装置，专门用于多弧离子镀膜机的电弧蒸发。本文 基于阴极放电的机理，对此装置的功率规范，电流调控特性作了具体分析与论证，并给 出了试验数据．     

真空电弧镀DZ22合金NiCrAlY涂层性能研究

真空电弧镀ＤＺ２２合金ＮｉＣｒＡｌＹ涂层性能研究北京航空材料研究所吴凤筠一、前言真空电弧镀膜设备Ａ１０００采用电弧放电直接蒸发镀膜材料制成的阴极靶，与同类型镀膜设备一样有如下特点：ａ．金属阴极蒸发源不熔化；ｂ．由磁场控制电弧放电，可细化膜层微粒；ｃ．...     

离子镀膜技术的进展

本文概括地介绍了五十年来离子镀膜技术的发展概况,介绍了离子镀膜技术的意义、原理、特点、发展和应用范围。从D.M.Mattox发明离子镀膜技术以来的五十年中,离子镀膜技术适应高端产品加工和高新技术发展的要求,得到了飞速发展。各种激励气体放电过程技术,提高等离子体密度的措施层出不穷,满足各种需要的新的薄膜材料在各个应用领域得到了广泛的应用。对国防事业、宇航事业、高新技术产品和美化人民生活做出了突出贡献。我们期待离子镀膜技术继往开来,在新的五十年中再放光彩。     

LSA—1型电弧离子镀膜机结构研制

简述了电弧离子镀的进展及其特点;介绍了它的工作原理,着重论述了电弧离子镀膜机的基本结构及作用和真空泵的选择,最后指出了它的应用前景。     

真空电弧离子镀膜方法沉积类金刚石膜在PMMA树脂义齿表面的应用

采用电弧离子镀膜方法,以高纯石墨为碳离子源在PMMA树脂义齿表面沉积类金刚石膜.应用xps谱和Raman谱对膜层的结构进行了理论分析,对镀膜样品进行了抗磨性能实验、病理实验和临床实验.结果表明为了提高样品的膜基结合强度,必须在DLC膜与基材之间增镀一层钛氧化物作为过渡层,必须严格控制工作电压、工作室的真空度和气氛配比.     

阳极真空电弧镀膜方法及其应用

介绍了阳极真空电弧镀膜方法的镀膜装置、工作原理及电弧等离子体微观过程。就其应用前景进行了展望。     

离子镀膜中的弧电流对膜层质量的影响

论述了电弧电流对多弧离子镀膜层的硬度，厚度及其外观形貌的影响，并进一步阐述了电弧电流在实际应用中的作用，说明了镀制不同功能的膜层，应选择不同弧电流的重要性。     

全玻璃太阳能真空集热管的镀膜技术

本文介绍用磁控溅射镀膜机制取的铜／不锈钢——碳质膜层的特点及膜的制取工艺。     

真空电弧的特点及几种常用金属的真空电弧现象

真空电弧技术愈来愈广泛地应用于离子镀技术．但由于不同的阴极材料的固有性质不同，真空电弧现象也不同．为能更好地将真空电弧应用于离子涂复技术，本文较简洁地介绍了真空电弧特点及一些金属和合金的真空电弧现象．     

新型真空电弧精炼炉

介绍了老式真空电弧炉VHD和奥地利英特科(Inteco)特种冶炼技术公司最近设计的新型真空电弧精炼炉VAD系统。新系统在设备利用率方面和炼钢质量方面,同当前广泛应用的LF-VD炉相比,各项指标均超过后者,具有无比的优越性。     

高频逆变真空电弧蒸发电源

高频逆变真空电弧蒸发电源是现代电力电子技术与微电子技术的综合产物，因其具有高效节能、形小体轻、真空电弧稳定等特点，势必发展成为新一代电弧蒸发电源。本文就其主要工作原理、设计计算、实验数据等进行了分析研讨，并举电路实例供参照     

高频逆变真空电弧蒸发电源

高频逆变真空电弧蒸发电源是现代电力电子技术与微电子技术的综合产物，因其具有高效节能、形小体轻、真空电弧稳定等特点，势必发展成为新一代电弧蒸发电源。本文就其主要工作原理、设计计算、实验数据等进行了分析研讨，并举电路实例供参照     

真空电弧沉积技术中的弧源设计

讨论了真空电弧沉积中弧源设计的有关问题 ,如电弧运行模式、电弧极性、点火方式、电弧的约束方式以及宏观粒子抑制方式等。分析表明 ,合理选择电弧运行模式和电弧极性 ,以满足涂料粒子蒸发与离化的要求 ;选择合适的弧源结构 ,加强对电弧的约束与烧蚀的控制 ,或用过滤弧源 ,以抑制宏观粒子对涂层的污染 ,是成功设计弧源的关键