气相沉积技术

随者微电子、宇航、超导、激光、核能、传感技术及太阳能利用等现代科学技术的发展和工业自动化的需要，材料的表面改性技术发展很快。气相沉积则是其中发展最快的技术之一。它适合于制备超硬、耐蚀、抗氧化、超导、光敏、热敏、磁记录、信息存储，光电转换、太阳能吸收等备种功能。性涂层，也可用于备种装饰涂层。     

纯钛TAl化学气相沉积表面改性层的耐磨性能研究

为提高TAl表面的耐磨性能，在TAl表面采用化学气相沉积(CVD)表面处理。用X射线衍射的方法测定了改性层的物相。使用显微硬度计测定了改性层和基体的硬度，在往复式滑动磨损试验机上进行磨损试验，通过扫描电子显被镜分析磨痕形貌。结果表明，TAl经过CVD处理，表面由α-Ti、Ti2N及TiN组成，显微硬度为989HV0．025。干摩擦条件下，经化学气相沉积处理的TAl材料的表面改性层的耐磨性得到了明显提高。     

化学气相沉积金刚石薄膜衬底的研究进展

讨论了化学气相沉积金刚石薄膜的各种衬底材料。气相合成金刚石衬底材料分为3类，第一类是能和碳形成碳化物的衬底；第2类是与碳不起反应（不形成碳化物）但能溶碳的衬底；第3类是既不与碳反应又不熔碳的衬底。第一种一般与金刚石薄膜有比较好的粘合性，后两种虽然使金刚石成核容易，但衬底材料与金刚石薄膜结合性较差。采用预处理是促进化学气相沉积金刚石薄膜与增强结合力非常有效的方法。     

等离子体化学气相沉积超硬薄膜

本文简述了PCVD技术的原理、特性、设备。并对其制备的TiN、TiC、Ti(C_xN_y)超硬膜进行了显微硬度和化学成份等分析,最后介绍了该项技术在冷挤压冲头上的应用实例。     

化学气相沉积

化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)是利用化学反应由气相生长固体物质的方法。一般把反应物是气体而生成物之一是固体的反应称为CVD反应。通常CVD要利用高温或其它激活方法,依靠化学反应制取所需要的薄厚膜。     

铂薄膜化学气相沉积动力学规律探讨

以乙酰丙酮铂为沉积源物质，采用金属有机化合物化学气相沉积（MOCVD）法在Mo基体上制备了Pt薄膜，研究了Pt薄膜的沉积速率与基体温度、乙酰丙酮铂的加热温度和运载气体（氩气）流速等沉积参数的关系。Pt的沉积速率与沉积温度之间的关系不符合Arrhenius方程：沉积速率与绝对温度的倒数呈现抛物线关系，当温度为550℃时，Pt的沉积速率达到最大值，随着乙酰丙酮铂加热温度的升高，Pt的沉积速率直线增加，而氩气流速的增大则显著减少Pt的沉积速率，SEM波谱成分分析表明，Pt薄膜中含有少量的氧。     

低温下的氮化钛化学气相沉积（一）

文中介绍的是４００～７００℃之间在基体上生长ＴｉＮ膜的一种新方法，由ＴｉＣｌ４和ＮＨ３通过化学气相沉积形成膜，生长速度已达到０．１μｍ／ｓ。这种方法用途广泛，测量了膜的光学性质，并用Ｄｒｕｄｅ理论对得到膜的等离子频率进行了理论上的分析，根据ＭａｘｗｅｌｌＧａｒｎｅｔｔ改进的Ｄｒｕｄｅ理论解释了较薄的膜在ＩＲ区反射率的降低，对膜在热镜上和其它方面的应用进行了讨论。     

化学气相沉积

利用气态物质在固态工件表面进行化学反应、生成固态沉积层的过程,称为化学气相沉积（Chemical VaporDeposition,CVD）。化学气相沉积有3个要点：①涂层的形成是通过气相化学反应完成的;②涂层的形核及长大是在基体表面进行的;     

化学气相沉积制膜技术的应用与发展

化学气相沉积作为一种有效的表面工程技术手段，发展十分迅速，应用范围日趋广泛。本文介绍了化学气相沉积制膜技术在国民经济各个领域中的应用及其发展趋势。     

纯钛TA1化学气相沉积表面改性层的耐磨性能研究

为提高TA1表面的耐磨性能,在TA1表面采用化学气相沉积(CVD)表面处理.用X射线衍射的方法测定了改性层的物相,使用显微硬度计测定了改性层和基体的硬度,在往复式滑动磨损试验机上进行磨损试验,通过扫描电子显微镜分析磨痕形貌.结果表明,TA1经过CVD处理,表面由α-Ti、Ti2N及TiN组成,显微硬度为989hV0.025.干摩擦条件下,经化学气相沉积处理的TA1材料的表面改性层的耐磨性得到了明显提高.     

化学气相沉积制备铂族金属涂层及难熔金属

综述了化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)技术制备高温抗氧化涂层-铂族金属(Pt、Ir)涂层及难熔金属(W、Mo、Ta、Nb、Re)的方法.并对部分有报道的沉积参数以及沉积参数对沉积层结构及性质的影响进行了介绍.     

激光化学气相沉积(LCVD)制取TiN薄膜

研究了在W18Cr4V高速钢基体上，用CO2连续激光诱导化学气相沉积TiN薄膜的工艺方法。激光功能600W，在H2、N2、TiCl4反应系统中沉积出TiN薄膜，薄膜的颜色呈金黄色，显微硬度为2500HV。     

微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜的进展

评述了用微波等离子体化学气相沉积法制备高质量人造金刚石薄膜的最新动态和发展趋势，介绍的内容包括：制备仪器、应用领域、沉积条件等。     

铂族金属化学气相沉积

化学气相沉积（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ,ＣＶＤ）技术可用在高熔点金属如Ｍｏ、Ｒｅ、Ｗ等表面制备结合力好的铂族金属涂层。用ＣＶＤ法可得到具有微细晶粒的致密金属（无针孔）涂层,可制成大形状和形状复杂的制品,也可用于合金涂层的制备。本文介绍了该项技术的国外发展概况,并以高温抗氧化铱涂层（可耐受２０００℃高温）为代表,叙述了铂族金属涂层的特点以及该项技术在制备涂层过程中的基本步骤     

沉积温度对化学气相沉积铼涂层性能的影响

利用五氯化铼热分解反应,采用冷壁式现场氯化化学气相法在钼基体沉积铼涂层,分析不同沉积温度对铼涂层的物相组成、沉积规律、表面形貌、密度和硬度的影响。实验结果表明:沉积所得均为纯铼涂层,晶粒生长方向均以(002)晶面为主;随着沉积温度的上升,铼涂层的沉积速率和沉积效率大幅提升,表面形貌由复杂多面体态变为六棱锥状;涂层组织致密,相对密度最高可达99.9%,维氏硬度随沉积温度升高而升高,最高达6100 MPa。     

低温化学气相沉积TiN及其应用

本文主要介绍一种化学气相沉积氮化钛涂层的新方法，该涂层是采用亚氯化钛和氨在低压和４５０℃－６５０℃的条件下获得的，在沉积室中反应形成的。此法获得的ＴｉＮ涂层有良好的表面结合力以及抗蚀和耐腐性能，文中除对其工序与涂层性能予以介绍外还着热处重说明它在塑料工业模具听应用。