溅射FeSiAl合金薄膜的结构及软磁性能

Ｓｅｎｄｕｓｔ合金是制做薄膜磁头和ＭＩＧ磁头的理想材料，本工作用射频溅射法了备了Ｓｅｎｄｕｓｔ成分的ＦｅＳｉＡｌｗ合金薄膜，研究了制备对膜结构和软磁性能的影响，并对其机理进行了讨论。     

磁头DLC保护膜的研究现状

概述了应用于硬盘磁头表面的类金刚石薄膜(DLC)保护膜的性能要求、微观结构模型、生长机理及制备方法,总结了影响薄膜性能的因素和薄膜的表征方法,分析了当前影响类金刚石薄膜在磁头行业中应用的因素及可能的解决办法,并展望了应用于磁头表面等半导体行业的高性能DLC薄膜的制备前景.     

工业用巨型磁控溅射靶电源反馈控制的研究

磁控溅射技术在薄膜制备领域的应用十分广泛，而溅射靶电流的稳定性极大的影响溅射镀膜的膜层质量。本文对于工业用巨型磁控溅射靶电流的不稳定因素进行了分析，设计并实现了靶电压的反馈控制系统，大大改善靶电压与反应气体流量之间的迟滞回线，增强了靶电压的可控制性，并在实际生产中得到成功应用。     

磁头局部结构的优化设计和数值分析

在磁头磁盘系统中,磁头尾端与磁盘的气膜最小,局部结构承受很大的气膜压力,其气膜压力的大小和分布对磁头飞行稳定性有重要的影响.采用优化设计理论对磁头尾端局部结构进行设计,可明显改善气膜承载性能.最后,采用提出的优化设计方法对负压型磁头结构进行设计.数值分析和实验测试表明,优化后的磁头结构飞高性能参数明显得到改善.     

直流磁控溅射Cr/Cr2O3金属陶瓷选择吸收薄膜的研究

光谱选择吸收薄膜的制备是太阳能集热器高效吸收太阳能的关键技术。本文首先研究了磁控溅射Cr／Cr2O3金属陶瓷选择吸收膜中，氧气流量、溅射靶电流等基本参数对靶电压的影响，然后对不同氧气流量和靶电流条件下制备的Cr／Cr2O3金属陶瓷选择吸收膜的光学常数采用椭偏仪进行了研究，得到了不同工艺条件下的Cr／Cr2O3金属陶瓷薄膜的光学常数，最后经过膜系设计和试验镀制，制备出了室温下吸收率α≥95％、发射率ε≤5％的高性能太阳能选择吸收膜。     

液相烧结制备高密度R5K MnZn铁氧体磁头材料

低熔点氧化物添加剂在烧结时形成液相,可促进MnZn铁氧体磁头材料致密化,提高密度,改善磁性能.采用液相烧结,制备了组成为Mn0.60Zn0.32Fe2.08O4的高密度MnZn铁氧体磁头材料.     

解决直播中磁头堵塞的一种办法

现场录像及新闻直播中磁头堵塞令人担扰，本文分析了造成磁头堵塞的原因，介绍了解决直播中磁头堵塞的具体方法，并对ＳＯＮＹ公司在Ｂｅｔａｃａｍ录像机上使用的清选磁头装置提出了疑问。     

磁头用非晶软磁合金的研究

本文通过调整合金成份,研制出一种较为理想的非晶磁头材料(FeCoCr)_(78)Si_8B_(14).该合金的主要特点是:不经过热处理就可直接做成磁头,其电磁性能稳定、频率持性好、失真度小、磁头使用寿命长。该合金的制备工艺简单、易于生产.     

核聚变用靶丸材料研究进展

激光驱动惯性约束点火是实现核聚变的最有效途径之一,靶丸的设计与制备技术一直是激光惯性约束聚变研究中的核心技术。综述了目前靶丸材料体系的研究现状,重点介绍了理论计算十分有利于点火实验的纯B4C空心微球靶丸。最后,对B4C空心微球靶丸的制备成型工艺进行了展望。     

液滴法在惯性约束聚变靶丸制备技术中的应用

综述了液滴法用于制备惯性约束聚变（ICF）物理实验靶丸中的历史、现状与发展，评述了液滴法制备玻璃微球、塑料微球、泡沫微球和金属微球的优缺点和弥补技术，初步探讨了液滴法作为ICF靶丸制备技术的方向。     

Fe3Si基合金的制备及应用研究进展

Ｆｅ３Ｓｉ基合金具有优异的软磁性能,不仅有希望硅钢片（在高频信息领域）,而且还广泛用作音几视频磁头材料和卡片阅读器用磁头材料。本文综述了Ｆｅ３Ｓｉ基合金的制备工艺及应用,并结合我们的研究工作,分析了其研究现状,简要论述了其发展前景。     

磁头材料的研究开发

本文对磁头材料的发展现状和应用状况作了详尽的叙述，并且对磁头材料技术方向作了相应的探讨。     

界面梯度对TiN／不锈钢涂层应力的影响

气相沉积表面涂层在科学技术各领域得到广泛应用，然而，由于涂层与基体在化学和物理性质上的差异，使得涂层与基体在界面两侧产生结构和性能上的突变，影响了涂层功能的充分发挥。为此，采用多靶磁控溅射技术制备了具有梯度过渡层的ＴｉＮ／不多靶磁控溅射技术制备了具有梯度过渡层的ＴｉＮ／不锈钢涂层，并研究了梯度层对涂层内应力的影响。研究结果表明：采用多靶磁控溅射技术，分别控制各靶的功率，能够精确控制梯度层的成份变化     

聚酰亚胺材料在惯性约束聚变制靶中的应用

聚酰亚胺材料机械性能、热性能及耐辐照性能都很好，是惯性约束聚变制靶中比较重要的靶材料。在制靶中最主要的应用是制备空心微球，其次是薄膜和柱腔。综述了聚酰亚胺材料的主要性能，聚酰亚胺微球的制备历史、现状及当前的发展方向。探讨了国内聚酰亚胺微球研制的基本思路。另外简单回顾了聚酰亚胺薄膜和柱腔在惯性约束聚变制靶中的应用现状。     

背光成像技术在DT冷冻靶研制中的应用

主要介绍了背光成像实验样机的组成及工作原理,讨论了各光学部件的选择,在原理型样机建成后,获得了玻璃微球靶高质量的背光图像,通过对背光影像的光路图分析与测量(测量精度达到1μm),掌握了靶球DT冰层厚度的计算方法;初步建立了靶球二维内外表面粗糙度分析方法;通过设计模拟实验,获得了冰层在微球靶丸内均匀分布后清晰的背光影像.运用实验结果来模拟冷冻靶球DT燃料行为是非常重要的,它将为点火靶的设计和特殊表面粗糙度靶球的制备提供强大的支撑.     

高分子材料在ICF靶中的应用及其制备技术

概述了高分子材料在惯性约束聚变靶中，作为氘－氚燃料容器、泡沫材料、空心固体靶丸、膜层材料、靶装配胶等方面的应用，并简要介绍了有关材料的特性及其制备方法。     

中频双靶反应磁控溅射制备TiO2膜的一些探索

具有高折射率的TiO2膜在反射型液晶显示器的关键部件高反射率背板膜系的制备中起重要作用，本文使用国内首家在线中频双靶反应磁控溅射设备进行了制备TiO2膜的探索，完成了相应的膜层测试与分析。实验结果表明双靶磁控反射溅射可以制备高折射率的TiO2膜，实验还从折射率的角度证明中频双靶反应溅射与直流反应溅射的效果一致,为进一步提高膜层沉积速率以适应工业生产需求需要引入更有效的溅射过程控制手段。     

磁头用软磁合金的最新发展

10年来,磁头用软磁合金取得了许多新的发展,包括:新型 Ni-Fe 坡莫合金、Co-Fe 合金、Fe-Al 和 Fe-Al-Si 合金,由连续快淬制备的(Fe、Co、Ni)_(75)(Si、B……)_(25)型非晶态软磁材料,双膜磁头用软磁薄膜和垂直磁记录用非晶态薄膜。本文讨论了这些新的发展及其应用前景。     

磁头材料的国内外发展情况

本文综述了国内外磁头材料的发展情况。介绍了目前各国正在大量使用的坡莫合金磁头的牌号和性能数据。着重介绍了国内外正在推广使用的高硬度耐磨磁头合金的牌号、成份、性能及在我国的使用情况。对于国外正在研究的新型磁头材料,如Fe-Si-Al合金加工成薄带的研究、薄膜磁头材料、非晶态磁头材料和合金间化合物磁头材料等的研制状况进行了介     

L1_0-FePt/Fe交换耦合多层梯度膜的微磁学模拟

以微磁学理论为基础,详细研究了磁晶各向异性梯度变化对L10-Fe Pt/Fe交换耦合多层梯度膜磁性能的影响。结果显示,随着梯度跨度增大,矫顽力和剩余磁化强度逐渐减小。适当低的矫顽力使磁头容易记录信息,但大幅度降低的剩余磁化强度不利于磁头读取信息。通过在L10-Fe Pt/Fe交换耦合多层梯度膜上覆盖一层2.5nm的L10-Fe Pt硬磁层后,矫顽力基本不变,但剩余磁化强度大幅度提高,解决了磁头读写信息的矛盾。此结论对实验制备交换耦合类梯度介质具有一定的指导作用。