扫描近场光学显微镜原理及其应用

扫描近场光学显微镜是八十年代以来迅速发展起来的一种光学扫描探针显微技术，本文对ＳＮＯＭ的发展历史，基本原理，技术方法，理论问题及应用前景进行了系统的介绍。     

亚波长结构纳米孔的近场光学测试

利用微纳加工工艺制作了亚波长结构纳米孔,应用近场光学显微镜(NFOM)对样品进行了近场光学性质的测试,获得了样品的近场光强分布,测得其近场光斑直径约为120 nm,测试结果证明了环形周期性结构对中心纳米孔的增透和聚焦作用,为环形亚波长结构的纳米孔应用奠定了基础。     

纳米光子学综述

纳米技术与近场光学这一学科的结合导致了高科技领域一门新的学科纳米光子学的出现.近场光学探针和近场光学显微镜作为研究手段,使纳米光子学的研究有了可行性,而且使纳米光子学研究领域进一步扩大.在介绍纳米光子学领域出现的一些新器件与新技术的基础上,综述报道了纳米光子学在近场光化学气相制备、与量子计算的联系等方面取得的一些新进展.     

一种纳米分辨率近场光学显微镜：光子扫描隧道显微镜

报导了我们研制的一台光子扫描隧道显微镜。论述了原理，结构，光纤探针制造，信号放大以及调试中解决的几个技术问题等。图像的横向分辨率优于１０ｎｍ，纵向分辨率约１ｎｍ，扫描范围１０μｍ×１０μｍ。还观察了云母、高密度聚乙烯ＨＤＰＥ高取向薄膜等透明材料以及铌酸锂（ＬｉＮｂＯ３＋Ｔｉ）波导的电光效应等     

纳米钻石成为近场光学新利器

法国科学家成功地将一个钻石纳米微晶接上扫描式光学显微镜的探针,并利用它取得纳米结构的近场影像。由于钻石纳米微晶在室温下非常稳定,因此有潜力应用在不同的领域,例如高解析磁力仪以及量子等离子学上。     

光学光刻技术向纳米制造挺进

概述了光学光刻技术向纳米制造挺进过程中光源、光学系统、照明技术、掩模设计、抗蚀剂、光学邻近效应校正、工作台等方面的进展以及光学光刻技术在大批量生产应用中的优势,并介绍了国外开发极紫外光刻技术的技术指标,预测了光学光刻技术的前景。     

近场光显微镜

本文介绍近场光学显微镜的种类、构成和控制技术。也报告了近场光显微镜的应用。     

超分辨近场结构之纳米光刻技术

超分辨近场结构(Super-RENS)是在传统的超分辨光盘技术和近场光学的基础上发展起来的新技术.介绍了超分辨近场结构的基本原理及其在纳米光刻方面的应用,拓展了超分辨近场结构的外延:在近场范围内,能实现超过衍射极限的纳米多层膜结构.局域表面等离子体效应在高密光存储、纳米光刻等纳米光子学研究领域具有重要的科学意义和应用价值.     

近场光学显微术进展

讨论了近场光学显微术发展及其理论知识，重点介绍了近场光学显微镜的工作原理、构造设计、工作方式等，概述了近场光学显微术的应用领域和应用成果。探讨了近场光学显微术目前存在的主要问题和需要解决的问题。     

高空间分辨率和高光谱分辨率的近场扫描光学显微术

光学显微术的应用通常受到可见光波长赋予的标准分辨率极限的限制,近场扫描光学显微镜(NSOM)可以超越这一极限。与常规光学显微术相比,近场扫描光学显微术的空间分辨率获得极大提高。Guest等人报道了这一领域的重大进展,提出一种将近场扫描光学显微术的高空间分辨率与相干非线性光谱学的高光谱分辨率相结合的新技术。     

利用近场光学显微镜精密观察单个分子

利用近场光学显微镜精密观察单个分子最近研究人员使用分辨率为５０ｎｍ的光学显微镜观察了单个染料分子，其分辨率为研究应用的波长６００ｎｍ的光波衍射极限的１／６［１］。图１用同一尖端探针同时用切向力扫描（上图）和近场光学扫描（下图）研究云母表面光合作用膜的...     

纳米光学

纳米光学是纳米科学和纳米技术的新方向 ,它使用的光限定在空间尺寸 a λ(λ为波长 )或体积 V λ3内。它应用激光与原子、分子、团簇和纳米结构的线性或非线性、经典或量子相互作用的新的或改型的已知效应。这一领域的实际发展以激光和可将光局限在极小尺寸的亚微米结构 (纳米孔、纳米缝、纳米针等 )的纳米技术为基础。纳米光学的基本特点是 :1)为了以纳米空间分辨率研究物质的结构 ,激光能够非常强烈地局域化 ,但能保持光学特征的光谱选择性。 2 )与自由空间情况相比 ,纳米结构处的物质 (原子、分子等 )对局域化光的响应有显著变化。本文…     

近场光学显微术进展

讨论了近场光学显微术发展及其理论知识,重点介绍了近场光学显微镜的工作原理、构造设计、工作方式等,概述了近场光学显微术的应用领域和应用成果,探讨了近场光学显微术目前存在的主要问题和需要解决的问题。     

扫描切变力/近场光学显微镜研制及应用

在发展光纤探针制备和探针与样品近场间距非光学控制等关键技术基础上，我们研制成能与倒置光学显微镜联合使用的扫描切变力／近场光学显微镜，并具有反射和透射等工作模式以及能在溶液环境中工作。利用这套系统，获得了多种样品的表面形貌和近场光学图像以及细胞内的荧光光谱。本文将对该系统和有关实验结果作简要介绍。     

光学光刻新设备与技术介绍

1　瑞士推出一种新颖的高分辨率光刻技术　　瑞士苏黎世ＩＢＭ实验室的研究人员已研制出一种十分简单的光学光刻技术 ,它可以印制比所用光波长 1 / 2还要小的特征尺寸。无需复杂而又昂贵的聚焦光学系统。含有图形的“光图章”直接置于晶片上 ,不同于传统的接触式光刻技术要采用玻璃上铬掩模 ;ＩＢＭ实验室开发的新方法采用橡胶式掩模 ,与晶片均匀地接触。当光透过这种掩模时 ,将图像传入衬底 ,并在凹进区域被封锁或反射。通过起推进作用的聚焦效应和“光图章”与抗蚀剂间的紧密接触来减小光散射 ,使其与折射率匹配。工作人员采用 2 48ｎｍＫ…     

扫描近场光学显微镜有源光纤探针的研制

研制了用于扫描近场光学显微镜的新型光纤探针，采用熔拉法和腐蚀法相结合制作出掺Ｅｒ＾３＋光纤探针，实验测试了这种光纤探针的放大的自发辐射。探针可提高系统的灵敏度，降低图像的相干噪声。