ZnO薄膜声表面波电视中频滤波器

本文简要介绍了ZnO薄膜的制作,ZnO/玻璃层状结构这种SAW基片材料的几个主要性能以及ZnO薄膜SAW TV IF滤波器的制作和应用。     

薄膜制作技术的现状

一、前言 薄膜制作技术有多种方法。本文只介绍采用真空技术的薄膜制作技术。最基本的薄膜制作法可大致分为两种,一种是选择除去法,另一种是附加法。 前者是在某种化合物存在固体表面时,只除去表面的特定原子,使表面形成与其内部异质的薄层,从而形成薄膜。该薄膜与其下部的物质附着性极好,但形成的薄膜和其基片材料受到很大制约,所以该法用得不多。     

用RF同轴磁控溅射技术制作C轴择优取向ZnO薄膜

ZnO薄膜是一种性能优良的多功能电子材料,用途十分广泛。本文介绍了我所研制的RF同轴磁控溅射装置及成膜技术。用此设备已制作出c轴择优取向的ZnO薄膜,并经各种检测证明膜质优良。用这种技术溅射制作的ZnO薄膜彩电中频滤波器性能良好,完全满足器件要求。本装置制作的薄膜膜厚均匀区宽、膜质好,不仅适用于ZnO薄膜的小批量生产,也可用于溅射沉积其它各种介质膜和金属膜。     

相对介电常数大于100的BST(钛酸锶钡)薄膜

南京电子器件研究所采用 RF磁控溅射法成功研制出室温下相对介电常数高于 1 0 0的 BST薄膜。采用具有自主知识产权的工艺技术制作了大直径 BST溅射靶材 ,用这种靶材制作 Pt/BST/Pt薄膜电容 ,在 Si/Si O2 衬底上溅射 BST,其膜厚典型值 2 80 nm。该技术采用了在 RF磁控溅射 BST时     

透射电子显微镜对接膜样品的制作

在透射电子显微镜(TEM)样品制作中,对接膜样品制作最为复杂,同时得到的薄膜信息也非常多,是进行材料研究的一个非常有用的观测方法.并介绍了这种样品的制作过程和样品的测试分析情况.     

在光纤上沉积取向ZnO薄膜

本文介绍在直径为80μm的熔石英单模光纤的一侧直接溅射沉积取向ZnO薄膜的工艺。一个由这种薄膜复合而成的4GHz压电换能器验证了薄膜的取向性。频率扫描的换能器输入阻抗矢量给出了光纤中存在声波的证据。直接制作在光纤上的声换能器由于有效的声-光互作用而在光纤中心产生场聚焦,有可能制作许多新的光纤-光学信号处理器件。     

用等离子体蚀刻法提高浮雕全息光栅的衍射效率

本文提出了用等离子体蚀刻法提高浮雕全息光栅衍射效率的原理和方法.从光致抗蚀剂层蚀刻到Si_3N_4薄膜层的光栅衍射效率已达31.2％,比原版光致抗蚀剂层母光栅的衍射效率提高了2.5倍。这种方法可制作优质的浮雕薄膜光栅。     

CuTCNQ有机薄膜器件的研究

报道了采用CuTCNQ有机分子薄膜制作器件的尝试。在厚度为100nm的铜膜上，利用液相自蚀生长法制备得到CuTCNQ有机薄膜。不同生长温度及时间下，生长薄膜的形态结构不同，这表明时间和温度是影响CuTCNQ生长的重要因素。采用半导体器件平面制作工艺，制备出了金属—CuTCNQ—金属结构的二端器件，并进行了器件电学特性的测量，发现这种结构的CuTCNQ器件存在明显的整流特性。     

二元光学元件的制作及其误差分析

详细介绍了二元光学元件制作的光刻技术和一些新的制作工艺,包括薄膜沉积法、激光束或电子束直接写入法和准分子激光加工法．针对用于ＣＯ２激光器模式优化的二元光学反射镜,分析了元件制作误差,包括掩模对准误差、台阶刻蚀深度误差和台阶刻蚀宽度误差对谐振腔振荡模式的影响．     

激光物激光烧蚀法制备铁电和压电薄膜

本文叙述用激发物光辉烧蚀法沉积几种铁电和压电薄膜的制备法和性能，并介绍了这种些薄膜在微电子学器件和微波声学器件方面的应用。     

聚合物分散液晶的电场诱导定向聚合实验研究

实验研究了聚合物分散正性和负性向列相液晶的电场诱导定向聚合,给出样品实物照片和偏光显微镜照片。实验结果表明,样品在施加电场和不施加电场的不同区域具有明显区别,在制备聚合物分散液晶样品时施加电场有诱导定向聚合作用。实验结果对于研究聚合物边界条件对液晶微滴构型的影响,对于设计新型液晶显示器件具有一定的启示意义。     

液晶含量对聚合物/液晶复合膜电光特性的影响--从正型向反型显示模式的转变

预聚物与正性液晶以适量配比合成的聚合物／液晶复合膜通常呈正型显示,即膜在关态时呈散射态,在开态时呈透射态。然而实验发现,用高的液晶配比合成的膜在适度电压驱动下能呈现反型显示,即这种膜在关态时呈透射态,在适度电压作用下呈散射态。在制膜过程中,如能将液晶做沿面取向处理,则膜的反型效应更加明显。用聚合物／液晶复合膜的反型显示机理,可开发出一系列新的光学显示器件。本实验研究了这种反型模式器件的电光特性,并建立相关的结构模型解释了实验结果。     

新型聚合物网络稳定液晶光栅的制备

将具有光敏特性的预聚物与向列相液晶按一定比例混合，注入液晶盒，以紫外灯为光源，通过光掩模法使混合物在紫外光的引发下产生相分离，形成聚合物网络稳定液晶光栅。采用光学显微镜和He-Ne激光器进行测试，结果表明该光栅获得了周期性的栅结构，且衍射效率具有电场调谐性。     

全息液晶/聚合物光栅的制备

将具有光敏特性的预聚物与向列相液晶按一定比例混合，以Ar^ 激光器为光源，使混合物在激光干涉光场的引发下发生光化学反应，从而导致液晶与预聚物发生相分离，形成全息液晶／聚合物相位光栅。采用光学显微镜和He-Ne激光器对所制样品进行测试，结果表明，当液晶含量在30％－45％范围时，所制样品具有较好的栅结构，其衍射效率具有电场可调性。     

聚合物稳定向列相液晶显示的上升时间常数

聚合物网络对液晶的表面作用决定了聚合物稳定向列相液晶的电光性能。我们的研究基于一种简单的表象模型,假设聚合物网络由平行于无场状态下向列指向矢的聚合物纤维棒构成。建立受到有限锚定能虚拟边界束缚的矩形指向矢畴,根据液晶的动力学理论得到聚合物稳定向列相液晶显示的上升时间常数的表达式。计算并给出了上升时间常数对聚合物浓度的依赖关系,此关系还有待于实验的验证。     

一种聚合物/液晶体系的结构与模型分析

为提高液晶器件的响应速度,介绍了一种基于聚合物/液晶(预应力液晶)的结构与制作工艺,其响应速度可达毫秒级.对制作过程中预应力液晶结构(液晶微滴的尺寸和形状)与制作工艺条件(聚合物含量、紫外曝光光强、聚合温度)的关系进行了分析,并建立了预应力液晶的简易模型,给出了其响应时间与液晶微滴的尺寸和剪切比之间的关系.结果证明这种模型与实验结果基本相符.     

激励态向列微滴散射理论的修正及其参量拟合

用反常衍射(ADA)理论与实验数据优化拟合方法分析了聚合物分散液晶(PDLC)微滴在633nm激光照射下的散射特性与微滴尺寸、聚合物折射率的关系。在聚合物分散液晶中除了液晶微滴本身的散射以外，还有例如界面散射、杂质散射、材料折射率不均匀等附加散射因子，考虑这些因素以后对反常衍射散射理论进行了修正，提出用参量拟合来测量聚合物分散液晶中聚合物折射率、微滴半径以及液晶体积百分数等参量的方法。测量了微滴的直径在2μm左右聚合物分散液晶的参量。结果表明，对聚合物分散液晶聚合物折射率的误差在5％以内，而对液晶体积分数的测试误差较大，达到10％左右。     

聚合物分散液晶膜的弯曲散射偏光效应

实验制备了聚合物分散液晶(PDLC)电控调光膜样品 。测试结果表明,样品散射雾度90%以上;施加电场透明透光率接近 80%;施加弯曲应力半透明最大透光率30%以上。分析了样品施加应力 后出现的弯 曲散射偏光现象,弯曲应力导致双极构型的双极连线有沿弯曲方向的大致沿面取向,使 得液晶 微滴中液晶分子有沿面大致取向,导致液晶微滴的折射率沿弯曲方向与聚合物折射率差别大 造成光散射,而沿垂直弯曲方向与聚合物折射率相等造成光透射。     

PDLC膜电学特性的研究

采用球形液晶微泣均匀分布在聚合物中的物理模型,导出了PDLC膜的介导常数和电场强度的表达式,得到液晶微滴内的电场为均匀电场且方向与外加电场方向一致。讨论了材料的平均介电常数和电导率、外加电场的频率以及液晶微滴的体积比对液晶微滴内电场的影响。     

液晶红外传感器系统

液晶红外传感器系统包括液晶斩波器,驱动电路、液晶聚合物热电元件、探测器、放大器和显示器等。液晶斩波器还可应用于温差电堆、热敏电阻测辐射热仪、红外摄象机等。热电液晶聚合物还可用作压电、驻极体、非线性光学元件等。