波长调制法膜厚控制系统

序言在多层膜工作中,当选定膜层材料和基底以后,准确地控制每一个膜层的厚度对整个膜系的光学性能起着决定性的作用。因此,膜厚控制已成为镀膜技术中的重要环节。在多数情况下,膜层厚度的允差约为2％,在个别情况下,允差可大至5％或10％,通常使用的极值法的精度不容易达到2％,因此,需要使用具有较高精度的其他方法。     

膜厚控制仪

一、序言在现代科学技术蓬勃发展的形势下,要求光学镀膜工艺能够精确地控制真空蒸发金属或非金属薄膜的厚度,以满足广泛应用的各种光学系统的需要。目前国内外镀膜工作中控制光学镀膜厚度     

双光路膜厚控制仪

一、绪言随着祖国光学工业和电子工业的迅速发展,对多层膜的镀制和控制,提出了更高的要求。为了能够精确、方便地控制多层膜的沉积厚度,填补真空镀膜沉积控制上的一项空白,1971年北京仪器厂在北京工业学院协助下,试制成功了 MKG—1型双光路膜厚控制仪。用光电方法控制膜层厚度,目前有下列三种主要方法:     

DMK型多用膜厚控制仪

本文简要介绍了DMK型多用膜厚控制仪的设计思想、主要技术指标、工作原理、主要指标和参数的确定及计算。     

光学薄膜在线宽光谱膜厚控制仪

本文介绍了一种高性能的实时宽光谱膜厚控制仪的设计与制作,详细介绍了该系统的工作方式及设计思想.实验表明该系统可以用于光学薄膜在线实时监控和光学薄膜光谱特性检测,并可能基于该系统开发薄膜自动控制系统.     

比较法非1/4波长膜厚控制仪

随着科学技术的发展,光学薄膜在各个领域中得到了广泛的应用。在薄膜系统中,常用的是经典的λ_0/4膜系。这种膜系厚度整齐,都是1/4波长的整数倍厚度。因此,这种厚度制备和监控方便,采用光学极值法和波长调制法就能成功地进行监控。但是,光学薄膜的应用日益广泛,对膜系的特性提出各种新的要求,采用经典的λ_0/4膜系已不能满足,而必须是任意厚度的新膜系。例如:在激光技术中,要求可见区和1.06微米减反射膜系,这种膜系的厚度必须是不整齐的。另外,当必须使膜堆的光学导纳匹配以降低其光学损失时,也应是非λ_0/4的膜系。任意厚度的膜系具有优良的光学     

MKY—Ⅲ型膜厚控制仪及膜层监控系统的调整

随着现代科学技术的飞跃发展,光学行业搞真空镀膜的同志都希望有一套性能稳定,使用方便,控制准确的膜层监控系统。沈阳仪器仪表工艺研究所研制的MKY-Ⅲ型光学膜厚控制仪及膜层监控系统就是这种设备。为使大家更加了解它的性能,根据我在     

厚膜太阳能电池

一、引言 现在人们已经掌握了用各种半导体材料诸如硅、GaAs制造太阳能电池的技术。其制造工艺是采用半导体平面微电子技术。随着厚、薄膜混合微电子技术的飞速发展,工     

CVD金刚石厚膜的制备及厚膜刀具制造技术

分析了沉积参数对合成金刚石厚膜质量的影响,提出了采用燃焰法沉积高质量金刚石厚膜的合理参数,介绍了金刚石厚膜的激光切割、焊接及刃磨加工特性。     

厚膜电阻压力传感器

本文介绍一种厚膜电阻压力传感器,该传感器只需通过改变膜片的厚度和直径,就可检测10Pa～60MPa的压力。焊接在膜片上的厚膜应变片构成惠斯登电桥,能够抑制失调电压和温度的影响。精度达到1％F·S,温漂小于0.01/K F·S。足以满足很多工业电气方面的应用。     

涡流式膜厚仪

本文介绍的是利用涡流效应对厚度(金属板上的绝缘材料)进行测定的原理和选用这种膜厚仪时应注意的事项。一、涡流电流效应呈水平状态放置的线圈所产生的交流磁场使其作用于具有厚度δ的金属板(导体)上时,当忽略了泄漏磁通,认为所产生的磁通密度 B 完全贯通整个金属板。如果选择金属面的中心 O 为圆心,则涡流电流沿半径为 r 的圆周方向流动,垂直通过该面的磁通量φ则为πr~2B。假设磁通密度是具有最大值为B_m、角频率为ω=2πf 的正弦波。则 B=B_msinωt。     

无触点点火厚膜电路

无触点点火厚膜电路西安高华微电路有限公司开发研制出汽车用无触点点火厚膜电路系列产品，现已投产批量生产。其中为一汽集团提供的ＨＣＤ１和ＨＣＤ１Ａ产品，经试用其性能达到美国“摩托罗拉”同类产品水平，点火能量比有触点白金点火提高３倍，节油１５％，减少一氧化...     

厚膜CO气体传感器

利用憎水性的硅石做为粘结剂,用厚膜工艺制造了以SnO_2为基本材料的气体传感器。这种工艺生产率高,传感器受湿度影响小,机械强度大。掺有ThO_2(二氧化钍)的SnO_2厚膜传感器呈现出对从H_2气中分离出来的CO气体有很高的探测能力;也就是说,在浓度为50ppm的H_2和CO中,对CO的灵敏度比对H_2的高42倍,同时灵敏度几乎与湿度无关。     

有限元法计算膜厚均匀性

利用有限元法模拟计算了旋转平面夹具、旋转球面夹具、行星旋转球面夹具的膜厚均匀性 ,分析了均匀性的影响因素 ,指出了工艺中的调整方法     

光学膜厚智能测控仪研制成功

成都中科唯实仪器有限责任公司技术研发部门通过自主设计,完成光学膜厚智能测控仪研发任务。传统的光学镀膜采用极值法膜厚监控方式,正确判定极值点是镀膜操作人员的重要操作技术,它     

有限元法计算膜厚均匀性

利用有限元法模拟计算了旋转平面夹具、旋转球面夹具、行星旋转球面夹具的膜厚均匀性,分析了均匀性的影响因素,指出了工艺中的调整方法.     

厚膜电阻制造技术研究

针对传统厚膜混合集成电路在厚膜电阻制造过程中存在厚膜电阻阻值离散性大、印刷效率低及产生大量试阻片浪费等问题,特对厚膜制造技术进行了研究。通过对厚膜电阻设计和制造原理进行分析,发现厚膜电阻印刷膜厚对其阻值至关重要,因此,决定采用厚膜电阻印刷膜厚监测以达到控制厚膜电阻阻值的方式,先对厚膜电阻印刷时膜厚控制范围进行确定,同时根据所使用的厚膜电阻浆料方阻的不同,对厚膜电阻印刷膜厚控制范围进行调整,然后依据调整后的膜厚控制范围直接进行厚膜电阻印刷。经过实际验证,采用这种加工方式使厚膜电阻加工效率和成品率得到了大大提高,同时厚膜电阻阻值一致性也得到了很大改善。     

干涉滤光片特性的膜厚修正法

当前,多层膜干涉滤光片的制备已达到相当高的水平。因而,随着彩色电视、电影和照相技术等的发展,这类滤光片获得了广泛的应用,同时对滤光片的性能提出越来越严格的要求。从现有镀膜工艺水平出发,膜系计算与制备工艺密切结合,计算出令人满意的干涉滤光片膜系,并且根据实验曲线分析制备工艺中的厚度控制误差,这是我们感兴趣的问题。     

厚膜集成压力传感器的研制

通过厚膜力敏工艺技术和厚膜混合集成技术的结合，研制成功厚膜集成压力传感器，能直接和显示仪表连接。为传感器的集成化作了有益的尝试，具有广阔的研究开发前景。     

厚膜微压力传感器的研究

针对目前我国工业过程自动控制、机电一体化及其他应用领域微压测量用工业变送器、液位计技术的需要,采用较大半径／厚度比（ｒ／ｈ）的新型超薄微压陶瓷弹性体设计和高性能钌酸盐厚膜应变电阻,并运用厚膜印刷、烧结工艺技术,研制出工作温度高、耐腐蚀、性能价格比高的新型厚膜微压力传感器。量程１ｋＰａ、５ｋＰａ、１０ｋＰａ,精度０２％～０５％。并已在石化、冶金、电力等部门推广应用。主要阐述其设计、工艺及主要性能,并对研制中的若干问题进行探讨。