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利用sol-gel方法合成了ZrO2薄膜,并通过在ZrO2薄膜中复合CdS纳米粒子成功地制备了ZrO2:CdS薄膜.制得的ZrO2薄膜透明并具有较好的光透射性,而ZrO2的含量及膜厚是影响其光透射性的主要因素.分散在ZrO2:CdS薄膜中的CdS纳米粒子为六方相结构,并具有较好的分散性,其平均尺寸为4~6nm.实验结果表明:ZrO2颗粒的晶化会对薄膜的光学性能及表面形貌产生影响,但CdS的形成可以抑制薄膜表面ZrO2颗粒的晶化,从而得到较为平滑的薄膜. 相似文献
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ZrO2的加入对(CeO2)0.86(SmO1.5)0.14陶瓷性能的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
探讨了添加 ZrO2对 CeO2/Sm2O3体系电导率和力学性能的影响,并用 XRD、SEM等对材料的微观性能进行了试验分析.结果发现,添加 ZrO2使材料的电导率降低,主要是因为ZrO2的固清使得CeO2电解质材料的晶格常数减小,活化能增加造成的;添加 ZrO2可提高材料的断裂强度,使材料断裂以穿晶断裂为主,其原因可能是ZrO2的固溶强化了晶界;添加 ZrO2促进了致密烧结,使晶界结合紧密.实验确定,外加 2.5mol% ZrO2的 CeO2电解质具有适中的强度和电导率,可以作为电解质材料应用. 相似文献
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医用NiTi合金表面溶胶-凝胶法制备TiO2-SiO2薄膜 总被引:4,自引:0,他引:4
采用溶胶-凝胶法在NiTi形状记忆合金表面制备了TiO2-SiO2复合薄膜,在提高医用NiTi合金的抗腐蚀性方面,收到了显著的效果.运用电化学方法对不同组成的TiO2-SiO2薄膜在模拟体液中的腐蚀行为进行了研究,结果表明,随薄膜中 Ti/Si比的增加,TiO2-SiO2薄膜的抗腐蚀性增强.划痕试验表明 TiO2-SiO2(Ti/Si=4:1)膜与NiTi合金基体具有较高的界面结合强度.用原子力显微镜(AFM)对TiO2-SiO2薄膜的表面形貌及表面粗糙度进行观察和分析,解释并讨论了TiO2-SiO2薄膜的配方组成与其抗腐蚀性的关系,SiO2含量较少时,薄膜结构致密,膜层均匀平滑,且膜基结合力好,作为医用NiTi合金的表面保护层,可以使其耐腐蚀性有显著提高. 相似文献
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膨胀石墨CuCl2-NiCl2-层间化合物磁性研究 总被引:5,自引:0,他引:5
在膨胀石墨CuCl2-NiCl2-GICs合成和电性研究基础上,采用MODEL155振动磁强计测量了GICs在0~7.958×105A/m磁场强度下的磁化强度、磁化率.发现CuCl2-NiCl2引入石墨层间,形成GICs后磁性升高.与膨胀石墨相比,GICs的磁化率大约提高了2~3个数量级.GICs的磁性不但由石墨的抗磁性转变成为顺磁性,磁化曲线斜率由负变正,而且随着阶结构、 CuCl2和 NiCl2比例变化, GICs磁性发生变化.氯化镍含量在 50%以下,表现为强烈的顺磁性;50%时,磁化曲线出现最大值,表现为铁磁性.>50%,达到60%、80%时,铁磁性更明显.GICs阶数升高,铁磁性降低. 相似文献
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应用TG、DTA、IR、XRD和CO2-TPD等技术对用。cellulose吸附法合成La0.8Sr0.2CoO3(LSCO)粉体的过程机理进行了研究.发现在制备过程中cellulose首先起着一种金属离子吸附剂的作用.在焙烧的前期阶段,cellulose先被部分氧化而在其骨架上出现了羧酸基团,并与金属离子发生螫合形成螯合离子.优化条件下,在低温合成了纯相LSCO粉体.然而若焙烧过程中产生的CO2不能及时地排出,会导致体相中碳酸盐的形成,从而需要高于800℃的再焙烧才能获得纯相的LSCO粉体. 相似文献
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采用聚焦脉冲激光研究了Ge2Sb2Te5薄膜在沉积和激光淬火两种非晶态下反射率与激光脉冲宽度变化的关系,发现沉积态的Ge2Sb2Te5薄膜在晶化触发阶段内的反射率随激光脉冲宽度增加而减小,经过激光淬火的非晶态Ge2Sb2Te5薄膜在晶化触发阶段内的反射率随激光脉冲宽度增加而变化平缓.本文借用气-液体系中过饱和度分析液滴形成的原理,从统计物理学角度详细研究了两种非晶态Ge2Sb2Te5薄膜在脉冲激光作用下的晶化过程及机理,结果表明,当Ge2Sb2Te5的非晶态程度处于未饱和或饱和状态时不形成晶核;当Ge2Sb2Te5的非晶态程度处于过饱和状态时,此时的Ge2Sb2Te5为亚稳态,可能形成大小不等的晶核,但只有半径大于临界晶核尺寸时才可能长大成晶粒.而应力降低晶化能垒,增加非晶态Ge2Sb2Te5的过饱和度是导致沉积态与激光淬火态的Ge2Sb2Te5薄膜在晶化触发阶段内反射率随激光脉冲宽度变化规律不一致的根本原因,并据此解释了Ge2Sb2Te5薄膜在这两种状态下的反射率随激光脉冲宽度的变化特点及规律. 相似文献
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研究了激光辐照引起Ge2Sb2Te5非晶态薄膜的电/光性质变化, 当激光功率为580mW时薄膜的方块电阻有四个数量级(107~103Ω/□)的突变; 对电阻发生突变前、中、后的三个样品进行了XRD测试, 结果表明, 随着激光功率的增大,薄膜由非晶态向晶态转变,用椭偏仪测试了结构转变前、中、后三个样品的光学常数, 在可见光范围内薄膜的光学常数在波长相同情况下有: n非晶态>n中间态>n晶态, k晶态>k中间态>k非晶态, α晶态>α中间态>α非晶态, 结合电阻变化曲线和XRD图谱讨论了激光辐照Ge2Sb2Te5非晶态薄膜的电/光性质变化同激光功率和结构转变之间的关系. 相似文献
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采用电化学控电位沉积的方法制备了Bi2-xSbxTe3温差电材料薄膜.通过ESEM、XPS、XRD、EDS等方法对电沉积薄膜的形貌、结构和组成进行了研究,并测试了在不同电位下制备的Bi2-xSbxTe3薄膜的温差电性能.研究结果表明,在含有Bi3+、HTeO2+和SbO+的溶液中,采用控电位沉积模式,可实现铋、锑、碲三元共沉积,生成锑掺杂的Bi2Te3化合物Bi2-xSbxTe3.通过调节沉积电位,可控制电沉积Bi2-xSbxTe3薄膜的掺杂浓度,从而影响材料的温差电性能.控制沉积电位为-0.5V条件下制备的温差电材料薄膜的塞贝克系数最大,为213μV·K-1,其组成为Bi0.5Sb1.5Te3.随着沉积电位的负移,电沉积出的Bi2-xSbxTe3薄膜的结晶状态将逐渐由等轴晶转变为树枝晶.研究证明,电沉积方法可以制备出性能优异的薄膜温差电材料. 相似文献
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采用熔融法结合SPS烧结技术合成了SryCo4Sb12-xTex化合物, 并探讨了Te掺杂对化合物热电性能的影响. 采用XRD及EPMA确定了相组成及化学成分, 并测试了材料的高温热电性能. 实验结果表明, 虽然Te掺杂降低了Sr在CoSb3中的填充量, 但是与具有相近Sr填充量的基体相比, Te掺杂提高了材料的载流子浓度和电导率, 同时也提高了塞贝克系数; Te掺杂由于引入了电子-声子散射, 进一步降低了材料的晶格热导率, 并且随着Te掺杂量的增加, 晶格热导率的降低幅度提高; 对x=0.05的样品Sr0.18Co4Sb11.95Te0.05, 在850K时, 材料的最大ZT值接近1.0, 与具有相近填充量的基体材料相比, ZT值提高了35%. 相似文献
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采用Bridgman法生长了x为0.1,0.22和0.4的四元稀磁半导体化合物MnxCd1-xIn2Te4晶体.研究了三根晶体中相的形貌、结构、成分和Mn0.1Cd0.9In2Te4晶体中各组元沿轴向和径向的成分分布.晶体生长初始端的组织为α+β+β1,随着生长的进行,形成β相的单相区.在晶锭末端,形成In2Te3类面心立方结构化合物.组分x增大后,MnxCd1-xIn2Te4晶体的吸收边向短波方向移动,禁带宽度则线性增大.磁化率测量结果表明:晶体在高温区的x-1-T曲线服从居里-外斯定律,在低温区(<50K)则表现出顺磁增强现象. 相似文献
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飞秒激光诱导玻璃内Ba2TiSi2O8晶体的析出 总被引:1,自引:0,他引:1
使用聚焦后的800nm,150fs,250kHz的高重复频率飞秒脉冲激光器能够在BaO-TiO2-SiO2组分的玻璃内部三维选择性地诱导Ba2TiSi2O8晶体的析出. 发光光谱显示这种晶体把入射的800nm光转化成了400nm的蓝光,因此这种析出的晶体具有非线性倍频特性. 通过拉曼光谱测定,在当前的玻璃组分中析出的晶体是Ba2TiSi2O8. 研究表明,经250kHz的飞秒激光辐照一段时间后,在玻璃内部由于脉冲能量的连续沉积会使得激光辐照区域出现热积累效应,因此,该辐照区域的温度会不断升高以致超过玻璃析晶温度,最终诱导玻璃熔融析晶. 此外,对飞秒激光辐照区域不同部位进行拉曼光谱检测,结果表明:在整个区域Ba2TiSi2O8晶体的析出呈现中间比外围明显的分布特点,因此晶体析出与辐照形成的温度梯度场有密切关系. 相似文献