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研究了氮离子注入对立方氮化硼(c- BN) 膜,富硼的硼氮膜(BN0 .5 ) 和硼膜(B) 的成分及结构的影响. 用活性反应离子镀技术在单晶硅基体上沉积cBN、BN0 .5 和B 膜;然后使用等离子基离子注入(PBII) 技术,在50 kV 的基体脉冲负偏压下注入氮. 用FTIR 透射谱分析膜在氮离子注入前后结构的变化,用XPS分析膜的成分分布. 结果表明:在c- BN 膜中注入氮离子几乎不改变膜的NB,但膜中c- BN 的含量略有增加;对于BN0 .5 膜,注入氮后,NB 略有提高,膜的a- BN 的结晶化提高;而在硼膜中注入氮后,氮在膜中呈类似高斯分布,最高氮浓度r(N)达23 % ,膜中形成了非晶态的氮化硼(a- BN) 结构. 此外,在以上各种膜上注入氮后,膜基界面都有不同程度的成分混合. 相似文献
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立方氮化硼(c—BN)膜的制备,性能及应用 总被引:2,自引:0,他引:2
本文综合分析了立方氮化硼膜的制备方法,介绍了c-BN膜的结构及其机械、电学、光学和热学性能,最后总结了c-BN膜在机械和电子领域的应用概况。 相似文献
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c—BN薄膜研究进展 总被引:3,自引:0,他引:3
立方氮化硼(c- BN) 在机械、热、电子及光学方面有许多优异性能,因此世界上有很多研究人员从事c- BN 薄膜制备的研究,近年来薄膜沉积技术和c- BN 薄膜质量都已取得显著进步。介绍c - BN 薄膜的用途、结构、制备方法及存在的问题。重点总结了控制c- BN 相形成的关键因素及c- BN 相形成机理。 相似文献
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研究了氮离子注入对立方氮化硼膜,富硼的硼氮膜和硼膜的成分及结构的影响。用活性反应离子镀技术在单晶硅基体上沉积c-BN,BN0.5和B膜,然后使用等离子基离子注入技术,在50kV的基本脉冲负偏压下注入氮。用FTIR透射谱分析膜在氮了注入前后结构的变化,用XPS分析膜的成分分布。 相似文献
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镀膜参数对离子束增强沉积氮化硼薄膜中立方相含量的影响 总被引:2,自引:0,他引:2
本文介绍用离子束增强沉积(IBED)法在硅片上制备氮化硼(BN)薄膜及镀膜参数对膜中立方氮化硼(c-BN)含量的影响的试验研究,主要研究轰击离子束密、镀膜速率、轰击束中氩气的含量及衬底温度的影响。用红外(IR)谱对膜进行了分析,结果指出:(1)在给定的轰击束能量与束密下氮化硼薄膜中立方相的含量是随镀膜速率而变化的,且存在一个最佳镀膜速率值;(2)提高离子轰击束密,则此最佳镀膜速率值也相应增大;(3)镀膜速率又是随轰击束密及轰击束中氩气含量的增大而减小的;(4)衬底温度在400℃以下时,膜中c-BN相的含量随温度提高而增加。 相似文献
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镀Ti立方氮化硼(cBN)与玻化SiO2—Na2O—B2O3结合剂的作用 总被引:6,自引:0,他引:6
为了防止玻化SiO2-Na2O-B2O3结合剂烧结时对立方氮化硼(cBN)的侵蚀,并实现cBN晶体与结合剂间的化学键结合,本文用DTA、XRD、SEM、EPMA等研究了Ti镀层与cBN界面在600 ̄1200℃温度范围的界面反应过程及界面成分结构特征,讨论了镀TicBN与结合剂复合体在烧结过程中的成分结构及性能。结果表明:Ti镀层与cBN晶体在600℃以上,以反应扩散的形式发生界面反应形成TiN,8 相似文献
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ZrO2(Y2O3)增韧的Si3N4中介结合的聚晶立方氮化硼 总被引:1,自引:1,他引:0
在高温(1400℃)和超高压(4.2GPa)条件下制备部分稳定ZrO2增韧的Si3N4中介结合的聚晶立方氮化硼(PCBN),研究了中介相中ZrO2的相变及增韧机理。在PCBN中加入少量Al粉。可阻止t’-ZrO2形成,达到利用部分稳定的ZrO2的t-m相变增韧中介相Si3N4的目的。ZrO2的t-m相变量在稳定剂Y2O3含量为2.0%(摩尔分数)时达到最大值,PCBN具有较高的抗压强度和磨耗比。ZrO2对中介相的增韧机理为相变增韧与微裂纹增韧作用的叠加。 相似文献
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B-C-N系超硬材料的研究进展 总被引:7,自引:0,他引:7
超硬材料的合成是目前材料科学研究领域的热门课题之一,近年来,由于碳基和硼基超硬材料的理论设计和发现,引起了人们在实验3和理论上对硬度与金刚石接近,基至超过金刚石的材料研究兴趣。在B-C-N系超硬材料中,除了金刚石和立方氮化硼(c-BN)以外,α-CaN4,立方氮碳化硼以及富勒烯等材料,也正日益受到国际材料界的重视,本文就B-C-N系超硬材料的最新研究进展做一综述。 相似文献
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本文综合分析了立方氮化硼(c-BN)膜的制备方法,介绍了c-BN膜的结构及其机械、电学、光学和热学性能。最后总结了c-BN膜在机械和电子领域的应用概况。 相似文献
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Al与cBN在高温高压下的相互作用 总被引:3,自引:0,他引:3
将立方氮化硼(cBN)微粉和铝(Al)微粉按照体积比7:3的比例进行混配, 在高温(1300~1500℃)、高压(5.5GPa)条件下进行烧结. 利用X射线衍射分析(XRD)、透射电子显微镜(TEM)以及X射线色散能谱(EDS)对烧结体的物相构成、显微结构以及各组分元素的分布进行了分析. 实验结果表明, 1300℃, Al尚未与cBN反应; 当温度升至1400℃时, Al与cBN反应生成AlN和AlB2; 温度进一步升高至1500℃, 反应产物增多, 产物种类不变. TEM和EDS分析表明, 在反应过程中Al扩散进入cBN的表层, B扩散进入富Al的区域, 生成新相AlN和AlB2. 相似文献
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高导电高耐磨铜基材料研究进展 总被引:2,自引:0,他引:2
介绍了几种主要高导电高耐磨铜基材料,指出添加石墨、陶瓷颗粒和合金元素可以提高材料的耐磨性,而导电率仍维持在较高水平,并对几种材料的增强机理作了初步探讨。回顾了近年来高导电高耐磨铜基材料的主要研究成果,并指出多元微合金化、基体纯化和晶粒细化、高度致密化为今后研究发展的方向。 相似文献
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选取不同转化率下无乳化剂乳液聚合制得的聚乙烯醇(PVA)进行凝胶纺丝,经相同后处理工艺处理后,得到两种纤维,光学显微镜下观察到低转化率下制得的纤维有横纹,高转化率下的无横纹。采用纤维强伸仪、偏光显微镜、扫描电镜(SEM)、X射线衍射及差示扫描量热(DSC)对纤维力学性能、表面形貌和内部结构进行分析,结果表明,两种纤维都具有较高的力学性能,内部较致密,横纹纤维较无横纹纤维结晶度高,表面较光滑。理论推测横纹由拉伸过程中形成的柱晶结构引起。 相似文献
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泡沫流体以其低密度、高粘度和独特的流变性在油田开采中被广泛应用,然而形成泡沫的必要组分是起泡剂,其最重要的性能就是起泡性能和稳泡性能。但在国内一些高温、高盐油藏中,地下泡沫的起泡性能和稳泡性能与室内实验相比均有所下降,未能达到预期的原油采收率。论述了高温、高盐条件下导致泡沫消泡的微观机理;介绍了目前高温、高盐油藏常用的单组分起泡剂、复合/复配型起泡剂的基本类型和苛刻的储层条件对不同类型起泡剂泡沫性能的制约性;同时综述了国内外高温、高盐油藏常用起泡剂的研究进展及油田应用现状;以分子结构、有效官能团、复配微观规律和绿色环保为主要研究方向,展望了我国高温、高盐油藏起泡剂研究发展趋势。 相似文献
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郭演星 《理化检验(物理分册)》2010,(4):251-253
对染色工艺中最常用的设备——J型高温高速染色机的常见缺陷类型、各类缺陷产生的原因以及对其进行检验检测时需注意的要点进行了归纳总结,并给出了相应的预防措施及建议。重点阐述了在J型高温高速染色机使用过程中经常出现的应力腐蚀裂纹和疲劳裂纹等危险性缺陷,并指出产生这些缺陷的主要原因是柒液中存在氯离子、染色机存在应力集中、振动及频繁启动等因素;检验时应采用金相检验、无损探伤等方法措施,以便能够及早发现此类危险性缺陷,消除安全隐患。 相似文献
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高熵合金基复合材料可以充分发挥高熵合金和强化相(或金属基体)的性能优势,有望超越传统金属复合材料的性能极限。对高熵合金基复合材料及其制备方法进行了综述,以期能为未来高熵合金基复合材料的组分设计、强化相种类和制备方法的选择带来一定的启发和借鉴作用。首先介绍了高熵合金基复合材料的强化相种类,并对高熵合金基复合材料制备工艺的特点进行了总结;在此基础上,归纳了制备高性能高熵合金基复合材料的关键因素,包括高熵合金成分的选择、强化相种类及生成方式和复合材料的制备方法等因素;最后对高熵合金基复合材料研究领域的挑战和未来发展进行了展望。 相似文献