有机玻璃基材表面电子束蒸镀铬-铝-二氧化硅薄膜及其性能研究

采用电子束蒸镀的方法,以有机玻璃为基材,在其表面蒸镀铬过渡层,再蒸镀铝,最后蒸镀保护层二氧化硅.实验结果表明:增加铬过渡层的样品,铝膜结合的非常牢固,附着力得到很大的提高.和未蒸镀二氧化硅保护层的样品进行耐腐蚀性测试对比,发现二氧化硅薄膜具有很好的保护性,铝膜在10%的碱性溶液中完好无损;而没镀二氧化硅保护层的样品,铝膜很快溶解.试验结果表明,采用电子束蒸发技术,在使用合适的工艺参数下,可以在有机玻璃表面制备附着力好、耐腐蚀的高反射铝膜.     

铝合金上的激光镀膜

日本三菱电机生产技术研究所采用二氧化碳激光在铝合金上真空蒸镀氧化铝薄膜成功。从而提高了铝合金的耐磨性,可以作为滑动部件。在铝合金上涂复氯化铝层时,通常采用称为防蚀铝处理的化学手段。但这种方法不能形成精密的涂膜,而且因为使用水溶液,工艺过程复杂。这个研究所用激光蒸发氧化铝,并在1.3×10~(-2)—6.7×10~(-3)帕的真空系条件下蒸镀在铝合金上(含硅17%、铜5%,锰0.5%),而且可以仅在滑动面上镀膜。     

行星周转镀膜装置设计

针对现有的蒸镀圆柱形腔体杜瓦镀膜工艺存在工艺繁琐、膜层不均匀等问题,设计了行星周转镀膜装置。该转台针对镀膜机内特殊环境特点,采用摩擦行星轮组设计,优选材料,优化结构,对标准件进行特殊处理,最终实现行星周转镀膜装置的无污染、重量轻、负载小、运转稳定、方便清洁、易于调整等要求。该行星周转镀膜装置的使用,使圆柱形腔杜瓦在公转时实现自传,实现圆柱形腔杜瓦的一次蒸镀,克服原有的三次平面蒸镀带来的问题。试验结果表明:杜瓦镀金引线膜层在粘附性、均匀性等关键指标上均优于原蒸镀方式,在实现产品质量提高的同时,降低了生产成本,提高了生产效率。     

磁控溅射法制备高反射铝膜

通过先后调整溅射沉积时间、溅射功率以及溅射气压等镀膜参数,然后结合所镀样品的反射率测量,分析了镀膜参数对铝膜反射率的影响;通过调整不同的离子束清洗时间,结合所镀样品的太阳光谱反射率测量以及附着力测试,研究了离子束清洗对铝膜性能的影响。结果表明,在这些影响因素中离子束清洗对铝膜性能的影响很大。     

塑料真空镀膜的进展及应用

一、概况为了提高塑料的附加功能,进一步扩大塑料用途,利用真空镀膜技术对塑料表面进行处理是一个好办法。目前常用的塑料真空镀膜方法有真空蒸镀法和磁控溅射法。所谓蒸镀法就是在10~(-4)～10~(-5)Torr的真空中加热蒸镀材料,使其在极短时间内蒸发并沉积在基材表面形成镀膜层。一般,该法只能蒸镀像铝这样的低融点金属。磁控溅射法利用高效磁控管溅     

磁控溅射法制备柔性纺织面料基纳米薄膜的研究与进展

磁控溅射工艺技术是一种重要的镀膜技术,广泛应用于薄膜材料制备和材料的表面处理,应用于柔性纺织材料的表面镀膜也越来越广。本文主要介绍磁控溅射法在柔性纺织面料上制备纳米薄膜的研究和发展情况,包括镀制金属、合金、化合物或陶瓷、高分子材料等单层或多层薄膜,用以开发功能性纺织品的研究情况。介绍的镀膜包括银膜、铜膜、铝膜、钛膜及其金属氧化膜、聚四氟乙烯膜等。     

光学塑料棱镜反射膜的镀制

由于光学塑料在耐热性、耐吸湿性和表面强度等方面的特性比光学玻璃差,所以在光学塑料棱镜表面上镀制金属反射膜存在着金属膜层和塑料棱镜表而附着性能差的问题,镀膜后的塑料棱镜不易达到使用的技术要求.本文通过对镀膜材料和光学塑料基体的特性分析,提出了一种实用的介质加金属三层反射膜系.基于这种膜系采用了等离子辅助镀膜技术和石英晶片监控膜厚的方法,并且针对塑料棱镜蒸镀的特殊性,严格控制蒸镀条件中的有关参数,形成了一套稳定的蒸镀工艺.实验结果表明,光学塑料棱镜镀制金属反射膜可以解决膜层性能差的问题,满足光学产品的技术要求,实现批量生产.     

等离子体处理提高金属镀层与有机基底附着力的研究

利用反应磁控溅射技术在有机玻璃（亚克力板）上完成Al的膜层制备,并进行了膜层表面的光泽度、附着力和耐腐蚀性等研究。实验发现,采用这种技术制备的Al膜具有较高的光泽度。在Al膜上沉积一层氧化硅薄膜可以提高耐腐蚀性但不会对Al膜的光泽度产生影响。但是金属薄膜在有机基材上的附着力较差,大约在6 N左右。为此可以利用Ar、O2等离子体对有机玻璃表面进行清洗,或者在薄膜表面添加过渡层,即在镀膜之前先在基材上镀一层其他材料,然后再镀金属膜。实验发现环氧材料或SiO2作为过渡层,薄膜的附着力有显著提高。但需注意提高耐腐蚀性的同时不能影响薄膜光泽度和附着力。     

6328全反射介质膜真空镀膜工艺探讨

阐述了6328 全反射介质膜的镀膜原理和实际镀膜工艺,分析了镀膜后必须进行固膜的原因,并给出了镀制6328 全反射介质膜的蒸镀参数和经过固膜后的测量结果分析。     

离子镀铝V—P组织模型

本文用240°e型电子枪做蒸发源,在不同氩压、不同基板偏压时离子镀铝膜。系统地研究了基板偏压和氩压对铝镀层组织形貌的影响。建立了以基板偏压和氩压为变量的组织模型,定名为离子镀V-P组织模型。模型形状表明,在不同氩压下消除锥状晶、柱状晶所需基板偏压不同,氩压大于5×10~(-3)托时,随氩压的增加,消除锥状晶、柱状晶所需基板偏压逐渐降低。氩压小于5×10~(-3)托时,随氩压的降低,消除锥状晶、柱状晶所需基板偏压也逐渐降低,在5×10~(-3)托时存在基板偏压的极大值。作者认为V-P组织三维模型是基板偏压和氩压对铝镀层组织结构综合影响的结果。     

镀膜装置及镀膜方法

镀膜装置及镀膜方法,镀膜装置包含转盘、遮板及镀材源;转盘是能规律旋转;遮板是依照镀膜层的特定厚度而设成,且设置于靠近基板的位置;镀材源是与转盘相对而设,并使遮板介于两者之间。镀膜方法包括将基板设置于能规律旋转的转盘上;将依照镀膜层的特定厚度所设成的遮板设置于靠近基板的位置以及利用镀材源将镀膜层镀于基板上。具有于一基板上形成两种以上特定厚度的镀膜层的功效。     

1.3 GHz高频铜腔磁控溅射镀铌工艺研究北大核心CSCD

相比于纯铌超导高频腔,铜腔内壁镀铌超导腔具有对直流磁场不敏感、热稳定性高、造价成本低等一系列优点,并且铜腔镀铌工艺是铜腔表面制备Nb3Sn、NbN以及超导-绝缘-超导(SIS)复合膜的基础。因此使用直流磁控溅射法在铜基底高频腔内壁进行铌膜沉积,以探索铜腔镀铌工艺。并借助于FIB、SEM、XRD对铌膜的内部缺陷、表面形貌、晶相结构进行表征分析。研究结果显示:通过控制镀膜真空室的洁净、降低镀膜时间和放电气压,以及控制磁环的运动方式,获得了铜腔轴向分布均匀,Tc值达9.26 K,表面连续性较好的铌膜。铜镀铌腔垂直测试结果显示,腔性能在Q0>108下达到了5 MV/m,对应峰值磁场24 mT。该结果为后续进一步改善镀铌质量,提高镀膜超导腔性能,以及尝试在铜基底上进行其他超导材料(NbN、Nb3Sn)的镀膜奠定了良好的基础。     

镀膜材料对场发射扫描电镜图像的影响

以具有纳米孔道结构的不导电介孔氧化硅SBA-15为研究对象,系统研究了3种常见导电薄膜(金膜、铂膜和铬膜)对扫描电镜图像的影响。结果表明:在同样的镀膜条件下,蒸镀3种导电膜后扫描电镜图像的荷电现象均得到改善,但是镀金膜后无法观察到直径为4nm的孔道,其完全被金颗粒所掩盖;蒸镀铂膜后,孔道形貌基本保持,但孔径显著降低;蒸镀铬膜后孔径和孔壁尺寸均与未镀膜前相差不大。导电薄膜中晶粒大小是决定薄膜对材料显微结构掩盖程度的关键因素,金颗粒大部分直径大于5nm,铂颗粒大部分直径约为2nm,因此蒸镀该两种薄膜均会导致SBA-15介孔材料4nm的孔道不同程度地被掩盖;铬颗粒直径仅为1nm,且主要以非晶状态存在,因此对介孔孔道的掩盖最少。     

CdZnTe晶体生长用石英管的镀碳工艺研究

使用金相显微镜、推力分析仪测试等手段研究了镀碳工艺参数对碳膜的表面形貌、碳膜和石英结合力的影响。获得了一个优化的镀碳工艺参数,即在镀碳温度为950～1100℃,气体流量为4～7ml/h,镀碳时间为6h,冷却时间为12h的条件下得到的碳膜较为均匀,而且和石英结合的较好。使用该工艺条件镀膜的石英管生长出的CdZnTe晶体表面光洁,位错密度低,约为4×104cm-2。     

等离子体轰击致聚酰亚胺表面亲水性研究

等离子体轰击聚酰亚胺表面会提高挠性印制电路板中溅射铜膜与聚酰亚胺基板的附着力,同时聚酰亚胺表面亲水性随之改变.本文通过改变轰击等离子体种类、轰击电流、轰击时间和轰击气压等条件,研究这些工艺参数与聚酰亚胺表面亲水性的相互关系.在等离子体轰击处理后的聚酰亚胺上磁控溅射镀铜并电镀加厚,利用剥离强度测试仪测量铜膜与聚酰亚胺基板的附着力,并分析亲水性与附着力之间的关系.研究发现,等离子体轰击可以增强聚酰亚胺的亲水性及聚酰亚胺基板与铜膜的附着力,且亲水性越好的样品,溅射镀铜后铜膜与基板的附着力也越好,并得到了等离子体轰击参数与亲水性的关系;研究表明可以把测量亲水性作为聚酰亚胺表面等离子体轰击效果的一种评价方法.     

非λ/4两层增透膜

非λ/4两层增透膜对材料折射率的选择要求不很严格,可以在各种基板上达到接近零反射的效果。因此,很适合在激光器件上使用。曾在K_9、ZF_2、石英、水晶等基板上用ZnS、MgF_2、Al_2O_3、CeO_2、ZrO_2、SiO_2等镀薄材料做过多次试验,并在石英基板上镀ZrO_2-SiO_2膜,得到对于6328A单面剩余反射率优于0.05%,总透过率达到99.85%～99.95%的结果。     

“仿金镜”真空镀膜

我们在北京仪器厂生产的DMW——900制镜镀膜机上开发了“仿金镜”。仿金镜镀膜材料是我们自己制备的。制镜镀膜是我们在北仪产的DMW——900制镜机上进行的,它和一般真空蒸镀铝镜的工艺基本相同。为保障仿金镜的镀膜质量,我们注意以下几个方面的控制: 1.膜厚用定量蒸发法粗略控制,1500～3000(?)为宜,每次蒸镀,放材料量要适当,尽可能全部蒸发完,不留余料。     

真空镀膜观察方法的改进

在半导体器件和光学器件生产中广泛的应用真空镀膜设备,制备各种薄膜,在镀膜过程中自始至终地观察蒸发和膜层形成情况,以控制膜层厚度,保证薄膜元件质量。 目前一般使用的镀膜设备其观察方法是:借助镀膜室玻璃钟罩或金属钟罩上开设的玻璃观察窗进行观察。有的用机械刷来擦除观察窗上的被镀物。在工作实践中我们发现以上方法存在如下问题: 一、在镀膜的初期,能够清楚地观察到材料熔化和膜层生长情况。但随着镀膜的继续进行,玻璃钟罩或观察窗上同时蒸镀上一层膜层,由于膜层逐渐增厚,以至观察不到。虽然有的镀膜室有机械刷但也不能完全擦除,这…     

双室真空镀膜机的研制

双室真空镀膜机是真空镀铝制镜的专用设备。本设备的研制成功，为应用“以铝代银”制镜新技术提供了一种新型设备。工作周期短，容量大，生产效率高，可适应多种玻璃规格，经过百余次蒸镀试验，工艺基本稳定，已移交用户生产，经国内有关部门进行技术鉴定，一致认为结构合理，具有国内先进水平。 本文对双室真空镀膜机的主要技术指标，结构特征，镀膜工艺分析及铝镜与银镜的比较等方面作了重点介绍。     

WH-1000型涡流测厚仪

涡流测厚仪用于测定各种有色金属基体上的绝缘性覆盖层的厚度，如铝、铜、镁、银、锌、锡、铅、钛及非磁性不锈钢等材料上的阳极氧化膜、涂层、塑料层、橡胶、搪瓷等厚度，通常多用于测定铝及铝合金基体上的阳极氧化膜。