透过专利看微处理器的技术发展（二）——Cache专利布局

本文从专利的年度申请量、技术分布、专利权人分布、法律状态、生命周期等方面，对微处理器中的核心技术“高速缓冲存储器（Cache）”相关专利进行了详细论述。分析显示，多核设计中的技术研究重点，如Cache一致性技术，缓存监听（Snooping）技术，其专利主要掌握在少数国际大公司手中。对专利技术生命周期分析表明，自可考证的美国Cache专利至今，Cache技术已经历了萌芽期、发展期、成熟期，目前已进入衰退期，而中国的Cache专利申请相对美国的情况滞后2—3年。专利文献通常早于技术文献公开，因此美国Cache专利的分布对相关研发人员具有一定的参考意义。     

SDN/NFV专利态势与技术发展趋势

通过对SDN/NFV领域发明专利的国内外年度分布、地域分布和申请人情况等进行统计和分析,研究目前SDN/NFV技术的全球及国内专利申请态势,整理SDN/NFV技术领域的年度申请量分布情况和各个主要技术分支的专利分布。研究发现:SDN领域的专利申请已经进入快速增长期,国内和全球布局态势基本一致,并涌现出若干值得关注的爆发式热点;NFV领域的专利申请处于起步发展阶段,现有专利持有情况分散,尚未形成事实上的垄断局面,我国领先企业在全球优势初显,运营商参与度有所提升。     

视频转码技术的中国专利申请分析

基于在中国申请的与视频转码技术相关的专利文献,对该领域的专利申请情况进行了统计分析,重点分析了申请人的地区分布情况以及国内外申请人专利申请数量的年度变化趋势,分析了分布情况和相关趋势的产生原因以及对中国企业和科研机构的启示.     

全球LED专利发展状况分析

选择国家知识产权局的VEN数据库,采集1960年1月1日到2014年6月1日的发光二极管(LED)白光照明技术专利文献.分别从专利申请量的地区分布、时间态势发展、主要申请国家(地区)发展状况、IPC专利分类及技术领域分布等方面,对LED白光照明技术进行了深入分析.     

多媒体版权保护专利技术现状分析

基于多媒体版权保护技术的专利文献,得出该领域国内外专利申请量年度变化,介绍了专利申请量世界范围内的分布情况及主要申请人,对涉及多媒体版权保护采取的主要技术进行分析,由此得出多媒体版权保护技术的专利申请现状,并对今后的专利发展趋势进行预测.     

从专利的角度分析喷墨打印机墨盒回收再利用技术

本文介绍了喷墨打印机墨盒回收再利用技术的技术背景以及市场需求,从专利的角度阐述了墨盒回收再利用技术的发展脉络以及研究热点,并统计分析了不同国家、不同地区的专利申请状况,反映墨盒回收再利用技术在地域上的研究热点分布情况.     

透过专利看微处理器的技术发展（五）——浅谈主要专利权人技术发展

本文在调研大量专利文献的基础上,通过跟踪微处理器的主要专利权人IBM、Intel和AMD在中国的微处理器专利,研究其不同时期技术重点,明确其技术发展历程。同时从技术分布、典型芯片结构对比、专利申请增长率以及法律状态几个方面分析了微处理器的专利技术演进,并分析近期专利技术的特征,以及技术要素的变化,分析各厂商的专利技术现状,预测发展方向,为新产品开发计划提供线索。     

我国量子科技专利分布和成果转化研究

文章聚焦于我国量子科技专利数据的分析,通过对专利数量的空间分布、专利申请机构类型数量、专利热点分析、专利转让状态与许可状态的年度分布以及专利科技成果转化率进行分析与研究,提出对我国量子科技具有针对性的问题及对策。     

电视图像加密技术的专利分析

基于电视图像加密技术的专利文献,得出该领域国内专利申请量年度变化,介绍了专利申请量世界范围内的分布情况及主要申请人,对电视图像加密采取的主要技术进行了专利申请量分析,由此得出当前电视图像加密技术的专利申请现状,对今后的专利发展趋势进行预测.     

可穿戴光学心率测量设备专利技术分析

本文对可穿戴光学心率测量技术领域的全球专利申请进行了充分检索和统计,对全球专利申请量、申请区域分布情况、主要申请人进行研究,通过对专利文献的分析归纳出存在的主要技术问题,并结合相应专利文献公开内容解析上述问题的解决方案,为光学心率测量技术的未来发展提供参考。     

MIPS中国专利技术解析

本文在调研MIPS公司发展历程的基础上,通过检索和分析MIPS中国专利,从功效矩阵、技术分布和技术发展趋势等几个方面进行了深入分析,为MIPS兼容产品研发提供线索和思路。     

硅集成电路光刻技术的发展与挑战

从微电子集成电路技术发展的趋势,介绍了集成电路技术发展对光刻曝光技术的需求,综述了当前主流的DUV光学曝光技术和新一代曝光技术中的157nm光学曝光、13nm EUV曝光、电子束曝光、X射线曝光、离子束曝光和纳米印制光刻技术的发展状况及所面临的技术挑战.同时,对光学曝光技术中采用的各种分辨率增强技术如偏轴照明(OAI)、光学邻近效应校正(OPC)、移相掩膜(PSM)、硅片表面的平整化、光刻胶修剪(resist trimming)、抗反射功能和表面感光后的多层光刻胶等技术的原理进行了介绍,并对不同技术时代可能采用的曝光技术作了展望性的评述.     

解析RFID中国专利布局

从专利类型、技术领域、专利分布情况及主要专利权人等方面分析RFID中国专利布局现状。分析结果显示,目前国内专利申请人在RFID技术方面已有初步的专利积累,并且其专利申请量继续保持增长趋势,但应进一步加大对RFID关键技术的研发投入。国内RFID相关行业知识产权现状能在国内市场起到一定的防守作用,从而保护国内企业充分利用中国市场发展。     

The Evolution of the Intellectual Property Management Strategy of an Emerging Multinational: Learning the Purpose of Patenting and Scientific Publications

The transition from developing country technology firm to true multinational requires both an upgrading of the underlying capability base and an understanding of the purpose of IP management. Through a detailed case study of Sasol, a leading R&D firm from South Africa, this paper tracks the coevolution of IP management with technological advancement amid the constraints of the developing country context. Using interviews, annual reports, patent, and scientific publication data, this study suggests that the value of formal IP extends beyond appropriation of own capabilities. Importantly, patents and publications also serve to signal capabilities in an attempt to gain legitimacy among peers. Fundamentally, IP management involves a social process, where firms learn to manage the sharing of key capabilities—with the attendant competition/cooperation tension—to peers.      

地源热泵产业专利技术发展情况分析

从国际总体发展情况、国内申请和国外来华申请的申请人和技术主题入手,对地源热泵这种高效节能空调系统涉及的专利情况做了较深入的分析。指出该技术领域的专利集中度较高,跨国公司在我国的专利布局正在有步骤、有重点地进行。依据专利数据结合本产业发展过程中的经验和教训,对我国地源热泵产业的技术和产业化,提出了几点具体建议。     

自动立体显示技术的专利状况分析

自动立体显示技术使用户可以在显示屏幕前的不同位置通过裸眼观看到清晰的立体图像.基于自动立体显示技术领域的专利文献,给出了对该领域专利总体变化情况的统计分析结果,通过一些典型的专利文献介绍了专利中的技术发展情况,并分析了主要专利申请人所申请专利的技术特点,由此对今后的专利发展趋势进行预测.通过专利分析,希望对业内人士有所帮助.     

有机电致发光器件的研究及专利

介绍了国外正蓬勃开展研究的有机电致发光（ＥＬ）器件的研究发展过程、器件结构、制作和发光机理,报道了１９８９～１９９７年日本公开的专利申请、１９８９～１９９６年美国专利授权中有关有机和无机ＥＬ器件的情况,列出了世界上从事有机ＥＬ器件研究的主要公司及其专利申请,展现了ＥＬ器件的发展趋势。     

双光源DMD数字光刻系统

基于DMD数字光刻系统,建立了一种新型的双光源DMD数字光刻系统.双光源DMD数字光刻系统由光源照明系统、DMD数字微镜、投影物镜以及CCD调焦系统等几个部分组成.实验表明,与DMD数字光刻系统相比,双光源DMD数字光刻系统具有调焦点不被曝光的优点,可用于制作光纤端面微光学器件.     

透过专利看微处理器的技术发展（七）——Intel早期多级Cache专利技术分析

本文在调研大量专利文献的基础上,通过跟踪Intel早期多级高速缓存（Cache）技术专利,对几篇重要多级Cache专利技术进行了深入分析。通过申请年代分析、引证分析、衍生专利分析等手段,揭示了早期Intel多级Cache的技术重点和研发趋势,为产品研发提供线索和思路。     

深紫外光刻投影物镜的三维偏振像差

深紫外光刻投影物镜是光刻机的核心部件,然而无论是照明光场偏振态的空间分布,还是光刻投影物镜自身的偏振像差都将改变光束的紧聚焦特性,对成像质量造成不可忽略的影响。基于三维琼斯矩阵,把偏振像差函数推广到三维空间,建立了三维相干光场中偏振像差的评价方法,并分析了典型的偏振敏感光学系统深紫外光刻投影物镜的三维偏振像差,详细阐述了其物理意义。研究发现:三维偏振像差函数的光瞳分布与视场、光学薄膜以及光学系统的自身结构密切相关。深入讨论了光学薄膜及偏振效应对光刻投影物镜成像质量的影响,进一步研究了照明光场的偏振态分布与光学系统波像差的关系,研究表明:光学薄膜引入的附加位相将导致光刻投影物镜的像质明显下降,而采用径向矢量光场照明可以改善成像质量。