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相似文献
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1.
曹友元 《丝网印刷》2000,84(4):14-15
铝氧化标牌面板制作方法多种多样,在制作文字图形方面,丝网印刷起着重要作用。如平面氧化着色标牌用网印做防染保护层,二次氧化肯色标牌川网印做抗蚀层,组合工艺中用网印做抗喷砂层,多色印染标牌则网印渗透油墨在铝氧化膜上制作文字图形,也有用铝氧化染色做底色上面网印各色文字图形等等。下面介绍各种铝氧化标牌面板的制作方法,从中可以看到丝网印刷在这些制作方法中所起的重要作用。一 一次铝氧化法 1.铝本色亮字、黑底色标牌 工艺过程:开料落形→机械抛光→电解抛光或化学抛光→阳极氧化→丝网印刷→染色→去漆膜→封孔处理→…  相似文献   

2.
我们单位是以PVC为原料加工电器标牌的校办企业,加工的产品是用手工丝网印刷来完成。PVC是聚氯乙烯板材,韧性好、表面硬度软低,我们用它来制作美观大方的各种仪器、仪表、家用电器的铭牌、标牌。一、工艺流程底版制作→制丝网版→丝网印刷→贴不干胶、整形二、操...  相似文献   

3.
一、前言铜是淡红色带光泽的金属,由于它本色的自然美,以及铜腐蚀铭牌富有的立体感,抗蚀性、耐磨性强,同时具有很好的装饰效果而成为铭牌行列的佼佼者。本工艺制作的字和图案为金色,底色根据实际需要可选黑色或其它颜色。二、工艺流程光绘照相底图→照相→铜材前处理(电解去油,酸洗,水洗,干燥)→贴干膜→曝光→显影→修版→腐蚀→去膜→涂可剥漆→喷底色漆→去可剥漆→喷照光清漆→切边三、工艺说明1.光绘照相底图根据设计图纸光绘照相底图,要求底图黑白对比度大,无锯齿,无断线。若腐蚀深度为0.20~0.30mm,要求线条宽度不小…  相似文献   

4.
工艺与技术网印铜板景泰蓝生产工艺的新尝试(三) ………………………………2001/1 7铝网印铭牌制作工艺………………………2001/1 9商用薄膜开关与军用薄膜开关 ………… 2001/1 10刮板的选择与单面印制电路板网印效果 …………………………………2001/1 14丝网印刷中的套准 ………………………2001/1 15电子工业的丝网印刷 ……………………2001/1 17丝网印刷阻焊膜制作及品质控制 ………2001/2 6玻璃的丝网印刷与装饰工艺 ……………2001/2 11丝网印刷在现代信息科学技术中的应用 …………………………………  相似文献   

5.
四、丝网印刷 电子薄膜开关的面板层多采用单面毛面聚碳酸酯薄膜,用丝网漏印的方法,将图文、符号、色块等印在聚碳酸酯薄膜的光面上。它们在面板上分别起着标称、装饰及提示作用。所以在网版制作中必须采取不同的工艺措施。  相似文献   

6.
市售的铝材表面常常有许多划痕、凸凹不平,光洁度差,在制作铭牌前,需要抛光处理,提高光洁度。铝件抛光常用三酸抛光液(磷酸70%、硫酸20%、硝酸10%),由于含有硝酸成分,在抛光过程中,有大量氮氧化合物气体析出,其黄褐色的烟雾严重污染空气,危害操作者健...  相似文献   

7.
<正>概述铝氧化铭、标牌,因其底面经镜面抛光处理、氧化后着色工艺制作出来,表面光亮美观,是铭牌种类中最漂亮的一种。铝氧化铭牌至今40多年一直采用老工艺方法,费工费时费材料,生产周期长、劳动强度大、工艺落后,已经无法满足和适应现在新产品生产周期短、零部件美观合格快速齐套的要求。通过改进  相似文献   

8.
随着时代的发展,制作标牌的材料和工艺在不断出新。就不锈钢堆金奖牌而言,因其豪华美观而倍受人们青睐。工艺流程:不锈钢板材前处理→印墨、图文处理→镀前处理→电镀镍、金→脱膜→上光→成品一、不锈钢板材前处理根据制作工艺需要,先在板材表面进行拉丝或磨花纹,然后清洗除油。1.拉丝、磨花纹拉丝底先用砂纸打磨表面,然后用拉丝布按同一方向推拉,为了使丝纹平直,要用软木条当依靠。磨花纹的方法是用电动磨光机(砂带机)在不锈钢表面作旋转打磨,即可得到带花纹的板材。2.除油常用的除油方法有有机溶剂除油、化学除油和电化学除油。…  相似文献   

9.
厚版印花     
厚版印花适用于纺织品,主要是文化衫、服装、儿童服装、工艺品等。它具有立体感强、牢度好、耐洗力强的优势。这种产品在市场上刚刚兴起,市场前景广阔。具体工艺如下。原稿制作→软片输出→印版→印刷→干燥→成品一、原稿制作根据客户指定的图文进行电脑处理,然后客户确定等待输出。二、软片输出可以用喷墨打印机打印在专用的涂层胶片上,也可以用激光打印机或激光照排机输出胶片等。三、印版1.选用100目丝网绷网,要保持一定的丝网张力。2.用厚版感光胶涂布。●普通厚度:丝网必须是无油、干净和干燥的。慢慢地把感光胶涂于丝网的两面;置于40…  相似文献   

10.
b.固化膜性能 c.使用方法 @工艺流程 基板前处理,机械磨刷或酸洗—→丝网印刷(80~150)目→热风烘干(70~75)℃,8min—→网印第二面—→热风烘干(70~75)℃,(10~20)min—→曝光(400~900)MJ/cm~2—→显影  相似文献   

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