关于改进磁盘误码率的一些研究

要提高磁盘的记录密度必须减小记录介质的厚度。对平涂布介质,当其厚度减薄以后会引起误码率增加,其主要原因是由于记录介质中有大小为十微米左右的缺陷,或者是研磨拉痕。本文讨论改进误码率的一些方法。     

使用计算机的磁盘测试装置

1.前言近来,磁盘介质的制造工艺大有改进,容量超过二亿字节的磁盘存储器已开始实用。为了研制出具有最佳价格-性能比的装置,磁盘的记录密度必须进一步提高。为此,需要获得有关介质特性和可靠性的详细测试数据,同时必须研究新的测试方法或测试系统。普通的磁盘测试装置主要是用作“好、坏”的简单判断,对高密度磁盘介质的测试不适用。因此,作者制造了一台由超小型计算机     

磁盘用磁记录介质的发展

磁记录技术目前已在录音、录像、计测、通讯、信息处理等范围内得到了广泛的应用。随着计算技术的发展,对存储器的高记录密度、大容量的要求越来越迫切。从磁带发展到磁鼓和磁盘。磁盘存储器由于具有随机存取、容量大、体积小、数据传送率高等优点,已成为第三代计算机不可缺少的主要外存设备。磁盘已经应用了二十多年。在磁盘技术的研制方面,美国的 IBM 公司一直处于领先的地位。对涂布介质和环形磁头组合的电磁转换系统来说,技术发展过程表明了如下两点:1)电磁转换系统机械尺寸的减小和记录介质磁特性的改进,提高了线性密度(见图1)。     

关于改进磁盘盘片清洗方法的一些研究

前言 磁盘存贮器是电子计算机十分重要的外部设备,随着电子计算机技术的不断发展,磁盘技术特别是温式磁盘技术在提高记录密度、存贮容量及可靠性方面都取得了巨大的进展。根据目前资料,无论是低性能的非润滑磁盘直到一高性能的温式接触启停型的润滑磁盘,大都由铝基片表面上涂复γ-Fe_2O_3磁层所构成。磁层与铝基片的结合力要高,引起漏码的气泡、     

磁盘用溅射铁氧体薄膜

为了实现高记录密度的磁盘,研究了采用溅射法制成的氧化物薄膜和镀有氧化铝膜的Al 合金板的新式氧化物磁盘介质。(1)氧化物磁性薄膜的制作方法分以下两步。首先在强氧化气氛中,通过反应溅射形成α-Fe_2O_3;然后继续在氢气中进行还原生成Fe_3O_4。(2)采用了与涂布型磁盘板相同的Al 合金基板,由于表面镀有较硬的氧化铝膜,所以与以前基板相比,提高了表面精度及耐磁头磨损性。(3)由于同时添加Al 和Co,提高了磁特性,而且记录密度达到了800位/毫米。(4)今后的研究课题不仅只限于电磁转换特性,而且还要对漏码、耐磁头磨损性等方面进行研究,同时考虑到生产率的问题还要进一步提高磁性膜的生成速度。     

金属薄膜记录介质的研究与开发

一、概况计算机大容量磁盘存储器取得了飞速发展,其容量大约每十年提高十倍。目前IBM 3380的面密度已达18,000位/mm~2,几乎达到了传统的磁头和甩涂氧化铁胶层的极限密度。要进一步提高记录密度就必须进一步减薄记录介质的厚度(0.5～0.03μ),进一步降低磁头的飞行高度(0.3～0.12μ),进一步缩小磁头间隙和道宽(0.8～0.15和23～16μ)。传统的甩涂氧化铁磁层很难做     

华胜工作站——第三讲 UNIX操作系统工作原理与实践(下)

<正> 1.SUNOS 操作系统的磁盘分区(1)有关磁盘的几个概念a.磁盘它是一种永久性存贮数据的磁性介质,一般来说,磁盘由磁头,磁头臂,介质和机械驱动等组成。     

改进的调频制记录再生系统

一、概述参考资料(1)中介绍了在同一个磁盘浮动头系统上,用峰值位移严重的数据编码图象进行记录和读出来比较以下三种记录方式的密度上限和不同记录密度下的相位储备:(1)改进的不归零制(MNRZI);(2)调频制(FM);(3)改进的调频制(MFM)。其密度上限分别为:200,135,185位/毫米。实验结果表明,这三种记录方式的优劣顺序是:MNRZI,MFM,FM。其中 MNRZI也就是成组编码(GCR)。1973年11月研     

数字磁记录均衡器

1.前言近几年来,由于数据处理装置的处理速度有了很大地提高,数据的传输速度也要求相应地增加。如果以具有代表性的外存储装置磁盘或磁鼓作为例子,它的传输速度是由转速和记录密度所决定的。因此,假如仅仅为了增加传输速度,可用提高转速的办法来达到。然而,由于MOS存储器等正沿着大容量、低成本的方向飞快地发展,数字磁记录装置也必须提高记录密度,以达到增加传输速度并降低每位成本的目的。在过去的磁盘、磁鼓中,随着记录密度的增加,由于记录介质上邻近磁化翻转的相互干     

镀型磁盘

1.前言作为外存储装置的磁鼓采用了电镀磁记录介质,并且显示了这种介质的良好特性。另一方面,镀型磁盘虽有可能提高记录密度,但作为数字型磁盘几乎没有得到实际应用。这主要是因为现有的γ-Fe_2O_3磁粉涂布型磁盘的制造技术日趋完善,造价便宜,而镀型磁盘在抗磁头划伤性、误码率及耐腐蚀性等方面,特别是可靠性方面还存在着问题。然而,由于最近采用了固定的数据复合盘     

光盘存贮器浅释

一、概述光盘存贮器是继磁盘存贮器之后一种新型的激光信息存贮器装置。它是根据磁盘高速随机存取技术和激光的高记录密度特性而研制的。光盘存贮器尽管与磁盘存贮器有很大的差别,但它能很简单地以现有的磁盘存贮系统的设计为基础来进行设计。     

带复合盘的IBM 3340磁盘装置的工程设计

引言自从1956年IBM RAMAC305问世以来,磁盘装置的状况一直是和计算机的发展联系在一起的。1962年出现了盘组可由用户装卸且可互换的IBM1311。盘面记录密度和每个盘轴容量的提高,降低了每兆字节(联机数据)的成本,1967年至1970年期间共降低了三分之二。数据传输率的增加、取数臂移动与旋转等待时间的缩短以及可靠性的改进,都提高了系统的性能和使用价值。然而,小型和中型磁盘装置更难以做到高     

磁盘定向技术(一)

本文从磁盘定向技术出发,讨论磁场定向技术给磁盘的记录特性带来的好处。从中可以看出:磁场定向技术是制备存贮容量在200MB以上高记录密度磁盘所必备的重要技术之一。在此,我们将围绕磁场定向技术,着重研讨磁粉选择、定向磁场装置设计等有关问题,并提出实验结论和一些新的看法。     

800兆字节磁盘装置的研制

根据数据通讯系统中联机存储器大容量低价格的要求,研制成目前世界上记忆容量最大的磁盘记忆装置,每轴容量达800兆字节。该机由于采用了薄磁层涂布介质、接触起停式狭道磁头、内部温度均匀的头盘组件等新技术,使记录密度达到了约9000位/毫米~2,因此磁盘单机容量为原来的四倍。此外还采用了动态交叉调用功能,每台控制器所能控制的轴数增加到32个,使磁盘子系统最大记忆容量提高了一个数量级。本机存取时间缩短到20ms,数据传送速率也提高到1.35MB/S。     

保证盘面质量的浮动试验——叙述一种盘面粗糙度的判废鉴定技术

为了提高磁盘存贮器的记录密度要求磁头(装在合适的浮动块上)紧靠着高速旋转的盘面“飞行”。在IBM 3370直接存取存贮器中,头盘的间隙保持在不到0.4μm范围内,要稳定这样一个小的间隙则要求盘面不是这样一种粗糙表面,即它会造成头盘相擦从而导致记录系统的灾难性失败。本文叙述一种利用压电梁检测磁盘表面不平坦度的方法。     

1001机磁盘存贮器的出错校正

磁盘在电子计算机系统中作为大容量存贮设备已得到了广泛的应用,但如何进一步提高盘面的记录密度还是当前研制工作中需要解决的重要课题,目前由于盘片的材料及加工、涂层工艺的限制,能够提供用作高密度记录的盘面还很难做到完美无缺,由此造成信息错误也就很难避免,这就要求磁盘装置具有出错检别和校正的功能,使之有可能改善可靠性能和提高使用效率。对此应用编码理论对需要记录在盘面上的数据序列以一定的规则产生一些校验     

DIPS用改进型磁盘组

1 前言 DIPS改进型磁盘组(试制型号为101型磁盘组)在DIPS改进型磁盘装置中使用,其存储容量为1亿字节,由12片盘构成,其中有19面是记录面,另有一面是写入决定磁道位置信息的伺服面,和过去的11片盘组相比,记录密度(160位/毫米)和磁道密度(8道/毫米)约提高一倍。在盘组研制中,为了保持机械的和磁性能的互换性,比过去更重视盘组的国际标准化问题。6片盘的盘组已标准化(IS2864),11片盘的盘组也在ISO(国际标准化     

IBM1311活盘式磁盘(上)

Ⅰ.引言为了满足小用户在成本、容量和速度上对外存储器的要求,研制了一种 IBM 1311活盘式磁盘(图1)。该存储装置的功能是在计算机控制信号的控制下选址、写数和读数。为了完成这些操作,该存储装置包括;1)一个液压式的机械选址系统,用来在磁盘表面定出读-写头给定的位置;2)10个读写磁头;3)可换式磁盘组,每组有10个记录磁盘表面(6个磁盘);4)一个带动磁盘组的电动机,它能为液压系统提供动力;5)读写电子线路和控制电子线路;6)磁头     

数字磁记录的编码方式

1.前言随着信息处理系统的发展,外存储装置显得愈来愈重要。所以,缩短存取时间,扩大存储容量,就成为提高外存储器性能的重要课题。要扩大存储容量,并提高记录密度,当然得研制高分辨率的记录介质和磁头,减小磁头和记录介质之间的间隙,以及提高定位精度等,而究竟采用哪一种记录方式则是充分利用记录系统本身特性来提高记录密度的一种重要途径。本文主要介绍改进型不旧“零”制MNRZI(Modifled-NRZI)。这种记录方式的特点是将4位信息变成5位来记录,和广泛使用的FM(调频制)、MFM(改进型调频制)方式比较,这     

小型磁盘装置中精密机械技术的综述与简析

从60年代初起直至今日,磁盘装置一直是数据处理系统中主要的外存贮设备。目前它正处于发展的黄金时代。从图1可见,其存贮容量在近10年间就提高10倍,其技术发展十分显著和迅速。1978年以前传统的磁盘装置中磁盘盘片直径为φ356mm,而1978年以来出现了小磁盘径(φ210mm和φ130)磁盘装置。这种小磁盘装置体积小,消耗功率小,因此发展极快,应用的范围逐年扩大。