真空电弧镀DZ22合金NiCrAlY涂层性能研究

真空电弧镀ＤＺ２２合金ＮｉＣｒＡｌＹ涂层性能研究北京航空材料研究所吴凤筠一、前言真空电弧镀膜设备Ａ１０００采用电弧放电直接蒸发镀膜材料制成的阴极靶，与同类型镀膜设备一样有如下特点：ａ．金属阴极蒸发源不熔化；ｂ．由磁场控制电弧放电，可细化膜层微粒；ｃ．...     

复合离子镀AlTiN薄膜的表面形貌

本工作将阴极真空电弧沉积法和磁控溅射离子镀法结合形成复合镀膜工艺,即用电弧蒸发Ti靶的同时,用磁控溅射Al靶,并通入反应气体N2,以在高速钢基底上镀制AlTiN薄膜,考察了复合镀膜方法获得的AlTiN薄膜的表面形貌,并将其与单一法镀膜的表面形貌进行了对比分析.电弧离子镀制备的AlTiN薄膜表面颗粒很多,而且尺寸大,表面很粗糙,磁控溅射制备的AlTiN薄膜表面光滑平整,复合镀得到的AlTiN薄膜表面粗糙度介于二者之间,但从形貌上看,复合镀的薄膜呈现出典型的层状生长特征,在SEM下可清晰地看到表面的层状生长在部分区域不完全.测试发现,复合镀薄膜形貌并不是电弧镀和溅射镀薄膜形貌的简单混合,而是具有自身独特的特征,这可能是由于电弧弧光等离子体与溅射的辉光等离子体相互作用的结果.     

脉冲真空电弧镀的实验研究

本文介绍了利用脉冲真空电弧进行镀膜的初步研究结果。主要研究了在不同电气参数、结构参数……条件下，在炭钢基材上镀铝合金膜和不锈钢膜及影响成膜性能的因素。研究结果表明，这种镀膜方法，可以镀各种金属和合金膜；具有设备简单，镀膜速率高等特点，但仍需进一步消除膜中的大颗粒，改善膜的表面光洁度。     

磁过滤电弧离子镀技术

冷阴极反离子镀技术自从问世以来,由于具有高电离度和较高的离子能量,因而在镀制高硬度、高耐磨性薄膜方面得到了广泛的应用。如切削刀具、模具上的硬质薄膜、汽缸活塞环发动机内壁上的抗磨损薄膜,等等。同时由于电弧离子镀设备结构简单、镀膜过程容易控制,它在装饰镀方面也获得了广泛的应用,如仿金镀以及一些五金件的装饰镀。但是由于普通电弧离子镀膜过程中阴极会产生大量液滴（微粒）,并与金属离子一起沉积在基片上,因而限     

第二十讲 真空离子镀膜

<正>13真空阴极电弧离子镀13.l概述真空阴极电弧离子镀简称真空电弧镀(Vacuum arc plating)。如采用两个或两个以上真空电弧蒸发源(简称电弧源)时,则称为多弧离子镀或多弧镀。它是把真空弧光放电用于蒸发源的一种真空离子镀膜技术,它与空心阴极放电的热(接2019年第4期第80页)     

离子镀膜中的弧电流对膜层质量的影响

论述了电弧电流对多弧离子镀膜层的硬度、厚度及其外观形貌的影响 ,并进一步阐述了电弧电流在实际应用中的作用 ,说明了镀制不同功能的膜层 ,应选择不同弧电流的重要性     

离子镀膜中的弧电流对膜层质量的影响

论述了电弧电流对多弧离子镀膜层的硬度，厚度及其外观形貌的影响，并进一步阐述了电弧电流在实际应用中的作用，说明了镀制不同功能的膜层，应选择不同弧电流的重要性。     

光学塑料棱镜反射膜的镀制

由于光学塑料在耐热性、耐吸湿性和表面强度等方面的特性比光学玻璃差,所以在光学塑料棱镜表面上镀制金属反射膜存在着金属膜层和塑料棱镜表而附着性能差的问题,镀膜后的塑料棱镜不易达到使用的技术要求.本文通过对镀膜材料和光学塑料基体的特性分析,提出了一种实用的介质加金属三层反射膜系.基于这种膜系采用了等离子辅助镀膜技术和石英晶片监控膜厚的方法,并且针对塑料棱镜蒸镀的特殊性,严格控制蒸镀条件中的有关参数,形成了一套稳定的蒸镀工艺.实验结果表明,光学塑料棱镜镀制金属反射膜可以解决膜层性能差的问题,满足光学产品的技术要求,实现批量生产.     

塑料真空镀膜的进展及应用

一、概况为了提高塑料的附加功能,进一步扩大塑料用途,利用真空镀膜技术对塑料表面进行处理是一个好办法。目前常用的塑料真空镀膜方法有真空蒸镀法和磁控溅射法。所谓蒸镀法就是在10~(-4)～10~(-5)Torr的真空中加热蒸镀材料,使其在极短时间内蒸发并沉积在基材表面形成镀膜层。一般,该法只能蒸镀像铝这样的低融点金属。磁控溅射法利用高效磁控管溅     

磁控溅射法制备柔性纺织面料基纳米薄膜的研究与进展

磁控溅射工艺技术是一种重要的镀膜技术,广泛应用于薄膜材料制备和材料的表面处理,应用于柔性纺织材料的表面镀膜也越来越广。本文主要介绍磁控溅射法在柔性纺织面料上制备纳米薄膜的研究和发展情况,包括镀制金属、合金、化合物或陶瓷、高分子材料等单层或多层薄膜,用以开发功能性纺织品的研究情况。介绍的镀膜包括银膜、铜膜、铝膜、钛膜及其金属氧化膜、聚四氟乙烯膜等。     

利用空心阴极放电法(HCD)的蒸镀技术

1.产生高密度金属离子的HCD蒸镀法 过去真空蒸镀和溅镀,曾被光学和半导体工业广泛采用,做为一种近乎理想的无公害镀膜法,代替了温式镀膜,但是进入70年代以来,人们对于这些方法做了认真的研究。尤其是离子镀是有发展前途的代用手段,引起了很多人的注意。所谓离子镀,就是在蒸发物质(金属、合金及无机化合物等)和气体的离子轰击中,使蒸发物质蒸镀到基片表面上的方法:由Mattox创始的离子镀,最初追求良好的粘着性;是在产生气体散射的10-2托压力下进行的1-3)。但是有人批评,在高的压方下镀膜能降低膜的牢,固性,因此进一步研究在或低于、10-3的压…     

金属蒸镀膜的附着力测定

1.前言 对于蒸镀膜在基板上的附着强度和把该膜从基板上剥离下来时的破坏过程的研究,在考虑蒸镀膜应用技术及其膜的持久性时是重要的。并且,做为蒸镀膜的物性研究也是很有兴趣的问题。 在这里通过真空蒸镀法就测定玻璃基板上蒸镀金属(银、铜、铝)的附着力、膜厚度的依存性以及基板温度的依存性的结果进行报告。 2.试验材料的制作 附着力测定时所用材料(银、铜、铝)的蒸镀是采用扩散泵排气系统进行排气的真空室。试验材料的纯度用99.999～99.99%在锦蒸发器中进行加热,其蒸发速度为2～4A/s。蒸镀过程中的真空度为4 × 10-3帕。基板采用 26 ×…     

Cu丝上沉积Ti/TiN多层膜的研究

铜丝可用于尿毒症患者腹膜透析置管术中的替代导丝。为了减少或消除铜离子对生物组织的损害,增加铜丝表面的生物相容性,同时又保持铜丝较好的塑性变形能力,本文采用电弧离子镀工艺在铜丝上沉积Ti/TiN多层膜。研究结果显示,镀膜铜丝表面光亮呈金黄色。沉积膜有明显的周期性层状特征,TiN相和金属Ti相周期性交替分布。其中,TiN相具有(111)晶面择优取向。沉积膜与铜丝结合良好,弯曲时镀膜铜丝没有出现微裂纹和膜脱落现象。室温消毒液浸泡和高温蒸汽消毒处理后,镀膜铜丝表面没有变化。腹膜透析置管术中使用镀膜铜丝,患者腹膜炎发生率明显降低,镀制Ti/TiN多层膜的铜丝适合应用于腹膜透析手术。     

多弧沉积技术综述

自从八十年代初多弧镀设备成功地在刀具、模具上镀氮化钛镀层以来,多弧镀受到广泛的关注。国内刀具行业纷纷引进设备,许多研究所和设备制造厂也相继研制,“多弧”热的浪潮一度掀起。如何客观地评价这一技术呢?如何合理地利用它的长处呢?本文想在目前所了解的资料的基础上作一综述。 一、多弧镀的概述 1.什么是多弧镀 多弧镀是一种利用真空电弧放电的沉积技术。但它不是空芯阴极放电的那种热电子电弧,而是一种非热电子电弧。它的电弧形式是在冷阴极表面上形成一个或多个阴极电弧斑点。过些斑点具有高的电流密度,从而使阴极材料汽化,形成金属…     

热反射玻璃镀膜工艺的研究

本文采用直流磁控溅射方法，对氧化不锈钢膜、金属Ｔｉ膜、ＴｉＮ膜和ＴｉＯｘＮｙ膜在不同工艺和不同组合条件下形成的两层膜系热反射镀膜玻璃的光学性能及有关组份进行了测试分析，阐明了该种方法及该种系列工艺条件下镀制热反射玻璃镀膜的性质，提出了此工艺条件镀制两层膜系热反射玻璃镀膜的最佳组合工艺。对有关工业生产中实施工艺技术所存在的问题进行了探讨     

真空金属镀膜显现手印操作技巧研究

进一步推广真空金属镀膜显现新技术。方法:采用实验的方法,从真空金属镀膜法显现手印的最佳喷镀位置、喷镀材料的最佳用量、最佳喷镀时间及真空金属镀膜法适用的客体及手印物质范围入手,研究真空金属镀膜显现手印技术的最佳操作技巧。结果:确定了不同喷镀位置手印喷镀效果、喷镀材料的最佳用量及不同客体的最佳喷镀时间及显现效果。结论:真空金属镀膜的最佳操作技巧可为真空金属镀膜显现手印技术进一步推广提供帮助。     

镀膜装置及镀膜方法

镀膜装置及镀膜方法,镀膜装置包含转盘、遮板及镀材源;转盘是能规律旋转;遮板是依照镀膜层的特定厚度而设成,且设置于靠近基板的位置;镀材源是与转盘相对而设,并使遮板介于两者之间。镀膜方法包括将基板设置于能规律旋转的转盘上;将依照镀膜层的特定厚度所设成的遮板设置于靠近基板的位置以及利用镀材源将镀膜层镀于基板上。具有于一基板上形成两种以上特定厚度的镀膜层的功效。     

辉光弧光协同共放电方式制备TiN薄膜的研究

分别采用中频磁控溅射、电弧离子镀及辉光弧光协同共放电混合镀(APSCD)三种方式在碳钢基体上制备TiN薄膜,采用原子力学显微镜、显微硬度计、台阶膜厚仪、电化学技术对薄膜表面形貌、显微硬度、膜厚、耐腐蚀性进行测试.研究结果表明:多弧离子镀薄膜颗粒的平均粗糙度为7.066 nm,混合镀薄膜颗粒的平均粗糙度为4.687 nm,在相同时间条件下,磁控溅射薄膜厚度为658 nm,混合镀膜厚度为1345 nm,混合镀工艺具有降低多弧离子镀粗糙度又可以克服磁控溅射沉积速率慢的优点.经过混合镀TiN薄膜后,基体表面显微硬度从226HV提高到1238 HV,在天然海水中测得混合镀膜层腐蚀电位比基体提高104 mV.     

镀膜角反射器空间辐照环境效应研究

角反射器作为激光测距的合作目标,早已得到广泛地研究和应用,但对镀反射膜角反射器的相关研究,文献显示却比较少。通过对镀制了金属反射膜的角反射器进行空间环境模拟试验,结合激光反射率测试,研究了空间辐照环境对镀膜角反射器光学性能的影响。在经过电子、质子辐照以及紫外辐照试验后,镀膜角反射器表现出良好的空间辐照环境稳定性。     

同轴旋转封闭场电弧离子镀的研究

同轴旋转封闭电弧离子镀设备兼有平面电弧离子镀和同轴磁控溅射的优点，它在同轴靶上建立电弧放电，并采用旋转封闭磁场将电弧斑约束在长腰形的磁环隙内作螺旋运动，随磁路系统旋转而在阴极靶表面上产生旋转的电弧放电。靶处在镀膜室中央，结构简单，膜层均匀、操作方便。工件架安装在阴、阳极之间，其只需自转、无需公转、工件装载量多。利用本设备在手表表壳上镀制氮化钛膜层，其工艺重复性好，膜层与基体结合牢固，且靶材利用率高