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铝合金微弧氧化陶瓷膜的形成过程及其特性 总被引:61,自引:3,他引:61
分析了微弧氧化陶瓷膜形成过程,描述了样品表面微区弧光放电现象,并采用X射线衍射法(XRD)和扫描电镜(SEM)研究了LY12铝合金微弧氧化陶瓷膜的相组成及形貌特征。结果表明,铝合金微弧氧化陶瓷膜主要α-Al2O3、γ-Al2O3组成,陶瓷氧化膜具有表面疏松层、致密层两层结构。微弧氧化技术是一种非常有前途的新技术。 相似文献
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采用微弧氧化工艺对汽车用7075铝合金进行处理,生成氧化铝陶瓷膜。微弧氧化初期,随着微弧氧化时间的延长,致密层增厚,微弧氧化膜的硬度和耐蚀性显著提高;当微弧氧化时间大于100min时,由于致密层难以击穿,表面的疏松层导致微弧氧化膜的硬度增加缓慢,耐蚀性下降。微弧氧化时间为100min时制备的微弧氧化膜具有较高的硬度和最佳的耐蚀性。 相似文献
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主要研究了电流密度对铝合金表面微弧氧化膜组织和性能的影响,使用扫描电子显微镜、激光共聚焦电子显微镜和X-射线衍射仪对不同电流密度下制备的微弧氧化膜的表面形貌和相组成进行了分析,同时测定了其表面显微硬度。结果表明,铝合金表面微弧氧化膜主要由α-Al2O3和γ-Al2O3组成,而且Ja高对陶瓷膜中α-Al2O3相的影响较γ-Al2O3大,Jκ/Ja对膜中γ-Al2O3相的影响较大,对微观结构有较大影响。高Ja制备的陶瓷膜主要组成相为α-Al2O3,低Ja为γ-Al2O3相,并确定了当Ja为6A/dm2,Jκ/Ja为0.8时陶瓷膜硬度最大可达1540HV。 相似文献
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采用微弧氧化技术在以Na2SiO3为主的碱性电解液中于6063铝合金表面制得均匀的陶瓷膜。研究了陶瓷膜的生长规律,采用扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)分别观察和分析了不同氧化时间下制备的陶瓷膜的表面形貌及相组成,并研究了陶瓷膜的完整性和耐腐蚀性能。结果表明,随着氧化时间的延长,膜层的总厚度逐渐增加,膜层的生长由向外生长逐渐过渡到向内生长,表面粗糙度线性增加。膜层内部致密层的硬度高于外面疏松层的硬度,并随着氧化时间的延长,两者硬度的差值增大。膜层主要由α-Al2O3和γ-Al2O3组成,且随着氧化时间的延长,γ-Al2O3含量逐渐减少而α-Al2O3的含量逐渐增加。不同氧化时间所得陶瓷膜的γ值均大于1,膜层的完整性符合要求,在3.5%(质量分数)NaCl溶液中的耐蚀性随着氧化时间的延长而先增大后减小。 相似文献
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在硅酸钠、钨酸钠、硼酸、偏铝酸钠和乙二胺四乙酸二钠的复合电解液中,分别采用交流电源和脉冲电源,利用微弧氧化方法,在ZL102铸造铝合金上制备了陶瓷膜层。通过扫描电镜(SEM)观察,交流电源模式制备的陶瓷膜层表面孔洞少,比用脉冲电源制备的陶瓷膜形貌好。利用电化学方法分析了陶瓷层的防腐蚀性能,交流电源制备的陶瓷膜层耐腐蚀性能好。 相似文献
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铝合金表面微弧氧化技术的研究进展 总被引:2,自引:0,他引:2
论文介绍了铝合金表面微弧氧化技术的研究进展,重点总结了近年来研究者在陶瓷膜形成机理、陶瓷膜性能及陶瓷膜结构等方面的研究成果,并预测了微弧氧化技术发展趋势,为从事这方面的研究人员提供一定的理论指导。 相似文献
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铝合金在不同溶液中的微弧氧化膜层性能研究 总被引:34,自引:1,他引:34
分析了LY12铝合金在不同电解质溶液生成的微弧氧化膜,比较了微弧氧化膜厚度在不同溶液中随时间的变化。通过扫描电镜和电子探针分析微弧氧化膜的横截面结构,化学成分以及这些元素在微弧氧化膜载面不同位置的分布。实验结果表明微弧氧化膜的生长速度在不同溶液中各个同,但厚度随时间的变化规律基本相同。 相似文献
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在硅酸钠、钨酸钠、硼酸、偏铝酸钠和乙二胺四乙酸二钠的复合电解液中,利用微弧氧化方法,在ZL102铸造铝合金上制备了陶瓷膜层。结果表明:脉冲电源获得的氧化膜表面由熔化凝固后的氧化物颗粒组成,颗粒呈不规则球形,周围有明显的熔化痕迹,表面粗糙凹凸不平且不均匀。通过对陶瓷膜层能谱分析,膜层中出现了Al、Si、Na、O、W元素。 相似文献
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在NaAlO2-K2ZrF6组成的电解液体系中,利用微弧氧化的方法在LY12铝合金的表面制备陶瓷膜.结果表明,膜层由α-Al2O3、γ-Al2O3和分布于膜外层的c-ZrO2组成,沿膜层截面由内向外α-Al2O3减少,γ-Al2O3和c-ZrO2增加.8 g/L NaAlO2-1 g/L K2ZrF6体系与NaAlO2体系的膜层比较,具有更大的硬度和更好的耐磨性及耐腐蚀性能:最大硬度提高了25.69%,磨损率下降了64.29%,摩擦系数略有下降,腐蚀电流密度降低了96.34%. 相似文献
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铝合金微弧氧化陶瓷层生长过程研究 总被引:5,自引:0,他引:5
采用硅酸钠溶液体系,制得250μm左右的微弧氧化陶瓷层。研究了溶液电导率以及电流密度对Al合金微弧氧化陶瓷层生长过程和厚度的影响。结果表明,提高溶液电导率能加速陶瓷层的生长,降低陶瓷层粗糙度。提高电流密度能加速陶瓷层的生长速率,但不宜过高,以10A/dm^2左右为佳。采用金相显微镜观察微弧氧化陶瓷层截面发现陶瓷层呈连续结构,较厚的陶瓷层中有少量金属颗粒存在。 相似文献
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