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《材料保护》2001,34(5):60-61
20010537 沉积CdTe薄膜的新工艺 ——Patil V B. Materials Chemistry and Physics, 2000,65(3):282(英文) 介绍了一种工艺简便、成本较低的沉积n\|CdTe薄膜的新工艺,采用该工艺沉积的薄膜质量高,最佳工艺参数为:沉积温度75 ℃,pH值10.0±0.5,沉积时间90 min。沉积的薄膜为浅灰色,膜厚0.3 μm。黑色CdTe薄膜富Cd,沉积的CdTe薄膜由六方晶体结构和立方晶体结构晶粒组成。显微分析表明,在球形晶粒上存在附生长,这种结构有利于100 ℃黑化处理,CdTe薄膜的光吸收系数为104/cm,能隙为1.45 eV,在室温下薄膜为n型导体,电阻率为106 Ω*cm,还测试了薄膜电导激活能。 相似文献
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20 0 10 80 1 脉冲激光沉积SiC薄膜———PeltJS .ThinSolidFilms,2 0 0 0 ,371(1~ 2 ) :72 (英文 )脉冲激光沉积 (PLD)是一种可靠、经济的制备高温超导氧化物薄膜的方法 ,对比分析了PLD与其他薄膜沉积方法的区别。PLD方法比热丝蒸镀和CVD方法更容易产生汽化物 ,因此 ,采用PLD方法有可能实现在较低温度基体上沉积平整超导薄膜。采用PLD方法在 (10 0 )Si和 (0 0 0 1)蓝宝石上沉积SiC薄膜 ,沉积温度2 5 0~ 90 0℃。原位测试表明 ,在蓝宝石上沉积薄膜温度 >70 0℃ ,薄膜早期生长物类似单晶材… 相似文献
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20010401 使用液态原材料和直流等离子物理气相沉积法制备SiC涂层 ——Wilden J. Galvanotechnik, 2000.91(6):1 680(德文)示出了Si-C相图,给出了SiC涂覆工艺的文献评述,着重于涂层成分和化学计算值的差别, 详细介绍了使用单独预合成三氯甲硅烷和三甲氯硅烷的实际生产情况。无氯的预合成物还包 括:六甲撑乙硅氧烷、六甲撑乙硅烷和六甲基撑环三硅乙烷。概略示出了预合成料的处理及 主气线路回路,详细介绍了CVD的工艺参数及涂层分析方法。20010402 大批量低成本生产精密零件的优质PVD涂层 ——Hans M. Surface and Coatings Tech… 相似文献
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尽管镀铝薄膜第一次出现是在二十世纪三十年代中期,但实现它的真正价值化了近40年。现在,1989年,随着新型薄膜的研究发展,包装工业不仅看到了技术上高超的产品,而且质量上优于其它阻隔性薄膜。感谢Hoechst薄膜公司的远见,南非没有放弃镀铝薄膜的研制,该公司不仅在它的Trespaphan Bopp(双向拉伸聚丙烯)工厂大量投资,而且还制造特级FrespaphanFND薄膜专用于镀铝。此外,南非一家大镀铝薄膜厂Interpak能将FND薄膜加工成 相似文献
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金刚石薄膜涂层刀具及其应用 总被引:10,自引:0,他引:10
金刚石薄膜硬度高,耐磨损,导热性好,在切削刀具涂层方面具有广阔的应用前景。本文主要介绍金刚石薄膜的合成原理,金刚石薄膜涂层刀具的切削性能及其应用效果。 相似文献
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对涂层薄膜而言,硬度检测是定量分析其质量的一种手段,本文介绍了表面涂层薄膜硬度检测技术及所研制的检测系统的组成,阐述了该项技术的特点及其应用前景。 相似文献
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目的 制备一种新型环保、综合性能优异的高透明防雾涂层,解决生鲜食品的塑料包装薄膜极易发生雾化的问题。方法 通过溶液共混法将聚乙烯醇(Polyvinyl Alcohol,PVA)和海藻酸钠(Sodium Alginate,SA)混合制备PVA-SA防雾涂料,并利用刮涂法将其涂覆于PE薄膜表面,以制备防雾涂层。测试分析涂层的组成,以及对薄膜防雾性能的影响,并使用分子动力学模拟软件分析水分子在不同界面的运动行为,探究PVA-SA涂层的防雾机理。结果 经过测试分析发现,采用质量分数为2.78%的PVA和0.84%的SA制备的涂层展现出最佳的防雾效果,且该涂层具有超亲水性,其水接触角低至7.8°,所制备涂覆膜的平均透光率高达93.2%,平均雾度仅为3.44%,该涂覆膜在热雾中表现出高透明度,且对奶油草莓具有良好的保鲜效果。在模拟分析中发现,水滴与涂层间的平均结合能为水滴与薄膜的结合能的57倍。结论 PVA-SA涂层具有高透明性,在不影响薄膜原有透明性的同时有助于增强薄膜的润湿性,可以对生鲜食品起到很好的保鲜作用。采用模拟分析剖析了亲水涂层的防雾机理,结果表明该涂层材料在保鲜包装薄膜的防雾功能化应... 相似文献
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Ni3Al薄膜涂层的制备与性能研究 总被引:2,自引:0,他引:2
利用PLD法制备的淀积态的Ni-Al薄膜经1073K/3600s(Ar气中)热处理后,可以获得以Ni3Al为基的Ni3Al/Ni复相薄膜涂层。这种复相涂层无论是强度(硬度)还是耐蚀性与未涂层的Ni相比,都有显著的提高。 相似文献
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利用PLD法制备的淀积态的Ni-Al薄膜经1073K/3600s(Ar气中)热处理后,可以获得以Ni3Al为基的Ni3Al/Ni复相薄膜涂层.这种复相涂层无论是强度(硬度)还是耐蚀性与未涂层的Ni相比,都有显著的提高. 相似文献
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金刚石薄膜涂层硬质合金刀具的界面表征 总被引:3,自引:0,他引:3
采用SEM对金刚石薄膜涂层硬质合金刀具的金刚石薄膜表面、背面及金刚石薄膜剥落后的硬质合金刀片表面的典型形貌进行了观察,并采用TEM对金刚石薄膜/硬质合金刀片横截面的微观组织进行了研究,还采用FT—Raman光谱法对金刚石薄膜表面及金刚石薄膜剥落后的硬质合金刀片表面的微观结构进行了表征.结果表明:经适当的化学侵蚀脱钻和等离子体刻蚀脱碳预处理后,金刚石薄膜涂层硬质合金刀具的界面通常存在薄的(数十nm)石墨碳层;局部区域见到金刚石粒子直接生长在WC颗粒上,金刚石膜/基横截面的典型组织层次为:金刚石薄膜/薄的石墨碳层/细小的WC层/残留的脱碳层(η相+W相)/原始的硬质合金基体. 相似文献
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采用直流磁控反应溅射技术,获得了三种铬-氧薄膜复合材料。反应蒸发得到了两种铬-氧薄膜复合材料。用测厚仪与分光光度计法确定了波长在0.4-2.5微米范围内这些薄膜材料的光学常数n、k(复折射率n-ik)。其中第三种溅射铬-氧薄膜(C_rO3)的能带间隙约1.leV (A-D)和1.4eV(H-T)。从这些铬-氧薄膜材料的n、k数据,计算与设计了太阳选择性吸收涂层。得到以铝为底层的铬-氧选择性吸收涂层的最佳太阳光吸收率a≈0.91(AM2),这与实际制备的铬-氧选择性涂层的吸收率是一致的。直流磁控反应溅射制备的SiO_X薄膜,其成分接近SiO_2。经确定SiO_2薄膜的n≈1.5,k<0.01。SiO_2作为减反射膜沉积在上述的铬-氧选择性涂层上,其太阳吸收率a(AM2)≈0.94,室温发射率ε=0.04,故a/ε达23.5。 相似文献