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对高导热人造多晶金刚石、电镀人造金刚石及天然金刚石的二次电子发射特性进行了研究。测得金刚石的二次电子发射系数小于铜及镍,与热解石墨相当或更低。 相似文献
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为了抑制空间高功率器件中微放电击穿,本文提出了一种表面多孔结构。通过在器件表面构造该多孔结构,实现对二次发射电子的禁锢,从而减小器件表面二次电子发射系数,提高微放电阈值。通过模拟分析不同金属材料表面的二次电子发射特性,结合波方程和电子动力学理论建立电磁粒子模拟算法,实现不同微观表面微波器件的数值模拟。使用偏置电流法测量不同条件下金属的二次电子发射数据。模拟计算一定功率电平下典型微波开关微放电的物理图像。测量给出不同银表面处理下的二次电子发射特性,并且模拟给出微放电阈值。模拟结果与实验结果吻合良好,证明了表面多孔结构对微放电的有效抑制。 相似文献
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作为微波真空电子器件的常用材料之一,无氧铜材料的蒸发特性会对微波真空电子器件的电性能产生影响。该文利用超高真空测试设备,研究了处理工艺对无氧铜材料的蒸发性能的影响,采用X射线测厚仪测试了蒸发的铜膜厚度,用扫描电镜(SEM)观测了无氧铜材料的表面形貌。结果表明表面宏观形貌粗糙度对无氧铜材料的蒸发性能影响不大,但处理工艺对蒸发性能影响很大;无氧铜材料经过酸洗后,会大大增加蒸发量;无氧铜材料经过烧氢处理,可降低蒸发量,而经过去油清洗并烧氢处理的无氧铜的蒸发量极低。对无氧铜材料进行了表面分析,发现无氧铜材料的真空蒸发性能与材料的表面形貌状态有关,当表面微观形貌比较光滑、无孔洞等缺陷时,无氧铜材料的真空蒸发量就少。 相似文献
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作为微波真空电子器件的常用材料之一,无氧铜材料的蒸发特性会对微波真空电子器件的电性能产生影响.该文利用超高真空测试设备,研究了处理工艺对无氧铜材料的蒸发性能的影响,采用X射线测厚仪测试了蒸发的铜膜厚度,用扫描电镜(SEM)观测了无氧铜材料的表面形貌.结果表明表面宏观形貌粗糙度对无氧铜材料的蒸发性能影响不大,但处理工艺对蒸发性能影响很大;无氧铜材料经过酸洗后,会大大增加蒸发量;无氧铜材料经过烧氢处理,可降低蒸发量,而经过去油清洗并烧氢处理的无氧铜的蒸发量极低.对无氧铜材料进行了表面分析,发现无氧铜材料的真空蒸发性能与材料的表面形貌状态有关,当表面微观形貌比较光滑、无孔洞等缺陷时,无氧铜材料的真空蒸发量就少. 相似文献
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二次电子发射系数的测量及应用 总被引:2,自引:0,他引:2
对多种材料的二次电子发射系数进行了测量,并讨论了这些受试材料的二次电子发射特性和发光效率。通过测量,可选择合适的材料以改善PDP的性能。 相似文献
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用离子束技术改善材料电子发射特性的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
本文用离子束技术,使铜网的二次电子发射系数降低,场发射性能得到改善,钼网的“栅发射”得到抑制,测量并讨论了逸出功变化对电子发射性能的影响,研究表明,离子束技术是改善材料电子发射性能的有效手段。 相似文献
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Computer codes being developed to improve the understanding of crossed-field amplifier (CFA) performance require a more complete and reliable database of the secondary electron emission properties of the electrode materials than exists in the literature. The authors describe an experimental method and present results of secondary emission yield measurements on molybdenum surfaces, both clean and gas-exposed. The surface cleanliness was monitored by Auger electron spectroscopy (AES), and all measurements were made under ultrahigh-vacuum conditions (better than 1×10-10 torr). The results differ from the existing data for which the surface cleanliness was not determined. The secondary electron emission yields were measured as a function of the primary electron energy and also of the angle of incidence. The results were fitted with the analytical expressions of J.R.M. Vaughan (1989), with good overall agreement if Vaughan's formulas are slightly modified 相似文献
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扫描电子显微学中二次电子发射过程的蒙特卡洛模拟 总被引:8,自引:7,他引:1
利用蒙特卡洛模拟固体中电子散射轨迹的计算方法,系统地研究了扫描电镜中二次电子信号的发射过程。该模拟电子与固体相互作用的蒙特卡洛模型包含了级联二次电子产生的过程,并且采用光学介电函数方法描述电子的能量损失和相伴的二次电子激发。由于模拟计算可以给出背散射电子和二次电子的绝对产额,以及它们随加速电压和样品的原子序数的变化关系,因此可以用于模拟元素衬度和形貌衬度像。还计算得到了关于二次电子产生和发射的其它分布,并与实验结果作了比较。 相似文献
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《Electron Devices, IEEE Transactions on》1959,6(4):397-404
This paper treats a secondary emitter as a fixed-temperature thermionic emitter with an equivalent work function which depends for its value upon the current density of the incident primary electrons. This permits Langmuir's treatment of the parallel-plane thermionic diode to be applied to secondary emission. The resulting equations account quantitatively for observed secondary-emission effects caused by space charge and initial electron velocities. The paper concludes with a discussion of three specific electron devices in which secondary-emission effects due to space-charge and initial electron velocity are important. 相似文献
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