质量流量控制器的原理和应用

质量流量控制器的原理和应用北京建中机器厂流量技术室质量流量控对器用于对各种气体的质量流量进行精密测量和控制．它大量用于电子工艺设备中，如扩散、氧化、外延．ＣＶＤ等离子刻蚀，溅射等，以及镀膜设备，光导纤维制造设备中，并广泛用于石油化工，冶金、制药等行业...     

质量流量控制器的原理和应用

质量流量控制器的原理和应用北京建中机器厂流量技术室质量流量控制器用于对各种气体的质量流量进行精密测量和控制。它大量用于电子工艺设备中，如扩散、氧化、外延、ＣＶＤ、等离子刻蚀、溅射等，以及镀膜设备、光导纤维制造设备中，并广泛用于石油化工、冶金、制药等行...     

Ti-Al-Zr靶材的多弧离子镀沉积过程的模拟研究

本文模拟了Ti-Al-Zr靶材的多弧离子镀的镀膜过程.通过对圆柱形镀膜室-偏压电场的模拟,讨论了在不同的偏压电场下粒子的运动特性、成分离析效应的影响因素、涂层成分均匀性的影响因素,模拟结果与实际的镀膜实验相符.     

多弧离子镀膜卡具的设计

本文介绍了多孤离子镀膜技术中卡具的设计原则，装卡方式及装卡量对膜层质量的影响。     

Cr12MoV钢表面氮化钛涂层的磨损机理研究

运用离子镀的方法，在Cr12MoV模具钢表面制备了氮化钛涂层，用磨损试验机进行了涂层的磨损试验和磨损寿命试验，测量了涂层硬度，分析了镀膜工艺参数对涂层耐磨性的影响，发现基体温度和氮气分压是主要影响因素。     

Cr20Ni80高电阻电热合金靶的切削加工

1．前言 Cr20Ni80高电阻电热合金靶是真空磁控溅射镀膜生产线中使用的一种镀膜靶材。Cr20Ni80高电阻电热合金属难切削材料，机械加工难度很大，各生产线为了确保镀膜玻璃的质量均一直从国外进口。为了降低镀膜成本，缩短加工周期，国内各靶材使用企业提出了国产化的要求，其重点是解决Cr20Ni80高电阻电热合金的切削加工难题。     

影响衍射光栅集光效率的几个因素

本文介绍影响衍射光栅集光效率的几个因素。我们做了关于钻石刀安装角、刀尖角的选取和刻划的调整等方面的工作,并相应地注意了钻石刀、镀膜和刻槽的质量,刻制出了集光效率较好的衍射光栅。     

高纯度氟化镁光学镀膜材料研制成功

一种可以替代进口、适用于纸币防伪功能的特种光学镀膜材料——高纯度氟化镁光学镀膜材料 ,不久前在长春正式通过了鉴定。有关专家认为 ,由长春奥普光电技术股份有限公司研制成功的这项最新研究成果 ,填补了国内空白 ,达到了国际先进水平。高纯度氟化镁镀膜材料是光学透镜、激光元件、集成光学和光纤通讯等领域的重要光学镀膜材料 ,特别是近年来 ,随着光学镀膜材料开发和利用的进一步深入 ,氟化镁镀膜材料作为重要原料已被应用于纸币的防伪技术 ,因而越来越受到人们的普遍重视。为了攻克氟化镁纯度这一影响光学镀膜质量的技术难题 ,中科院长…     

离子束金属表面改性的新进展

本文反映了国际上应用离子束对金属材料表面改性研究的新进展,阐述了离子轰击引起盒属材料组分变化的机理,总结了离子轰击对材料的机械性能、抗氧化性能、耐水溶液腐蚀性能等方面的影响,介绍了离子束混合与离子束轰击扩散镀膜等方面的工作。     

基于受抑全反射的碱金属气室镀膜厚度测量

针对原子自旋器件的碱金属气室镀膜层厚度的精确测量,提出了一种基于受抑全反射的膜层厚度测量方法。根据该方法搭建了膜厚测量系统,并进行了实验测试。分析了受抑全反射的基本理论和基于受抑全反射的膜厚测量原理,介绍了基于该方法的膜厚测量系统的构成及工作原理并分析了影响系统测量精度的主要因素和解决方案。通过分析和仿真激光器波长的波动、入射角变化以及折射率参数的不准确等对膜厚测量结果的影响评价了系统的性能。最后,利用该系统对镀膜样品进行了测量实验,并利用薄膜分析仪做了对比试验。实验结果表明:该方法的测量结果存在一个2.6nm左右的常值偏差,对其补偿后能够较为准确地对镀膜层厚度进行测量,测量精度接近1nm,基本满足碱金属气室镀膜质量检测的需求,且具有较高的稳定性和可靠性。