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随着全球半导体重心的转移,本土半导体产业链取得了长足的进步,国产半导体设备也在近年获得快速发展,沈阳芯源微电子设备有限公司(SolidTool)就是其中一家。“国产设备供应商要公平勇敢地参与国际竞争”,日前沈阳芯源总裁宗润福在采访中提到。 相似文献
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代月波 《卫星电视与宽带多媒体》2013,(9):32-35
芯联芯新加坡芯联芯微电子有限公司"中国科技城光电产业园"项目签约仪式2012年11月8日在四川省绵阳市举行,标志着投资30亿元的芯联芯"中国科技城光电产业园"项目正式落户绵阳。新加坡芯联芯微电子有限公司是一家集光通信器件研究、开发、生产、销售和服务为一体的高科技企业,是专业的光通信无源芯片、有源芯片,光电模块的核心产品的设计制造商。2010年在新加坡成立以来,该公司取得了多项芯片研发专利,其 相似文献
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沈阳芯源微电子设备有限公司 《中国集成电路》2008,17(4):22-23
沈阳芯源微电子设备有限公司研制的8~12英寸先进封装技术专用匀胶设备获得“2007年中国半导体创新产品和技术”奖,其中12英寸(×300mm)晶圆先进封装设备,于2007年7月在我国五大先进封装测试厂之一的江阴长电先进封装有限公司通过严格的工艺检测验收,成功投入生产使用:实现了国产首台IC装备在晶圆尺寸和新工艺应用上的重大突破。 相似文献
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本文介绍一种提高纤芯利用率的无源设备——无源单双纤转换器(PSDU),并对其应用场景及产品性能进行了分析。 相似文献
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《电子工业专用设备》2006,35(3):25-25
中国的半导体代工企业——中芯国际集成电路制造(SMIC:Semiconductor Manufacturing International)将于2006年3月进入90nm工艺量产体制,预计90nm工艺产品的销售额将出现在2006年第二季度(2006年4月-6月)的业绩中。中芯国际社长兼CEO张汝京表示,除了已经公开的德国英飞凌以外,还有数家公司计划委托中芯国际使用90nm工艺进行代工。英飞凌委托中芯国际使用90nm工艺制造的是DRAM产品,预定于2006年第三季度进入量产阶段;而对于在第二季度就能带来销售额的90nm产品,张汝京并没有公开委托公司的具体名称,只是表示是从两家公司接到了逻辑LSI产品的委托制造订单。 相似文献
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IC 3D集成需要穿透硅互连技术,也就是需要实现晶圆一侧到另一侧的电互连。很多穿透硅互连技术的应用需要在表面起伏很大的晶圆表面光刻图形,这就要先在晶圆表面均匀涂布光刻胶层。文章研究了光刻胶AZ4620的雾化喷涂性能,在沈阳芯源微电子设备有限公司KS-M200-1SP喷雾式涂胶机上进行了雾化喷涂试验,对光刻胶流量、扫描速... 相似文献
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1937年4月19日,两个美国人珀金·理查德和埃尔默·查理斯创立了PerkinElmer公司. 1944年,PerkinElmer公司成功推出世界上第一台商用红外分光光度计-12型开始,这奠定了PerkinElmker公司在分析仪器市场70年的繁荣基础.如今,PerkinElmer公司已经是分析仪器界新技术和完善产品的代名词,位列全球三大品牌之一. 相似文献
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中兴通讯公司近日发布了其首款NB-IoT芯片:RoseFinch7100,多家本土公司参与了合作,例如制造采用了中芯国际的55nm极低功耗工艺55IILL RVt,成都锐成芯微公司提供了低功耗模拟技术,杭州中天微系统公司提供了CK802高安全、低功耗的CPU内核,各家代表介绍了打造这款超低功耗、高安全芯片的合作过程及产品特点. 相似文献
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今年,ACCUPHASE迎来了它的创建40周年纪念日.
为这具有纪念意义的一年做最后妆点的就是这款A-200.随着这台A-200的登场,ACCUPHASE公司顶级产品系列终于形成.可以算得上是新一代音频播放的象征的本机获得"音响铭机大奖"金奖,是再自然不过的了.
必定会为今后的音响发烧友们所垂涎
ACCUPHASE今年迎来了创建40周年.实际上,该公司的纪念产品早就已经在先行发售了.前级C-3800(2010年)、组合式CD/SACD播放机DP-900+DC-901(2011年),都曾获得过音元出版社主办的"AEx(Audio Excellence Award)——音响铭机大奖"金奖.而本机A-200是这些产品中真正的创立40周年纪念机,紧接在前面提到的两款产品之后获得金奖.至此,一个了不起的产品系列完成了,为该公司创立40周年添上了华丽的一笔. 相似文献
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无源波分复用设备应用能够减少4G/5G基站接人光缆纤芯的使用量,达到增加光缆纤芯目的.本文系统分析了衰耗和色散对传输最大距离的影响,同时结合5G无线站点接入纤芯需求以及无线站点规划和站型配置,统筹考虑无源波分复用设备和彩光模块的选型,最后提出了无源波分复用设备的规划设计. 相似文献
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对于一些MEMS应用,需要在形貌起伏很大的晶圆表面均匀地涂布光刻胶。喷雾式涂胶工艺满足了这些要求。研究了几种稀释的AZ4620光刻胶溶液的雾化喷涂性能,在沈阳芯源微电子设备有限公司KS-M200-1SP喷雾式涂胶机上进行了雾化喷涂试验,分别对裸片及深孔不同尺寸的晶圆进行喷雾式涂胶实验;特别研究了决定喷涂薄膜膜厚和均匀性... 相似文献