超声喷雾热分解制备ZnO薄膜及其光学性能的研究

以醋酸锌水溶液为前驱体,采用超声喷雾热分解方法在普通玻璃衬底上沉积了ZnO薄膜,以X射线衍射（XRD）、场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）和紫外-可见光分光光度计（UV—Vis）等手段对所得ZnO薄膜的晶体结构、微观形貌和光学性能进行了分析,着重考察了衬底温度、衬底与喷嘴之间的距离、生长时间对ZnO薄膜晶体结构和光学性能的影响。结果表明,衬底温度大于450℃,载气流量为4L／min,衬底与喷嘴之间的距离为6cm,生长时间为30min下所得的ZnO薄膜较好,衍射峰较强,表面均匀致密,在可见光区域透过率为80％以上。     

超声注射喷雾热分解法制备CdSe薄膜及其性能的研究

以CdCl2.2.5H2O为镉源,Na2SeSO3为硒源,柠檬酸钠为络合剂,采用超声注射喷雾热分解法制备了CdSe薄膜。并用XRD、UV-Vis、AFM等方法对其进行了表征。结果表明,所制备的薄膜为n型半导体,在可见光区有较高的吸收,可以获得较好的光电流。应用超声注射喷雾热分解法制备CdSe薄膜的优化条件为:基板温度为300℃,络合剂比例为1∶2,酸度为9,喷雾速度为0.3mL/min,退火温度为350℃。新的制备薄膜装置采用注射超声雾化手段,克服其雾化不均问题。     

压缩喷雾热分解方法制备MgO薄膜的研究

以醋酸镁为原料,用自制的压缩喷雾热分解装置对氧化镁薄膜的制备工艺进行了详细的研究,利用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)对薄膜的微观结构进行了分析,以期寻求到较佳的制备薄膜的条件.结果表明,为获得性能较好的Mg0薄膜,衬底温度和喷雾速率是关键因素.控制实验条件,可在600℃得到了较好的MgO薄膜,结果显示所得样品为立方MgO多晶薄膜.     

压缩喷雾热分解法制备SnO2薄膜研究

以SnCl2·2H2O为原料,采用压缩喷雾热分解的方法在玻璃衬底和石英片衬底上制得氧化锡薄膜。采用X射线衍射仪（XRD）和扫描电镜（SEM）分别对薄膜的内部结构和表面形貌进行了表征。研究表明,500℃下制备的薄膜比较致密平整;320℃下,喷雾50min制得的薄膜的X射线衍射峰强度较强;相同喷雾时间下,当温度达到380℃时,X射线衍射峰的强度大幅度提高。     

钛酸钡薄膜的喷雾热分解方法制备及PTC效应研究

介绍了在Pt／Ti/Si(100)衬底上用溶胶溶液和喷雾热分解方法制备BaTiO3薄膜，并研究其PTC效应。富钛3％的钛酸钡溶胶溶液在衬底温度650℃环境下成膜，氧气作为载气其流量为1．5L／min，800℃环境下退火2h。在大于居里点温度Tc(138℃)时表现出良好的PTC效应。钛酸钡薄膜厚度1500nm时，室温下极间电阻为70Ω。在大于居里点温度Tc(138℃)时，极间电阻可达10^6Ω。     

一种简单的喷雾热分解制膜方法

喷雾热分解制膜是以液体物质为制膜基料,雾化后喷射到高温衬底上晶化成膜。对液体要求较低,掺杂准确容易,对成膜环境要求不高,装置和成膜工艺简单,成膜结晶温度低,面积大,均匀。还可以制备超微颗粒粉体。同时分析了成膜机理。利用本方法已成功的制备出ＰＺＴ铁电薄膜、ＭｇＯ薄膜、ＺｎＯ系压薄膜、ＳｎＯ多晶膜等,并给出制膜条件和ＸＲＤ图。     

沉积温度对ZnO薄膜结构形貌及光学性能的影响

以Zn(NO3)2·6H2O为前驱体,采用超声喷雾热解法在玻璃衬底上沉积了ZnO薄膜,采用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外光谱仪(UVS)等对所得ZnO薄膜进行表征,研究了沉积温度对ZnO薄膜的结构、微观形貌及光学性能的影响。结果表明,沉积温度为500℃时所制备的薄膜质量最佳,形成的是六角纤锌矿ZnO结构,且薄膜沿(002)晶面择优取向生长显著,薄膜表面光滑致密,晶粒细小均匀,尺寸在50~60nm。薄膜表现出良好的光学性能,可见光透过率可达87%。     

草酸盐热分解法制备ZnO超细粉体的工艺研究

论述了草酸盐热分解法制备超细ＺｎＯ粉体的工艺,讨论了粉体制备过程中沉淀条件、不同热分解温度以及热分解时间对超细ＺｎＯ特性的影响,并在９００℃２ｈ制得了原生粒子为４０～６０ｎｍ、聚集状态为极为少见的“短穗状”“镂空”集合体的ＺｎＯ超细粉体。     

TiO2薄膜的火焰喷雾热分解法制备与自清洁研究

以钛酸丁脂(Ti(C4H9O)4)为前驱体,采用自制的火焰喷雾热分解装置在玻璃衬底上制备了TiO2自清洁薄膜.应用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、紫外-可见透射光谱(UV-Vis)分析了薄膜的形貌、结构和透光性,并对薄膜的光催化性能和亲水性能进行了测试.结果表明,火焰喷雾热分解法制备薄膜要求雾滴先成液膜,再热分解为固体薄膜;采用火焰喷雾热分解法在玻璃衬底上成功制备的TiO2薄膜为锐钛矿晶型;探讨了沉积时间和退火温度对薄膜的结晶和自清洁性及光催化性能的影响,沉积时间长,退火温度高的薄膜的结晶度越高,光催化性能和亲水性越好;用该方法制备的温度约为400℃,退火温度为600℃薄膜,光透过率可超过70%.     

ZnO薄膜的制备及发光研究进展

ZnO作为一种新型的宽禁带半导体材料,具有优良的光电性能,在光电器件、压电器件、表面声波器件等领域具有广泛的应用前景。介绍了ZnO薄膜的制备方法及影响薄膜光致发光效果的不同因素。     

等离子束辅助沉积制备ZnO薄膜的特性研究

采用等离子束辅助沉积的方法在n-Si(001)衬底上制备出ZnO薄膜。X射线衍射谱显示，所制备的ZnO薄膜有较强的(002)晶面衍射峰，表明ZnO薄膜为c轴择优取向生长的，并且随着退火温度升高，晶粒逐渐增大，衍射峰逐渐增强。光致发光谱测量发现，样品分别在3．28eV和2．48eV存在紫外发射和深能级发射两个较强的发射峰，并且随着退火温度升高，深能级发射逐渐减弱，紫外发射峰得到进一步改善。四探针测试电阻率结果表明，随着退火温度的升高，ZnO薄膜的电阻率呈线性增加。     

Biodegradable Polylactide-co-glycolide (PLGA) Thin Films Prepared by Electrospray and Pressurized Spray Deposition

1Introduction Polymericmaterialshavebeendevelopedprimarily onthebasisoftheirperformanceandcost.Itwassuggest edthataliphaticpolyesterssuchaspolylactide(PLA),polyglycolide(PGA)andpoly(lactide co glycolide)(PLGA)haveenjoyedwidespreadbiomedicalapplications be…     

大尺度NiS2纳米线的超声喷雾热解制备

以NiCl2·6H2O和硫脲为前驱液,在350℃的玻璃衬底上,通过超声喷雾热解技术与软模板相结合,成功地制备了产率较高的二硫化镍大尺度纳米线．利用X射线衍射仪（XRD）、透射电子显微镜（TEM）、偏光显微镜分别对产物的物相和形貌进行了表征．结果表明：所制备的NiS2纳米线沿（200）晶面具有明显的取向生长,长径比约为25：1,并对其生长机理做了初步的探讨．     

超声喷雾热解法制备Co9S8纳米球壳

以CoCl2·6H2O和硫脲CS（NH2）2为前驱物,利用超声喷雾热解法在300℃玻璃衬底上制备了Co9S8的纳米球壳．运用X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）对产物进行了物相和形貌分析,结果表明：产物为直径约500nm,形状相似但不规则的Co9S8球壳．同时,对其生长机理进行了初步研究．     

溶胶-凝胶法制备氧化锌薄膜

采用了溶胶-凝胶工艺在普通的玻璃载玻片上成功地制备出具有c轴择优取向性、高的可见光透光率、平整均匀的氧化锌薄膜。通过XRD、AFM以及UV光谱仪等分析,其结果表明:所制备的氧化锌薄膜具有纤锌矿型结构,表面均匀致密,薄膜晶粒尺寸大约在40~90 nm,溶胶浓度增大时,其晶粒大小呈增大的趋势。随着涂膜层数的增加,薄膜的(002)方向的取向度增加。薄膜在可见光区的光透过率>85%,在近紫外光波段透射率急剧减小,对应的禁带宽度为3.34 eV。