微透镜列阵成像光刻调焦方法

本文分析了离焦量对微透镜列阵成像光刻图形质量的影响,给出了系统离焦量的容差.同时提出了一种结构简单、可应用于微透镜列阵成像光刻系统调焦的新方法.并将基于该调焦方法的实验装置应用于微透镜列阵成像光刻系统,进行了光刻实验.实验表明,利用该方法时微透镜列阵成像光刻系统调焦,可得到接近微透镜列阵极限像质的光刻图形.     

基于图像处理方法的自动调焦系统的研制

介绍了基于图像处理方法的自动调焦系统的组成、工作原理、硬件电路设计和软件设计.该系统的核心是图像处理部分和控制部分.导出了计算聚焦量的三个快速算法公式,优化了系统的实时性能.详细分析了自动调焦的控制过程,并提出了渐变步长的思想,提高了系统的控制精度.实验结果表明,在较宽范围的光照度条件下,应用该系统均能获得良好的调焦效果.     

GFP自动调焦光栅动态光刻头系统

本文论述首次在光栅刻划机中,应用自动调焦传感技术的光栅动态光刻头系统(获得国家发明专利)。它具有调焦精度高,范围大,适用于研制生产高精度的光栅母尺以及高精度大尺寸的光栅尺。从而为刻划高分辨率、大量程的优质光栅尺找出了新途径。文章对动态光刻头系统设计参数的选择,主要技术途径及研制结果作了介绍。     

掩模投影成像干涉光刻研究

掩模投影成像干涉光刻技术以在很小或几乎不增加光刻系统成本的基础上来提高光刻分辨率为目的,充分利用系统的有限孔径,将掩模图形不同的空间频率分别进行传递,最终以高分辨率对掩模成像。本文阐述了IIL的基本原理,介绍了一种实验系统,并给出了部分模拟和实验结果。研究结果表明,掩模投影成像干涉光刻技术比传统投影光刻能够得到更高的光刻分辨率。     

亚微米i线投影光刻物镜的光学设计与研制

叙述亚微米投影光刻物镜光学设计要点：光刻分辨力Ｒ与波长λ、数值孔径ＮＡ的关系；光学系统双远心的构成方法；光刻物镜的象差校正优化设计中的需控目标值等问题。介绍一个亚微米ｉ线投影光刻物镜的设计结果、光学制造公差和质量控制方法，以及其主要性能测试结果。     

基于灰度差分法的自动调焦技术

如何快速有效地实现调焦一直是图像测量中的焦点;基于光学镜头和CCD图像采集技术提出了一种图像式自动调焦系统,并给出了以图像的灰度差分绝对值之和作为图像是否聚焦的判据函数,以及给出了逐步逼近的登山式自动调焦的原理,对该系统进行了实验研究,系统重复精度为8000nm。     

亚微米(i线和g线)投影光刻物镜

亚微米（ｉ线和ｇ线）投影光刻物镜中国科学院光电技术研究所根据所承担的中国科学院“八·五”重大科研项目“微电子专用装备技术研究”和国家“八·五”科技攻关项目“０．８～１微米分步重复投影光刻机研制”专题，研究成ｉ线和ｇ线两种投影光刻物镜。作为单元成果已应...     

倾斜镜面成像的自动调焦方法

倾斜镜面成像系统的像面与光轴倾斜,仅利用轴向自动调焦无法实现像面整体清晰。为此提出一种基于图像清晰度判断的自动调焦方法。该方法将轴向调焦与角度调焦相结合,通过步进方式平移和旋转像接收面,利用离焦函数判断聚焦情况,采用数据拟合回归的方法实现了像面整体清晰。该方法在椭偏成像系统的应用结果验证了其有效性,调焦精度达到微米量级。     

软X射线光刻研究现状和发展

新的一代光刻设备朝着两个方向发展 ,一是趋向于大数值孔径、短波长 ;另一方面国际上正在寻求适应二十一世纪、小于 0 .1 5微米线宽的软 X射线投影光刻技术 ,预计成为下世纪制造千兆位以上超大规模集成电路的主要设备。软 X射线光刻及其应用研究是目前国际上非常活跃的高技术领域。把软 X射线光刻列为重要发展项目。本文摘要综述德国、美国、日本、俄罗斯等国近年来在软 X射线光刻关键单元技术及整机研究和发展方面的概况、预计下世纪初美国和日本将有软 X射线投影光刻机投入工艺生产线     

空气弹簧隔振平台自动调平控制的研究

总结了常见的平台调平方法,对基于空气弹簧支撑的平台系统自动调平及提高调平精度的方法进行了研究.空气弹簧平台系统固有频率低、阻尼小的特点,采用简单的高度控制阀控制的三点支撑机械调平机构即可实现平台的自动凋平,其调平度在几百角秒.采用动态跟踪调平法,对平台俯仰和偏摆两个方向的水平度进行控制,可以提高平台系统的调平精度.实验结果表明,平台两个方向水平度保持在±15"内.     

测量不确定度在焦度计计量检定中的应用

本文重点介绍眼科光学计量中对焦度计测量不确定度的评定，分别给出了使用顶焦度标准镜片对两种不同测量原理的焦度计进行强制检定时，检定证书中列出的被检焦度计的顶焦度修正值的不确定度。一、焦度计的分类焦度计从工作原理上被划分为基于自动对焦原理的焦度计和基于调焦原理的焦度计。基于自动对焦原理的焦度计，原理先进，操作简单，可自动读数，数字显示的分辨力为0.01m－１。基于调焦原理的焦度计主要有目视式和投影式两种。由于受人眼分辨力及光学系统成像等主、客观因素的影响，其刻度间隔一般为0.12m－１和0.25m－１。个别仪器经…     

自动调焦数显式焦度计的使用规范

焦度计按测量原理可分为手动调焦式焦度计和自动调焦式焦度计（自动调焦式焦度计一般采用数显式）。目前,自动调焦数显式焦度计（以下简称“自动焦度计”）已广泛应用于眼镜质检机构、眼科医疗机构、眼镜验配企业和眼镜生产企业。自动焦度计相对于手动调焦式焦度计来说,在重复性、易用性等方面有更大的优势。各种自动焦度计的测量原理基本相同．但在设计上又有所不同．例如使用不同的光学原理FOA（focal point on axis）和IOA（infinite on axis）,使用不同的光电探测器CCD或光栅等。     

三维形貌测量中自动调焦系统的设计

在相移干涉显微镜中增加了自动调焦系统,使其快速获取高清晰干涉图像,提高了三维形貌的测量速度和测量精度。调焦系统采用图像自动调焦方法,分别以图像标准差函数和图像最大熵函数作为粗调函数和精调函数。实验表明本系统自动调焦范围扩大到150m,自动调焦精度为0.3m,调焦时间为4-8s。     

摊铺机自动找平系统

通过对自动找平系统控制原理的介绍,对摊铺机的自动找平系统分析了自动找平的实现装置、液压系统原理、电液调平控制原理的组成,为路面机械作业人员的技能培训及实际操作故障排除提供了资料。     

极紫外投影光刻两镜微缩投影系统的光学设计

极紫外投影光刻（EUVL）两镜微缩投影物镜通常采用Schwarzschild结构和平场结构。本文分析了这两种结构在EUVL不同发展阶段的设计特点，并依据有限距反射系统像差理论，从解析解出发，设计了两套平场两镜系统，分别用于对分辨力为70nm、无遮拦、环形视场扫描曝光系统及目前研制的EUVL 32nm技术节点小视场曝光系统的研究。系统设计指标满足极紫外投影光刻要求。     

光学仪器的新技术——光电化图像测量系统

文章阐述了光电化图像测量系统是光学计量仪器的高新技术。重点介绍图像式瞄准系统、自动调焦系统的构成及工作原理。     

光学仪器的新技术--光电化图像测量系统

文章阐述了光电化图像测量系统是光学计量仪器的高新技术。重点介绍图像式瞄准系统、自动调焦系统的构成及工作原理。     

基于LABVIEW的调焦控制系统研究

开发了数字控制系统以实现对调焦系统的闭环控制,并对调焦精度做出分析,得出了实验考察环境因素对调焦精度的影响;搭建了一套调焦系统,分析调焦原理得出系统控制模型.利用LABVIEW开发了数字PID控制系统,结合统计学原理对实验数据做出分析评价;该数字控制系统实现了对调焦系统的闭环控制,达到了较高的调焦精度.同时发现,振动等环境因素对调焦精度有严重的影响,为了得到更高的精度,需要隔振系统等环境控制设备的支持.     

用于KrF准分子激光光刻的衰减相移掩模

讨论了相移掩模提高光刻分辨力的基本原理,提出了一种抗蚀剂相移器制作衰减相移掩模的新方法,利用自行设计、建立的KrF准分子激光投影光刻实验曝光系统进行了实验研究,给出了实验结果,并与传统光刻方法作了比较.     

用于KrF准分子激光光刻的三相移掩模

讨论了相移掩模提高光刻分辨力的基本原理,提出了一种抗蚀剂相移器制作衰减相移掩模的新方法,利用自行设计、建立的ＫｒＦ准分子激光投影光刻实验曝光系统进行了实验研究,给出了实验结果,并与传统光刻方法作了比较。