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FFU应用方式及相关的问题 总被引:3,自引:0,他引:3
风机过滤器单元(FFU)系统有着诸多的优点,在国外的净化工程中得到了极为广泛的应用。但在国内由于造价偏高等原因,一直未能推广。本文着重讨论了如何简化FFU系统,降低造价,以应用于乱流洁净室的问题。 相似文献
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根据近几年面板及半导体洁净室的施工实践,研究了FFU盲板安装及FFU盲板的固定方式,对于目前项目上常用的盲板夹固定方式进行描述,并进行改进,同行可在以后的项目实践中,对此类做法进行借鉴、参考或者直接引用. 相似文献
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在电子工业洁净室中MAU+DCC+FFU的系统是一个比较常见的空调系统。MAU系统作为补充排风,区域压差控制的一个重要部分,一直是洁净室设计的一个重要控制点。将利用数值仿真CFD技术对新风管路设计的合理性及流量调节的有效性进行研究,以验证暖通设计方案的合理性。 相似文献
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文章介绍了TFT-LCD的生产工艺环境,主要阐述了洁净室的管理和在洁净室的一些操作流程。洁净室的洁净等级非常重要,它将直接影响到TFT-LCD生产的合格性,如果没有良好的洁净度等级,那产品的成品率会大大地降低。对于洁净室的管理,必须要做到不带入、不产生和不积累任何的灰尘,这样才可以保证产品生产的正常运行。 相似文献
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半导体洁净室内分子级污染物的控制方法 总被引:1,自引:1,他引:0
对洁净室内分子级污染物(AMC)的分类、取样监测方法以及针对不同制程所采用通用的污染控制方法进行了较为全面的归纳和总结.对不同类型的污染源头进行分类识别,并举出实例.给出了几种控制污染的方法.分析了具体问题的实际情况,讨论了主要的污染源及具体产品的环境控制要求,以找到最合理、有效的处理方法. 相似文献
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乱流洁净室换气次数的讨论 总被引:5,自引:1,他引:4
分析了乱流洁净室净化空调设计中室内发尘量和新风比对换气次数的影响。讨论了换气次数的正确选取方法。引入当量人员密度,提出了规范中换气次数上限适用的当量人员密度限值。 相似文献
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结合某硅晶片厂房洁净室净化空调系统的实例,介绍了洁净室的净化空调设计原则、气流组织形式、空气处理过程。并对空调系统的自控问题进行了阐述和讨论。 相似文献
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生物洁净室的污染控制 总被引:1,自引:0,他引:1
生物洁净室的目的是控制细菌污染。通过对细菌特性、来源及污染途径的分析,确定了全方位、全过程控制的基本思想,即污染源控制,污染传播过程控制和交叉污染控制,通过分析微粒的运动特性,提出了空气途径污染的主要手段是气流流动控制和表面污染控制,最后分析了交叉污染的形成原因及其防治措施。 相似文献
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医院洁净手术室的室内空调参数分析 总被引:3,自引:0,他引:3
对《医院洁净手术部建设标准》中Ⅰ级洁净手术室的流场和温度场进行了数值模拟,证实了标准中的部分技术参数范围(主要针对静态手术室)在动态时是合适的,并具有可操作性。标准中规定Ⅰ级洁净手术室用局部送风代替全室单向流气流组织形式,既保证了关键区域的净化要求,又大大降低了洁净手术室的造价和运行费用,符合我国的国情。 相似文献
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半导体硅片清洗工艺发展方向 总被引:6,自引:0,他引:6
闫志瑞 《电子工业专用设备》2004,33(9):23-26
对半导体硅片传统的RCA清洗办法中各种清洗液的清洗原理、清洗特点、清洗局限以及清洗对硅片表面微观状态的影响进行了详细的论述,同时在此基础上,对新的清洗办法(改进的RCA清洗办法)进行了一定的说明,指出了硅片清洗工艺的发展方向。 相似文献