图文解说银盐片成像原理

本文试图以图文相结合的方式，尽可能将艰深的银盐片成像原理以通俗易懂的方式讲述清楚，以期读者能对银盐片成像原理有一个清晰的认识。     

银盐明胶计算全息图的软模复制方法研究

提出一种复制银盐计算全息图（SHCGH）的新方法，在SHCGH母板上浇注一张橡胶软模板，软模再经第二次浇注，将CGH浮雕结构转移到各种物件表面。对复制品与母板的浮雕深度转移进行了测量，并通过选择第二次浇注材料，改善了复制品的光学再现效果。     

高层数印制板对位精度控制

文章讨论了温度、湿度对底片胀缩的影响，并结合底片胀缩、单片胀缩的情况探讨了高层数印制板生产对位精度的控制方法。     

任意层HDI对位系统研究

随着电子产业的发展,任意层互联HDI板在高端消费品领域得到了越来越多的应用,其盲孔阶数已经从最初的3阶发展到现在的5阶以上,最高甚至出现了7阶的HDI板。文章通过对不同的对位系统进行研究,分析不同对位系统的关键点及差异,为业界加工同类型产品提供必要的参考。     

重氮片制作曝光检测方法

重氮片是线路板制造业中重要的一种生产材料，重氮片制作的好坏直接影响线路板的成品质量。一般是以银盐片为母片进行拷贝制作重氮片。     

全自动对位贴合机自动控制系统

介绍了玻璃自动对位贴合的工艺流程和技术特点,介绍了全自动对位贴合机的主要技术优点、工作原理、硬件设计、视觉系统、软件编程和机械手的运动控制.本设备的关键技术是用先进的光学系统自动采集上、下玻璃的MARK点位置,使用IPD模块对数据进行分析、运算,通过PLC程序控制完成自动对位功能.     

基于Math CAD的UVW平台对位系统运动分析与验证

根据UVW平台的结构,使用数学工具MathCAD对其运动进行了对位运动的代数分析,以A、B点在固定坐标系中位置推导出UVW平台3个轴运动值的方程,最后以代数和数值两种演算方式证明驱动关系的正确。     

任意层HDI对位精度研究

任意层技术可以让HDI板空间更缩减,较传统HDI尺寸减少约50%,可以达到轻薄的效果,任意层HDI将在越来越多的高端手机、平板电脑中得到应用。本文通过分析不同定位方式的理论对位偏差,确定最佳的定位方式并通过测试进行了验证。     

一种方片校正装置

介绍1种方片校正装置，用来解决方片在圆片处理系统上运行时所遇到的传输和收片困难。     

液晶分子取向技术研究

综述目前液晶显示器(LCD)工业生产中广泛使用的液晶分子取向技术。主要讨论摩擦技术、非摩擦技术和PI取向膜的性能。对这些技术的发展状况、特点与局限性以及今后的发展趋势进行了较为详尽的论述。     

高PPI产品下的取向膜画面品质改善研究

为了实现TFT LCD高PPI产品的高分辨率,高开口率,低功耗全面提升,分析了不同因素的影响程度,加强了对取向膜印刷品质的管控。同时对涉及该过程相关因素进行研究分析。对取向膜画面品质相关的产线印刷和干燥条件、APR版制作工艺、取向膜膜厚变化、APR版线数开口率进行优化测试,找到了可以提高取向膜画面品质的方法。实验结果表明:通过对取向膜印刷和干燥条件优化,确定了TN产品画面品质提升的产线管控方案;在APR版制作过程中引用扩散保护膜,ADS产品Particle类不良降低2%,Scratch类不良降低1%;对取向膜膜厚提升,ADS产品的段差和残像得到改善,对比度提升30~120,Zara Particle不良降低30%;通过对APR版的网点,开口率优化:400L,30%,普通曝光的APR版更新为600L,20%,高PPI有机膜类产品的Sand Mura发生率降低为0%。可以满足高PPI产品对取向膜印刷稳定的管控要求,适应高分辨率、高开口率、低功耗等要求。     

基于最大化对齐度的多模态图像自动配准

该文讨论图像配准的广义定义并提出一种新的图像配准准则对齐度。对齐度能够正确地反映两幅不同灰度属性的图像是否配准,并且将图像配准归结为对齐度的最大化。新准则可以用来配准多模态图像包括灰度属性差异很大的图像。该文应用多分辨率方法和Powell方向族搜索法来最大化对齐度。因此,用该方法可以自动地处理图像配准问题,不需要定义地标点或特征点。多模态医学图像和遥感图像的自动配准的例子说明了该文方法的有效性。     

The dual-edge alignment technique with improved spur reduction effects in ring oscillators

In this paper, the technique of dual-edge phase-alignment and its effects on ring oscillators are presented. This technique provides resetting of the built-up jitter at both rising and falling edges of a clean aligning signal named as the reference. Using signals and systems theory, the effect of the technique on the spurs due to the aligning reference signal is completely analyzed. We show that adding properly the dual-edge aligning feature to phase-aligned ring oscillators cause the spurs in the neighborhood of the carrier to disappear. First, the validity of the results obtained from the derived analytical equations is verified through simulations using MATLAB. Then a complete circuit considering realistic models for its components is simulated in TSMC RF CMOS 0.18um process using ADS for further validation.     

BWDSP100数字信号处理器的指令缓存器设计

本文介绍了一种应用于高性能数字信号处理器BWDSP100的指令缓存器。该指令缓存器支持超长指令字,共有三级缓冲,每级缓冲包含16个指令槽。该指令缓存器可高效完成指令执行行的提取、拼接及废弃等操作,可有效提高DSP的指令执行效率。     

A novel overlay process for imprint lithography using load release and alignment error pre-compensation method

As a low-cost and high-efficiency alternative to conventional photolithography, imprint lithography has been paid serious attention for it can realize the pattern transfer easily and repeatedly. Even so, there is still a long way to go before this technique can be used to manufacture ICs since the layer-to-layer alignment is a main obstacle. In this paper, the pattern distortion and position shift induced by loading force and friction force are investigated and an optimized process is proposed to realize high precision overlay, in which an optimal loading force and a load release and an alignment error pre-compensation (LRAEPC) method are adopted. The optimal loading force is acquired by comparing the variety trends of the residual layer and position shift with the loading force. Using the optimal loading force, transferred patterns with proper resist thickness and the minimal distortion are achieved. In LRAEPC method, load release is used to correct the pattern distortion and to alleviate the position shift. To avoid subsequent position adjustment in the fluid after load release, the pre-compensation alignment is performed before the mold is in contact with the wafer. This process does not locate correct alignment position and there is an alignment compensation value determined by the statistical data of alignment position shift after load release. Using this pre-compensation alignment method, the correct alignment can be obtained after load release.     

彩色铁电液晶显示器

彩色滤波膜、透明导电膜，表面稳定的铁电液晶取向膜等构成了彩色铁电液晶显示器的主要材料。文章论述了彩色铁电液晶显示器的制造和性能，制出的铁电液晶显示器，其对比度达８４：１，上升时间为１１０μｓ，下降时间为７６μｓ。     

MIMO干扰信道下的协作干扰对齐优化算法

干扰对齐是将来自其他发射机的干扰信号对准到同一信号子空间,从而减少对期望信号的干扰的一种传输技术,近年来得到了广泛的关注.本文为K用户多输入多输出(MIMO)干扰信道系统提出了一种协作干扰对齐优化算法.通过对信道的奇异值分解,基于矩阵弦距离,不仅选出一组最好的特征子信道来传输信号,而且还选取一组有利于有用信号远离干扰信号的预编码矩阵,这样,可以最大化减少干扰对有用信号的影响.另外,本文还根据得出的预编码矩阵来计算和优化干扰抑制矩阵.本文算法在没有用迭代的基础上来计算预编码矩阵和干扰抑制矩阵,这样不仅使整个系统的复杂度大大降低,进一步,仿真结果显示容量和能量效率较其他算法有明显改进,这也正是最近受到广泛瞩目的绿色通信所要求的.     

SDH帧定位芯片研究与开发

提出了一种SDH帧定位芯片的设计方案,能够定位符合ITU-T G.707标准STM-1、STM-4、STM-16与STM-64帧、调节字节中的比特位、并行64位解扰码、数据转换、LOF告警检测和OOF告警检测功能。通过编写RTL代码与仿真,FPGA硬件平台验证、与相关SDH测试仪器对接验证,已广泛应用于SDH检测仪表和SDH设备等SDH相关产品研发。