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结合印刷电路板生产流程,介绍化学镀铜自动生产线的工艺特点,工艺流程和工艺技术管理方法;强调在生产过程中遵守工艺制作指示,定期对镀液进行分析。调整及维护,做好生产记录和化验记录的重要性。分析了在生产过程中出现故障的现象和原因。以及影响产品质量的因素。 相似文献
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化学镀在印制电路板生产中的应用和发展 总被引:1,自引:0,他引:1
前言化学镀在印制板生产中应用非常广泛。有化学镀铜、化学镀银、化学镀金、化学镀锡等,其中最重要的是化学镀铜。它是印制板孔金属工艺的关键,是目前制造双面孔化印制板、多层印制板中必不可少的。其它镀种由于种种原因,应用不是很多。现在主要谈谈化学镀铜在印制板生产中的应用和发展。目前国内厂家所使用的化学镀铜液,按照用途和性能分两大类。一是低温(20~30℃的常温)下使用的化学镀铜液,如以酒石酸钾钠为络合剂的 相似文献
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以EDTA为配体,CuSO4·5H2O为主盐,次磷酸钠为还原剂,对铸铁基体表面化学快速镀铜进行了研究,确定的镀液的组成为:7.5g/L CuSO4.5H2O,20 g/L EDTA,38 g/L次磷酸钠,37 g/L四硼酸钠,15g/L柠檬酸三钠,0.5g/L硫酸镍,0.2mg/L硫脲,0.05g/L脂肪醇聚氧乙烯醚(O-20)。最佳工艺条件θ为65℃,pH=8.3,t为40min。结果表明,在上述条件下铸铁基体表面形成的铜镀层光亮度良好,镀层均一,纯度高,显著提高了镀层质量。 相似文献
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化学镀铜在PCB生产中应用广泛,但常用的还原剂甲醛对人体和环境有害。本文综述了化学镀铜中替代甲醛的环保型还原剂的研究进展,介绍了以醛糖类、含硼化合物、低价金属盐、次磷酸盐作还原剂的化学镀铜研究现状及进展。 相似文献
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化学镀铜新工艺及在电子工业中应用 总被引:5,自引:0,他引:5
论述了化学镀铜新工艺及其镀流的成份,作用及对镀层的影响,并叙述其组成和镀层的表面形态。详述了此工艺在印刷线路板上孔壁的导电化,内层铜箔的处理和电磁波封闭等应用。 相似文献
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作者参考了大量文献,经过试验筛选,对用铜作化学镀铜催化剂作深入研究。对敏化活化的分步进行,敏化活化一步法的工艺流程和所用配方,以及提高铜催化活性和镀层结合强度的措施等提出了研究结果。并认为进一步研究改善用铜催化剂化学镀铜是可以逐步代替目前所用的贵金属催化剂,大大降低生产成本。 相似文献
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通过对溶液中离子磁化现象的研究,在电磁场作用下,化学镀沉积速率加快,所得镀层结构致密,镀层中磷含量比常规化学镀镍液的降低,镀层的物理性能也得到了较大的改善. 相似文献
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硝酸银在化学镀的过程中常作为催化剂,实验研究发现,硝酸银在聚酰亚胺薄膜表面化学镀铜时,不仅起到催化剂的作用,还有增加聚酰亚胺薄膜和化学镀铜层结合力的作用。实验采用Na OH溶液对聚酰亚胺表面进行改性,利用不同浓度的硝酸银溶液进行活化,将吸附在聚酰亚胺薄膜表面Ag+还原,进行化学镀铜。使用红外光谱仪对聚酰亚胺的表面结构进行表征和分析,利用3M胶带粘贴法测试镀铜层与聚酰亚胺薄膜的结合力,利用X-射线衍射、扫描电子显微镜表征铜镀层结构及表面微观形貌。结果表明,当硝酸银在一定浓度范围内变化时,硝酸银浓度对化学镀铜层质量和化学镀铜沉积速度无明显影响,但对镀铜层与聚酰亚胺薄膜的结合力影响很大。 相似文献
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实验研究了丝纤维化学镀镍的操作方法、实验控制条件,讨论了各种因素对化学镀层的影响,试验了化学镀层与丝纤维的结合力,确定了丝纤维化学镀镍的工艺流程和最佳实验条件,实验结果表明,丝纤维经过预处理及敏化、活化处理后,化学镀镍溶液的pH值控制在8.0,镀镍温度在75℃,反应时间30min,可以得到较好丝纤维化学镀镍镀层。 相似文献