光盘用塑料——非晶质聚烯烃基板

一、前言光盘具有高密度、非接触等特点,而人们期望它具有更大容量和更高的可靠性。光盘性能的好坏不仅取决于记录膜,还与光盘基板的性能情况有很大关系。现在大量生产使用的光盘基板主要还是树脂基板。对于光盘基板材料所需求的性能如下: (1)透明性要好; (2)记录和输出时易产生噪音的双折射要小; (3)影响记录膜寿命的吸湿性及透汽、透氧     

CoCr基磁性薄膜材料的研究现状和发展趋势

简要介绍了磁记录用介质膜的发展趋势及面临的问题,介绍了垂直记录方式的优点,综述了国内外对垂直磁记录用介质膜材料的分类及研究现状,回顾和评述了CoCr基磁性薄膜的研究现状和发展趋势.     

光盘存储材料

高密度大容量光存储器及其存储介质的出现将使信息存储与检索发生重要的变化。由于文字和图象信息能以数字形式存储和检索,大大提高了信息处理的能力。光盘存储系统的工作原理是,用激光束照射高速旋转的盘的表面,在盘表面的存储薄膜中记录信息。光盘的有效存储密度比通常磁记录介质要大几十到几百倍,而且可清晰、容易地进行信     

可擦重写光盘记录介质材料及其特性

可擦重写光盘因其能对已写入文件进行改写,因此比只读光盘、一次写入光盘具有更大的灵活性,从而具有很好的应用前景。论述了两种可擦重写光盘记录介质即磁光盘记录介质与相变光盘记录介质的记录机理,并详细阐述了两种记录介质的性能要求。     

光存储介质——光盘

光盘存储,采用激光束记录和读出的方式,具有高存储密度、长使用寿命等优点,适于存储声像、文娱节目、文件、书籍、照片、数字数据等几乎一切信息。光盘存储技术的关键部分之一,就是记录介质——光盘。光盘由在基体(通常是玻璃、塑料等)上镀具有光效应的薄膜制成。记录信息时,由输入信号调制的激光束,聚焦成直径亚微米大小的光斑,在旋转的光盘上扫描,把信息以一连串“点”的形式沿螺线轨迹存储在记录介质膜层内。在这些“点”处,也即激光已照射处,     

超高密度磁记录介质的研究进展

总结了近年来超高密度磁记录介质的研究概况,着重介绍了垂直磁记录介质中L10相FePt薄膜的研究方法,并认为L10相FePt薄膜将会成为高密度磁盘记录介质的主流.倾斜磁记录、热辅助磁记录、图案记录等存储技术,目前处于实验室研究阶段,但是有望突破垂直磁记录的超顺磁极限,实现超高密度磁记录.     

磁存储技术的研究

21世纪是信息的世界,人们掌握信息量的需求越来越高。在信息存储技术中,磁存储仍然是最重要的存储技术之一。为提高磁信息存储量,就必须不断减小用于记录信息的磁性颗粒的尺寸。但当尺寸减小到一定程度时,超顺磁效应就会影响到记录的磁信息的稳定性。所以研制新型高密度磁记录技术必须要注意介质的退磁场和稳定性的影响。目前商用硬盘的磁记录技术基本都采用垂直记录技术,一般可以获得超过200Gb／in^2记录密度。介绍新近发展起来的热辅助磁记录技术和图案化介质技术原理与优势。     

磁盘用金属薄膜磁记录介质的研究

本文介绍了高密度数字磁记录用Co/Cr磁记录介质材料的初步试验研究结果。Co/Cr磁膜介质系用真空蒸发沉积法制作,磁记录试验在磁盘机上进行。并在相同的写读试验条件下,与保加利亚的γ-Fe_2O_3介质磁盘进行了特性比较的结果表明,Co/Cr磁膜介质的特性优越,是一种具有良好使用前景的磁记录介质材料。     

磁记录和磁光记录材料及其发展

本文介绍了磁记录和磁光记录方式及其原理,磁记录及磁光记录材料的特性、制法和应用,以及在当代信息社会的重要作用和发展前景。     

扩大生产CD、DVD基板材料PC

聚碳酸酯 (ＰＣ)具有光学、低吸水、尺寸稳定、高耐热等特性 ,是ＣＤ、ＤＶＤ等光盘的重要基板材料。随着光盘记录密度的大幅度提高 ,对聚碳酸酯的质量要求也相应提高。继 6 5 0ＭＢ记录容量ＣＤ之后 ,出现了 4 7ＧＢ的ＤＶＤ。记录密度的飞速增大 ,对基板材料ＰＣ的高记录、低双折射等特性要求也随之提高。 1995年拜耳公司开始销售独自开发的ＣＤ、ＤＶＤ基板材料ＰＣ(ＤＰＩ - 12 6 5 )。这种ＰＣ材料与以往的产品相比 ,其流动性得到改善 ,光盘成型条件也变宽 ,因此ＣＤ、ＤＶＤ品质也得到提高 ,且生产周期缩短。为适应更高密度的磁光盘及…     

光化学灼坑与光记录材料

随着社会的高度信息化,大量信息的记录保存愈显重要,因此,需要能进行高密度大容量记录的存储介质。当今的信息记录,以最先用于计算机的磁记录为主。按照不断提高记录密度与容量的要求,目前热衷于研究能进行更高密度记录的光记录。光记录的记录容量预期为磁记录的10～100倍。作为光记录用的激光盘,     

日本光盘材料的现状与发展趋势

重点介绍近几年日本光盘基板材料、磁光记录材料和相变光盘材料的现状与发展趋势。     

磁盘用金属薄膜磁记录介质的研究

在数学磁记录中,磁记录特性和记录密度的提高,是当前的一个重要的研究课题。磁记录密度的提高,就意味着计算机设备体积的小型化和贮容量的扩增,要达到这种目的,磁记录介质材料的优选是个重要的基本条件。介质材料在目前广泛采用的针状γFe_2O_3磁性粉末材料,还要进一步极大地提高磁特性,但是,已受到其本身固有特性的限制。金属铁磁材料具有非常优异的磁性能,金属铁磁薄膜是一种很有潜力和大有希望的新型     

磁带磁盘用聚酯薄膜发展趋势

随着世界磁记录介质的迅速发展,美国杜邦公司、日本东丽公司和帝人公司以及英国帝国化学公司等聚酯薄膜主要生产企业争相扩建,磁带和磁盘的基材—聚酯薄膜产量不断增长。1986年全世界用量约为10万吨;1987年增长27％,为12.7万吨;1988年又增长6％,约达13.5万吨。1987～1988年全世界各种磁记录介质每月聚酯薄膜的用量见表1。为满足磁记录介质的特性要求,聚酯薄膜制造公司在扩大产量和提高普通平衡膜和     

光辅助磁记录-混合记录技术研究进展

混合记录又称为光辅助磁记录，是近年来发展起来的超大容量存储技术，它以激光辅助热磁记录和磁通检测读出为主要特征，具有记录密度潜力大、读出灵敏度和分辨高等优点，是一种很有前途的记录方式。本文较全面地介绍了这种记录方式的基本原理、记录介质及其研究现状，并讨论了其发展前景。     

FePt—MgO垂直磁记录介质的磁性和记录特性之间的关系

利用溅射和退火工艺制备了不同组分和厚度的FePt-MgO垂直磁记录介质,并用极化克尔效应测量了介质的磁滞回线,用spinstand测量了记录性能.研究结果表明,垂直记录介质中磁性晶粒间交换耦合的α值与退火前单层FePt的厚度成反比;信噪比与α值成反比;高频噪音与α值成正比.     

磁光盘记录介质的发展前景

近年来 ,磁性记录介质在高密度、高性能、大容量、小型化和数字化方面不断取得重大发展。计算机数据记录市场的磁性记录介质迅速由磁带和软磁盘向磁光盘转变。据日本记录介质工业协会(ＪＲＭＩＡ)对信息记录介质的生产和市场调查 ,软磁盘的世界市场需求量从 1 995年的顶峰迅速下滑 ,Ｚｉｐ盘 ,ＭＯ磁光盘和一次性刻录ＣＤ光盘等一系列存储介质的市场需求量不断上升。在各种计算机使用的可擦写记录介质中 ,3 5英寸磁光盘 (ＭＯ)和驱动器使用极为普遍。目前 ,日本是 3 5英寸磁光盘 (ＭＯ)和驱动器的主要市场 ,约占全世界销售量的 80 % ,其它…     

超高密度磁记录介质的研究进展与未来趋势

磁记录在过去的50年内经历了磁带、硬盘水平记录模式和垂直记录模式,其记录面密度达到～150Gbit/in~2,50年中记录面密度提高了约10~7倍。在未来5～10年内,磁记录面密度的目标是1000Gbit/in~2(即今天的6～7倍)。本演讲将从磁记录介质因素(磁晶各向异性能和磁有序诱发相分离)和记录模式两方面来评述磁记录面密度的发展过程和相关科学问题的解决、现在面,临的“瓶颈“困境以及未来的发展方向。首先从热力学的角度综述了最近几年对当前唯一可行的Co-Cr基合金介质发生的这种磁有序诱发相分离的认识和理解,通过实验证据和热力学计算来阐明该合金体系能形成纳米双相组织的成因,并解释有效合金化元素Pt、Ta、B对Co-Cr基合金薄膜提高其有效磁晶各向异性能和降低记录噪音的作用。详细分析该体系多元合金作为磁记录介质发展过程中的科学问题(磁晶各向异性能的改善、磁记录信噪比(SNR)的提高与双相组织的关系)以及目前面临的困境(超顺磁)和可能解决的方案。着重阐明未来可能的超高密度记录材料(相分离型合金Co-W和Co-Mo、有序化型合金CoPt和FePt,稀土型合金FeNdB和SmCo_5等)的研究进展和以上各种材料目前存...     

多孔型氧化铝薄膜在高密度封装中的应用及性能

利用铝阳极氧化方法对微晶玻璃基板上的多层铝膜进行选择性氧化,制备了4层布线的高密度MCM—D基板,对氧化得到的多孔型氧化铝介质膜的绝缘及介电性能进行了研究。实验结果表明：多层布线铝与氧化铝结合性好,层间和同层多孔氧化铝绝缘电阻分别达到10^9Ω和10^11Ω以上;多孔型氧化铝的相对介电常数和损耗分别为5．73和0．022（1MHz）;导带、互连通孔与绝缘层所形成的层间通孔互连结构共面性好,具有良好的电互连性能。多孔型氧化铝介质膜适用于制备高密度MCM—D基板。     

超高密度磁存储的展望

磁性存储是最常用的海量存储技术,其记录密度越来越高,发展也越来越快。本文通过对信息记录、读出和存储三个过程的分析,对比了硬磁盘记录、垂直磁记录和磁光记录的优缺点,指出了采用垂直记录模式、非晶结构合金薄膜或铁氧体薄膜介质是实现超高密记录的方向,光辅助磁记录是很有希望的记录技术。同时,还指出量子磁盘技术是未来高密记录的方向。