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纳米压印抗蚀剂研究进展 总被引:2,自引:0,他引:2
纳米压印是最有希望的下一代纳米成像技术之一.基于其机械压印原理,纳米压印技术可以实现的图形分辨率超越了在别的传统技术中由光衍射或粒子束散射造成的局限.本文介绍纳米压印技术的基本原理,回顾了近期纳米压印抗蚀剂的研究进展.对影响抗蚀剂性能的主要因素进行讨论,包括玻璃化转化温度/热稳定性、粘度/平均分子量、抗蚀性能等.分别介绍了热压印和紫外压印的常见抗蚀剂材料,这些抗蚀剂的主要部分包括聚甲基丙烯酸甲酯(PM-MA)、有机硅改性的聚(甲基)丙烯酸酯、聚酰胺酯、聚二甲基硅烷、聚乙烯基醚化合物、环氧树脂等,并给出这些抗蚀剂体系的优、缺点.本文还介绍了纳米压印抗蚀剂面临的主要问题,对纳米压印技术的优势和问题作了小结. 相似文献
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利用抗划伤剂对质量分数为5 %的晶须硅改性后的聚碳酸酯/晶须硅体系进行抗划伤改性,通过铅笔硬度计、维卡仪、电子万能试验机和高压流变仪分别测定其改性后的抗划伤性能、热力学性能、力学性能和流变性能。结果表明,抗划伤剂对聚碳酸酯/5 %晶须硅体系抗划伤改性的最佳配方为:聚碳酸酯/5 %晶须硅/1.2 %抗划伤剂,此时的铅笔硬度达到2H。 相似文献
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在总结有机硅离型剂的结构与性能以及固化反应机理的基础上,概述了近年来传统溶剂型、乳液型和无溶剂有机硅离型剂的应用研究进展,并介绍了紫外光固化、电子束固化和氟硅等新型有机硅离型剂,最后对有机硅离型剂的发展方向和前景进行了展望. 相似文献
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综述了碳化二亚胺类抗水解剂的国内外研究进展,并对碳化二亚胺抗水解剂的结构、用途、合成方法和作用机理进行了详细的介绍。 相似文献
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用溶液聚合法合成了具有低表面能的含氟无规共聚物,即聚[2-(全氟辛基)乙基甲基丙烯酸酯-r-3-(丙烯酰氧基)丙基三甲氧基硅烷][P(FOEMA-r-APTMS)]以及聚[2-(全氟辛基)乙基甲基丙烯酸酯-r-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷][P(FOEMA-r-MPTES)]。它们被配制成不同质量浓度的溶液并喷涂到玻璃表面制备成抗污涂层。利用FTIR、1HNMR表征了聚合物的化学结构,利用耐磨仪、接触角测试仪、原子力显微镜(AFM),考察了单体种类和物质的量比、聚合物溶液质量浓度以及处理湿度对涂层性能的影响。结果表明,P(FOEMA-rMPTES)和P(FOEMA-r-APTMS)涂层在摩擦200次后,前者的水接触角比后者要高约30°,含氟单体与含硅单体最佳投料物质的量比为1.5,聚合物质量浓度为10 g/L时,处理湿度为60%时,涂层疏水性最好且有较好的抗污垢性能,而且涂层的透明度在95%以上和耐磨次数达200次。 相似文献
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以三氟氯乙烯-乙烯基醚共聚物为基料,以四氟微粉为填料,并辅以硅烷偶联剂及其他助剂制备用于化工设备表面的抗黏附涂料。喷涂后所得涂层的表面能为12.59mJ/m2,接触角达到144°,与底材的附着力达到1级,硬度为3H。现场试验中6个月内黏附率约为10.7%,大大缓解了化工设备表面结垢的问题,延长检修周期,降低生产成本。 相似文献
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自交联型水性聚氨酯涂层剂的研制 总被引:6,自引:0,他引:6
本文探讨了用丙酮法来制备自交联型水性聚氨酯涂层剂的合成和涂布整理工艺。对于合成工艺,采用容量,粘度和IR等三种方法评价了预聚过程;并对OH/NCO摩尔比,潜在交联剂有得、成盐率等因素进行了选择,对于涂布整理工艺,比较了前处理剂,增稠剂,涂布操作粘度,焙烘温度,基布种类等条件和涂层织物耐水压的关系。 相似文献