共查询到20条相似文献,搜索用时 0 毫秒
1.
<正> 利用φ550型AES和ESCA与离子溅射相结合方法,研究了n型InP(100)晶面,浓度 10~(16)cm~(-3),迁移率约 2500cm~2/V·s的单晶片上低温淀积SiO_2热氧化膜和阳极氧化膜与本体InP界面区的光电子能谱随深度的变化,及其各种氧化物和俄歇信号的深度分布.在深度分析中Ar作溅射气体,离子枪工作电压为2keV,离子流密度为8μA,电子束电压为3keV,其束流为5μA.同时用椭圆偏振光测厚仪,测定了两种氧化膜的厚度和折射率及介电常数,并且还测定了它们的击穿电压,其结果列于表1. 相似文献
2.
3.
研究了用阳极氧化法制备的Al_2O_3膜/InP和自身氧化膜/InP两种MIS结构的组分分布和电学性质,AES、I-V、C-V和DLTS等测试结果表明,Al_2O_3/InP结构的性能更为优越.用DLTS方法发现这两类样品都具有峰值能量为Ec-Es=0.5eV、俘获截面为~10~(-15)cm~2的连续分布的界面电子陷阱.认为该电子陷阱与磷空位缺陷有关. 相似文献
4.
碲镉汞阳极氧化膜界面的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
用X射线光电子能谱方法研究了Hg_0.8CD_0.2Te样品的厚度为35、50、55、和65nm的阳极氧化膜。结果表明阳极氧化膜的成分中:0为58~60%,Te为22~26%,Cd为10~13%,Hg为3~4%。在氧化膜与基体界面半导体一侧存在缺汞区,比正常值少14~34%。 相似文献
5.
I—V特性法表明单层LB聚酰亚胺膜(~0.5nm)MIS结构的界面态密度为10~(12)~10~(13)cm~(-2)eV~(-1)。对11和41层LB聚酰亚胺膜,DLTS测试得到的界面态密度分别为10~(12)~10~(13)和10~(11)~10~(12)cm~(-2)eV~(-1)。所有结果表明,在硅禁带中央附近具有较大的界面态密度。 相似文献
6.
本文采用MOCVD设备生长了与InP晶格匹配的InGaAs(P)光伏器件。分析了InGaAsP/InGaAs (1.07/0.74 eV)双结太阳电池的QE与I-V特性。在AM1.5D光谱下,InGaAsP/InGaAs双结太阳电池的开路电压,短路电流,填充因子及转换效率分别为0.977 V, 10.2 mA/cm,80.8%,8.94%。对于InGaAsP/InGaAs双结太阳电池,在聚光条件下,其最大转换效率在280个聚光倍数下达到了13%。这一结果预示了GaInP/GaAs/InGaAsP/InGaAs四结太阳电池的潜在应用前景。 相似文献
7.
长波碲镉汞材料阳极氧化膜/ZnS界面的电学特性参数 总被引:1,自引:0,他引:1
通过碲镉汞阳极氧化膜和磁控溅射ZnS膜,结合HgCdTe器件工艺,成功制备了以阳极氧化膜和磁控溅射ZnS双层钝化膜为绝缘层的“长波弱P”型HgCdTe MIS器件.通过对器件的C-V特性实验分析,获得了长波HgCdTe材料的阳极氧化膜/ZnS界面电学特性参数.并通过获得的界面参数,计算了阳极氧化和ZnS的双层钝化膜的表面复合速度.并对MIS器件的变温C-V特性进行了实验和分析. 相似文献
8.
介绍了无铝激光器的优点 ;利用 LP-MOVPE生长了 In Ga As P/In Ga P/Ga As分别限制异质结构单量子阱 (SCH-SQW)结构 ,讨论了激光器的腔长对特征温度的影响。对于条宽 1 0 0 μm、腔长 1 mm腔面未镀膜的激光器 ,连续输出光功率为 1 .2 W,阈值电流密度为 41 0 A/cm2 ,外微分量子效率为 62 % ,并进行了可靠性实验。 相似文献
9.
10.
本文介绍在光通信和光一电子IC中使用的,用InGaAsP/InP四元材料制作的新的穿通肖特基·克莱克特光电晶体管(SCPT)和达林顿光电晶体管。图1是SCPT剖面图。从Au和p-In_(0.73)。Ga_(0.27)As_(0.63)P_(0.37)的功函数之差算得肖特基接触的内建电势差为0.77伏。Au/p-InGaAsP肖特基接触的Ⅴ-Ⅰ曲线与四元层表面的处理有很大关系,如图2所示。用Br CH_3OH腐蚀而用水冲洗收尾,其击穿电压最大。椭圆对称测量表明,用这一工艺形成了大约60(?)的氧化层,在白色光的照射下,所制作的 相似文献
11.
<正> 一、引言以 GaAlAs/GaAs 激光器作光源、雪崩光电二极管作探测器的波长0.8微米的光纤通信,目前几乎已处于实用阶段。另一方面,在光纤损失极低且无分散的波长范围(1.0~1.7微米)内的光源和探测器的研究还比较新,是近年来研究工作不断取得积极进展的一个领域。作为光源,已研制了在1.3微米振荡且寿命超过一万小时的 InGaAsP/InP 系统的激光器,显示了光明的前景,但在探测器方面还有许多问题,尚未得到 相似文献
12.
13.
14.
用液相外延方法研制了InGaAsP/InP异质结双极晶体管(HBT),并研究了其直流特性。该HBT的发射区和集电区材料为InP(禁带宽度为1.35eV),基区材料为InGaAsP(禁带宽度0.95eV)。器件采用台面结构,发射结、集电结面积分别为5.0×10~(-5)cm~2、3.46×10~(-5)cm~2。基区宽度约为0.2μm,基区掺杂浓度为(2~3)×10~(17)/cm~3。在I_c=3~5mA,V_(ce)=5~10V时。共射极电流放大倍数达到30~760。符号表 q 电子电荷ε介电常数 k 玻耳兹曼常数 T 绝对温度β共射极电流放大倍数γ发射极注入效率 A_e 发射结面积 I_(ne) 发射极电子电流 I_(pe) 发射极空穴电流 I_(rb) 基区体内复合电流 I_(gre) 发射结空间电荷区产生-复合电流 I_(sb) 基区表面复合电流 I_(nc) 被集电极收集的电子电流 m_(pb)~* 基区中空穴有效质量 m_(?)~* 发射区电子有效质量 N_(Ab) 基区中受主掺杂浓度 N_(D(?)) 发射区施主掺杂浓度 N_(D(?)) 集电区施主掺杂浓度 W_b 基区宽度 L_(ab) 基区中电子扩散长度μ_(ab) 基区中电子迁移率τ_(ab) 基区中电子寿命 V_(no) 从发射区注入到基区电子的平均速度 V_(p(?)) 从基区注入到发射区空穴的平均速度△E_g 发射区与基区的禁带宽度差△E_c 异质结交界面导带不连续量△E_v 异质结交界面价带不连续量。且有:△E_c+△E_v=△E_g A_(?) 基区表面有效复合面积 相似文献
15.
16.
本文对掩埋弯月形InGaAsP/InP激光器的稳态特性作了数值计算和理论分析。对有源层栽流子浓度分布的剖面形状给予解释,并分析了结构参数对激光器阈值电流的影响。计算结果和实验符合较好。 相似文献
17.
<正> 一、引言 1.3μm和1.55μm的InGaAsP/InP DH激光器是长距离、大容量光纤通信系统最有希望的光源,因为在这两个波长下石英光纤的传输损耗和材料色散最低。随着陆地长途和海底电缆实用化传输系统的进展,对激光器的长寿命和高可靠性能要求日益提高。近年来围绕InGaAsP/InP激光器的退化方式、应力影响、失效机理等方面开展了某些研究工作。初步的研究结果已经证实InGaAsP/InP DH激光器与GaAlAs/GaAs激光器相比,在长寿命器件性能方面具有更大的潜力。 相似文献
18.
19.
20.
The effect of the different re-oxidation annealing (ROA) processes on the SiO2/SiC interface charac- teristics has been investigated. With different annealing processes, the flat band voltage, effective dielectric charge density and interface trap density are obtained from the capacitance-voltage curves. It is found that the lowest interface trap density is obtained by the wet-oxidation annealing process at 1050 ℃ for 30 min, while a large num- ber of effective dielectric charges are generated. The components at the SiO2/SiC interface are analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) testing. It is found that the effective dielectric charges are generated due to the existence of the C and H atoms in the wet-oxidation annealing process. 相似文献