石墨层间化合物GIC

石墨层间化合物是一种纳米级复合材料。本文针对ＧＩＣ的近期研究工作,提出了作者的几点见解,供同行参考。     

石墨层间化合物的利用

日本丰桥技术科学大学稻垣道夫教授,应冶金部鞍山热能所的邀请,于一九八五年四月亲华进行学术讲座,共四讲: 1.石墨层间化合物的利用; 2.碳素材料结构和组织的多样性; 3.碳素材料结构和组织的变换; 4.碳素材料结构和组织的控制。讲稿已由鞍山热能所整理成文,本刊从一九八五年五期连续发表。     

石墨层间化合物的合成技术

一、前言石墨层间化合物的研究近年来越来越兴盛,与此相关的综述和介绍等在这五年中也为数很多。为避免与这些综述有可能重复,在此,特以石墨层间化合物的合成方法为重点,作些叙述。有关石墨层间化合物在化学方面的一般特性及其应用,请参阅文献。石墨层间化合物最大的特征是具有多样性。生成层间化合物的物质,除碱金属和卤素等单质外,还广泛涉及多数的卤化物、酸、氨     

石墨层间化合物稳定性的研究

用喇曼散射方法观察了HClO_4、HNO_3、H_2SO_4—石墨层间化合物(GIC)的阶次状态随时间的变化,采用a面及c面入射观察。到HClO_4—GIC的阶次变化过程中ClO_4~-的溢出现象,据此认为层间化合物的阶次不稳定是由于插入的离子与石墨层间的分子力作用较弱。     

Fe-KCl石墨层间化合物磁学性能研究

探讨了Ｆｅ－ＫＣｌ石墨层间化合物的某些磁学性能．在宏观上,它能被永久性磁铁吸引,表现出明显的单轴磁各向异性,磁化方向仅为平行于碳网面的一个固定方向．当外磁场撤消,剩磁随之消失．在微观上通过插入物粒度测量及Ｍｓｂａｕｅｒ谱研究证实它有典型的超顺磁性．     

石墨层间化合物的合成和应用

石墨层间化合物（Graphite Intercalation Compound，简称GIC）是一种重要的化合物，广泛用于各种科学和生活领域，本文介绍了石墨层间化合物合成及其在密封，环保，医药，阻燃等方面的应用。     

石墨层间化合物的研究与进展

综述了石墨层间化合物的研究状况、结构特征、种类、合成方法及其催化作用,特别指出了它在合成氨工业中的开发前景。     

石墨层间化合物的制取及其应用

石墨层间化合物是一种新型的纳米材料,具有广泛的应用背景。本文介绍了石墨层间化合物的原理以及种类,几种制备方法：双室法、化学氧化法、电化学法、溶剂法、混合法、加压法等,并比较了他们各自的优缺点及应用现状。     

石墨层间化合物成阶过程分析

主要从插层剂插入石墨、插层剂的扩散和阶结构的转变3个方面对石墨层间化合物成阶相关的过程进行讨论。从表面扩散、成核和电子转移3个方面介绍了插层剂进入石墨层间的过程;利用单相的方法分析了层内插层剂的扩散;从有无阶数变化两个方面讨论了阶结构的转化机制。     

石墨层间化合物成阶过程分析

主要从插层剂插入石墨、插层剂的扩散和阶结构的转变3个方面对石墨层间化合物成阶相关的过程进行讨论。从表面扩散、成核和电子转移3个方面介绍了插层剂进入石墨层间的过程;利用单相的方法分析了层内插层剂的扩散;从有无阶数变化两个方面讨论了阶结构的转化机制。     

石墨层间化合物阶结构的标定方法

阶作为表征石墨层间化合物的主要参量之一,在对石墨层间化合物的结构研究中起着重要作用。本文依据晶体材料X射线分析原理,结合石墨层间化合物的结构特性,对几种阶结构的标定方法进行了介绍和分析。     

扫描电镜在石墨层间化合物研究中的应用

本文介绍了扫描电镜(SEM)技术在石墨层间化合物(GICs)研究中的一些探索性应用结果,通过实验与操作,发现用SEM可有效地观察微观插层情况,能获得原子结合的有关信息并可以检验GICs的合成效果。     

石墨层间化合物在压强下的稳定性

我们探究了一阶氯化铁石墨层间化合物(FeCl3-GICs)在单轴压力下的稳定性。通过分析一阶氯化铁石墨层间化合物在不同压强下X射线图谱的变化,我们发现在单向压强低于528MPa时,FeCl3-GIC会保持稳定状态。然而当进一步增大压强后,FeCl3-GIC将变得不稳定和脱插,在更大的单轴压强下甚至可以使一阶FeCl3-GIC改变到更高阶的石墨层间化合物,我们认为氯化铁石墨层间化合物在单轴压力下的脱插是在键的断裂和线缺陷的协助下完成的。     

气相扩散法制备石墨层间化合物述评

本文从碱金属-石墨层间化合物、碱土金属-石墨层间化合物、稀土金属-石墨层间化合物、金属卤化物-石墨层间化合物、卤素-石墨层间化合物以及其他类型的石墨层间化合物六个方面简要介绍了气相扩散法在石墨层间化合物制备中的应用,指出了气相扩散法存在的问题和进一步的发展方向.     

微波膨化钾-四氢呋喃-石墨层间化合物制备膨胀石墨

为了开发一种在无硫酸介入下制备膨胀石墨的新工艺,达到无有害硫残余的目的,以钾-四氢呋喃-萘的有机络合物溶液为介质,用电化学法合成了钾-四氢呋喃-石墨层间化合物,并对其进行微波膨化。对膨化石墨表面形貌和结构进行了表征分析,探讨了钾-四氢呋喃-石墨层间化合物的电解插层机理。结果表明:钾同四氢呋喃的有机溶剂共嵌入石墨层间,且石墨层间化合物膨化后,钾与四氢呋喃在微波作用下迅速从石墨层间膨胀出来得到石墨微薄片,这些石墨薄片彼此叠合形成片层状外观,构成膨胀石墨良好的孔隙结构。     

石墨层间化合物的制备、结构与应用

石墨层间化合物（GIC）是一种二维的纳米级多功能材料，综述了石墨层间化合物的制备方法和结构特点，并对它的应用作了简要介绍。     

Fe—KCl石墨层间化合物磁学性能研究

探讨了Ｆｅ－ＫＣｌ石墨层间化合物的某些磁学性能,在宏观上,它能被永久性磁铁吸收,表现出明显的单轴磁各向异性,磁化方向仅为平行于碳网面的一个固定方向,当外磁场撤消,剩磁随之消失,在微观上通过插入物粒度测量及Ｍｏｅｓｓｂａｕｅｒ谱研究证实它有典型的超顺磁性。     

石墨层间化合物在插层过程中阶的转变模式

应用原位ＸＲＤ（Ｘ射线衍射）法,研究了石墨层间化合物（ＣＩＣ）在插层过程中阶次的转变模式。结果表明：不同的插层体系和插层条件产生不同的成核和扩散情况,从而导致在插层过程中试样的不同阶次转变模式。