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纳米材料Fe2O3的X射线衍射与正电子湮没研究 总被引:2,自引:0,他引:2
给出了纳材料Fe2O3的X射线衍射与正电子湮没辐射多普勒展宽的实验结果。发现样品分别经400℃4h和800℃4h退火后,原来的γ-Fe2O3均转变成αFe2O3,而且颗粒尺寸分别增加到38.7nm与92.9nm;样品的线形参数均随退火温度高而减小。 相似文献
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利用Ti50Cu50金属玻璃的中子和X射线衍射,得到了全结构函数和全原子密度径向分布函数,深入分析了它的近领原子结构和短程有序结构,得出的非晶的近邻原子间距大于相应的晶态结构的间距。 相似文献
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采用X射线衍射和正电子湮没多普勒展宽测量相结合,研究了纳米晶态材料Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9的结构随退火温度的变化。实验结果表明:急冷非品样品在480℃开始明显晶化,基体中析出体心立方结构的α-Fe(Si)固溶体。随着退火温度的升高,非晶漫射峰不断减弱,而晶态相的衍射谱逐渐增强。进一步计算对衍射谱的分离,给出了品化分数和非晶相平均原子间距随退火温度的变化规律。正电子湮没实验证实了约550℃退火时样品内出现以Nb、B原子为主的晶界非晶相,S参数随退火温度的变化与非晶相平均原子间距随退火温度的变化规律一致。 相似文献
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关于X射线在晶体中衍射的理论研究 总被引:1,自引:0,他引:1
对X射线衍射强度公式进行了修正,使其理论计算的结果得到了明显的改善。对简单立方晶体银和铁的衍射相对强度进行计算,并与标准PDF卡片相比较发现:对银和铁而言,未修正公式计算的结果:Ag的偏差范围为84%~165%,Fe的偏差范围为66%~90%。修正后的公式计算的结果则与实验数据符合得比较好,Ag的偏差范围为24%~42%,Fe的误差范围为2%~5%。 相似文献
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金属铀表面氧化动力学的X射线衍射研究 总被引:2,自引:0,他引:2
利用X射线衍射和Rietveld方法研究室温~150℃和300℃下金属铀表面氧化,对氧化过程中试样的表面结构以及氧化动力学进行分析。将试样表面氧化物随时间的变化作定量计算,绘制出不同温度下金属铀表面的氧化动力学曲线,对50~150℃范围内的氧化动力学数据进行拟合,获得不同温度下的氧化反应速率常数,由此得到大气环境下金属铀表面形成UO2的活化能为46.0kJ/mol。在300℃下,氧化产物U3O8逐渐在UO2上形成,其形成过程符合成核生长机理。 相似文献
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酒精是液体安检中非常重要的检测对象,准确的溶液浓度分析,有利于安检系统对于液体物质危险等级的评定以及后续的检查。衍射峰也可能成为一项重要的物理参数,为液体分类提供有价值的识别信息。采用X射线衍射(XRD)实验方法,对不同浓度的酒精溶液进行了X射线衍射实验。为提高衍射谱测量的准确性,对实际测量中的系统误差进行了分析,并提出了几何标定方法。经过几何标定和能谱校正,得到了衍射峰位与酒精浓度的关系。 相似文献
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离子注入用于金属材料表面强化已有十多年历史。国内外已取得许多重要结果。对于离子注入所造成强化的机理研究,将有助于解决实际的工业应用和所存在的问题。迄今,国外 相似文献
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用于大尺寸样品的同步辐射硬X射线衍射增强成像方法研究 总被引:1,自引:1,他引:1
作为 X 射线相衬成像的方法之一,衍射增强成像方法由于能获得较高的信噪比及分辨率而引起了人们的研究兴趣。北京同步辐射装置(BSRF)形貌学实验站也开展了该方法的探索研究。此前的衍射增强成像方法中,当白光 X 射线光束横截面尺寸为 20 mm×10 mm 时,经过双晶单色器后最大只能获得横截面尺寸为20 mm×4 mm 的均匀单色 X 射线,从而造成成像区域减小。在对通常衍射增强成像光路排列分析的基础上,提出了一种新的光学排列几何并进行了衍射增强实验。应用新光学排列几何首次获得了与入射白光 X 射线尺寸相当的、大的成像光斑均匀区域,因而新光学排列几何更适合于大尺寸样品的研究工作。同时,该光学排列几何成像分辨率可以达到微米量级并且更方便于实验操作。 相似文献
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为了探讨X射线衍射增强成像的衬度与X射线能量的关系,利用北京同步辐射光源4W1A光束线引出的硬X射线对大块正常和癌变的乳腺组织进行成像研究.在摇摆曲线顶部位置获得的图像(峰位图像)和表观吸收图像的衬度随X射线能量的变化关系是相似的,说明峰位图像和表观吸收图像包含的主要衬度相似,即吸收衬度,而折射图像的衬度随X射线能量的增大总体上呈现下降趋势.综合来看,对于乳腺类的软组织来说,DEI成像在低能量端有很好的衬度,反映了衍射增强成像更适合于主要由轻元素组成的物体的成像. 相似文献
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利用90°离轴射频磁控溅射方法将Lao.7Ca0.3MnO3(LCMO)沉积于(001)取向的SrTiO3(STO)、MgO和α-Al2O3(ALO)单晶基片上,薄膜厚度均为500 A.通过掠入射X射线衍射技术测量了LCMO薄膜的横向晶格常数(即面内晶格常数),结合常规X射线衍射研究了LCMO薄膜的晶格应变及其弛豫情况.结果表明,LCMO薄膜在MgO和ALO基片上的应变弛豫临界厚度很小,这可能与薄膜-基片之间高的晶格失配率有关.LCMO薄膜的应变弛豫与四方畸变的弛豫可能具有不同的机制.利用掠入射X射线衍射对LCMO薄膜面内生长取向的研究给出了与利用电子显微技术研究相同的结果. 相似文献