LDH─1200多弧离子镀设备

ＬＤＨ─１２００多弧离子镀设备北京仪器厂真空技术研究所刘桂敏，张守忠真空离子镀技术，是在特定的真空条件下在基体表面镀制金属膜、化合物膜，膜层致密与基体结合极好。可镀制各种色彩的装饰膜和超硬耐磨、耐蚀工艺膜，节能节原料，无污染，生产成本低，效益高，用途...     

技术转让信息

DLD 系列多弧离子镀膜设备该镀膜机包括 DLD-450、700、1000等各种型号是可一机多用的新型镀膜设备。该设备采用不同的工艺,可镀制金黄色、黑色和银灰色等多种装饰膜层及硬质膜层,不仅可用于产品的表面装饰,而且还可镀制各种材料     

技术转让信息

DLD系列多弧离子镀膜设备 该镀膜机包括DLD-450、700、1000等各种型号是可一机多用的新型镀膜设备。该设备采用不同的工艺,可镀制金黄色、黑色和银灰色等多种装饰膜层及硬质膜层,不仅可用于产品的表面装饰,而且还可镀制各种材料(包括高速钢、工具钢及硬质合金等)的刀具。刀具经镀膜后,使     

DM-450A真空镀膜机

北京仪器厂生产的DM-450A型真空镀膜机,在1994年,被机械部评为优等品。该产品是在真空中蒸发金属或其它物质,使零件表面获得所需要的膜层的设备。该设备主要用来蒸镀光学镜片的反射膜、透射膜及各种滤光膜,也可用来镀制无线电半导体所需的各种电学膜和轻     

望远镜反红膜

<正>把长波截止波光膜的设计波长控制在希望值.便可镀制小入射角时对全色光反射鲜艳的宝石红色及透射柔和的淡绿色,这就是红色装饰膜.近年来,这种红色装饰膜已被一些单位引入民用望远镜,但由于反红膜的制造工艺及对设备的要求苛刻,“引入”水平不高,目前大约只有40%左右.1994年我公司上马望远镜.由于带红膜的望远镜有很高的经济效益,1994年底从成都南光食品厂购进一台ZZS700—I/G型多层膜镀膜机,专用于镀制红膜.1 膜堆设计     

多弧离子镀技术在钟表行业的应用

本文对多弧离子镀技术的原理与工艺作了简述,结合钟表生产实际,研究了TiN薄膜的性能。通过多种测试实例,分析了影响膜层质量的因素,显示了多弧离子镀技术在装饰膜方面有很好的发展前景。     

向您介绍高校科技成果

仿金电镀新工艺该工艺采用低氰电镀液以获得铜—锌—锡三元金色镀层,镀液稳定,成分容易控制,工艺范围宽。该工艺所镀镀层外观光亮可达14～18K金色(可调节),能在金属及非金属材料上施镀。镀层经电化学或化学钝化处理并涂覆透明有机膜,可经久不变色。该项目可广泛用于灯具、仪表、工艺品及证章等的高级表面装饰。凡具     

脉冲多弧离子源的研制

脉冲多弧离子源主要用来镀制类金刚石薄膜及金属、合金膜、研究了脉冲多弧离子源的引弧方法、放电的稳定性、离子源结构对镀膜均匀性的影响。在此基础上,研制了脉冲多弧离子源,利用该源镀制了类金刚石薄膜及镍铬铁合金渐变膜。经测试,膜层性能良好。     

离子镀TiN膜和TiC膜在模具中的应用

TiN膜层和TiC膜层具有高的硬度、低的摩擦系数和良好的化学稳定性。应用离子镀方法在工模具表面沉积一薄层超硬TiN膜层或TiC膜层,可显著提高工模具的使用寿命,因此,离子镀层在工模具上的应用将越来越广。 1.离子镀工艺过程 离子镀是真空蒸镀与气体放电相结合的一种沉积技术。离子镀的方法有Mattocks法、RF法、ARE法和HCD法,在工模具制造中广泛应用的是HCD法,即空心阴极放电法,先用真空泵抽真空,并向真空室通入反应气体,使真空度保持在10~(-3)～10~(-2)Pa范围内,利用低压大电流的HCD电子枪使蒸发的金属或化合物离子化,并在工件表面堆积成一层保护膜。为提高效率,在工件上加以负电压。     

脉冲多弧离子源的研制

脉冲多弧离子源主要用来镀制类金刚石薄膜及金属、合金膜,研究了脉冲多弧离子源的引弧方法、放电的稳定性、离子源结构对镀膜均匀性的影响。在此基础上,研制了脉冲多弧离子源,利用该源镀制了类金刚石薄膜及镍铬铁合金渐变膜。经测试,膜层性能良好。     

向您介绍高校科技成果

仿金电镀新工艺 该工艺采用低氰电镀液以获得铜—锌—锡三元金色镀层,镀液稳定,成分容易控制,工艺范围宽。该工艺所镀镀层外观光亮可达14～18K金色(可调节),能在金属及非金属材料上施镀。镀层经电化学或化学钝化处理并涂覆透明有机膜,可经久不变色。该项目可广泛用于灯具、仪表、工艺品及证章等的高级表面装饰。凡具有镀光亮镍基础的广家,采用该工艺极为方便,投资2万元即可投产。     

中空热阴极离子镀设备

一、前言反应性离子沉积是一种物理气相沉积技术。根据其工艺过程和装置的不同可分为离子镀(I.P)、反应性离子镀(R.I.P)和活性反应蒸镀(A.R.E)等多种方法。中空热阴极离子镀(H.C.D)属于反应性离子镀。它是以空心阴极性等离子电子束作为蒸发源的离子镀设备。离子镀有如下优点: 1.离子轰击对工件表面有清洗作     

离子镀TiN色泽与工艺关系的研究

在ＴＧ－４型离子镀膜机上，择ＴｉＮ装饰膜镀制工艺进行了研究。结果表明，控制偏压、真空度、温度、氮气、氩气流量，可得到由白到淡黄、金黄、暗黄乃至黑色的ＴｉＮ膜层，而膜的沉积速度要在ｎｍ／Ｓ级范围内变化。     

用脉冲多弧离子源研制镍铬铁合金膜

介绍了采用脉冲多弧离子源镀制镍铬铁合金膜的新技术,研究了采用这一新技术镀制镍铬铁合金膜的镀制工艺,对采用这一新技术所镀制的镍铬铁合金膜进行了性能测试。结果表明：选用合适的工艺参数,采用这一新技术镀制的镍铬铁合金膜膜层均匀,牢固度好,膜层成分与脉冲多弧离子源阴极靶材成分含量误差小于±３％ ,符合实际应用要求     

闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术概述

1前言世界表面处理技术的发展过程(见图1)。电弧离子镀真空蒸发镀磁控溅射离子镀磁控溅射等离子体激光热处渗氮/渗电镀化学气相沉热喷涂物理气相沉积图12磁控溅射离子镀2.1磁控溅射离子镀磁控溅射离子镀(MSIP)是指基体带有负偏压的磁控溅射镀膜工艺,它把磁控溅射的优点(成膜速率高、源为大平面源,有利于膜层厚度均匀)和离子     

新产品新技术

据民主德国《精密仪器技术》1986年10月号报道,英国CVC科学产品公司最近采用了一种新镀膜工艺来镀制光学元件。该公司采用这种新工艺可在金属或非金属基底上镀制一层具有金刚石一样硬的碳素薄膜。这种在真空中喷镀的膜层不仅极硬,而且在红外区还可透光,它特别适用于改善那些曝露于侵蚀性工作条件下(例如,在含砂的空气中、水下以及有金属喷溅危险的工作条件下)的光学系     

用脉冲多弧离子源研制镍铬铁合金膜

介绍了采用脉冲多弧离子源镀制镍铬铁合金膜的新技术,研究了采用这一新技术镀制镍络铁合金膜的镀制工艺,对采用这一新技术氙镀制的镍络铁合金膜进行了性能测试。结果表明：选用合适的工艺参数,采用这一新技术镀制的镍铬铁合金膜膜层均匀,牢固度好,膜层尬发与脉冲多弧离子源阴析靶材成分含量误差小&#177;３％,符合实际应用要求。     

DM-450C真空镀膜机

北京仪器厂生产的DM-450C型真空镀膜机,在1994年,被机械部评定为一等品。该产品是在DM-450A的基础上改进而成,该镀膜机主要用来蒸镀光学镜片的反射膜,透射膜及各种滤光膜,也可用来镀制无线电半导体所需的各种电学膜和轻工业品的装饰性薄膜。 DM-450C镀膜机的蒸发功率比DM-450A     

脉冲离子镀技术镀制DLC薄膜附着力研究

从应用的角度讨论了脉冲电弧离子镀技术镀制类金刚石薄膜的附着力问题 ,指出了影响附着力的主要因素 ,提出了增加附着力的几种途径。     

脉冲离子镀技术镀制DLC薄膜附着力研究

从应用的角度讨论了脉冲电弧离子镀技术镀制类金刚石薄膜的附着力问题,指出了影响附着力的主要因素,提出了增加附着力的几种途径.