多弧离子镀膜卡具的设计

本文介绍了多孤离子镀膜技术中卡具的设计原则，装卡方式及装卡量对膜层质量的影响。     

新型镀膜设备——磁控溅射台

北京仪器厂与清华大学合作研制的新型镀膜设备——JCK-500型磁控溅射台,最近进行了国家鉴定。磁控溅射综合了热蒸发镀膜和两极溅射的优点,克服了二者的缺点。膜层结合强度高,致密而无针孔,工况稳定,重复性好,膜厚均匀,基本不受二次电子轰击,基片温升低,溅射速率可比一般溅     

凯斯全新TX系列伸缩臂式多功能车

凯斯全新TX系列伸缩臂式多功能车,超强的设计,四轮驱动和四轮转向的性能,使TX系列无论在公路还是路况复杂的野外都能胜任艰巨的工程和物料处理作业。凯斯TX系列多功能车集创造性的设计、强大的动力和全新车型于一身,是物料处理、装载、挖掘、回填以及运输作业的理想工具。 动力 TX系列多功能车拥有四缸涡轮增压中冷发动机,最大功率88kW,最大扭矩为435N·m。标准尾气排放控制系统,既降低排放,又提高燃油经济性。     

多弧离子镀在刀具镀膜上的应用

从多弧离子镀的靶材材料、基体温度、膜层厚度等方面探讨了提高刀具镀膜质量的途径。     

离子辅助镀膜

离子辅助淀积技术是目前一种新颖的真空镀膜技术,它的发展历史不长,但已经受到各方面的关注。离子辅助镀膜在光学工业中的推广应用,将使薄膜制备技术进入一个新的发展阶段。     

离子枪与离子镀膜

离子镀膜技术的发展与离子枪的研制密切相关,由于应用场合的不同,出现了多种形式的离子枪。本文对各种枪进行了综述和分类,並对各类枪的结构特点、性能、适用范围以及在离子镀膜技术中的应用进行了讨论。文中特别对于考夫曼枪和磁控溅射轮作了较为详细的介绍、分析,并给出了一些基本曲线。     

多工位磁控溅射镀膜系统膜厚均匀性的研究

本文建立了多工位公自转磁控溅射系统镀膜过程的物理模型,通过把基片运动与镀膜过程的模拟结合在一起,运用时间步长划分的算法仿真公自转系统下矩形靶沉积的三维膜厚分布,并使用同样的方法计算纯自转磁控溅射系统沉积薄膜的厚度分布,最后将两个结果进行对比.研究表明,随着自转与公转速度比例的调节,公自转系统在最优转速比0.5时所制得的薄膜厚度均匀性较纯自转系统得到明显地改善,此结论与实验结果保持一致.     

离子镀膜的原理

不管希望如何明确离子镀膜程序,存在着通过表面受离子轰击形成理想的中间层的事实,在中间层形成之前与形成期间内都保留着有效概念。这种技术的应用必须根据每种应用来评价,但是,因为它通常需要不是与在任何溅射/蒸发实验室中可找到的不同的设备,它是一种容易得到的技术。特殊用途(例如化学的离子镀膜)需要一些在化学蒸发淀积实验室里大概找不到的设备。离子镀膜技术用来淀积金属、合金、并在金属、绝缘体和有机基底(尺寸范围从大的反应器部件到小的螺钉和轴承)上进行化合。在许多情况下同较普通的淀积技术作比较这种技术给予得出优良的结果。因此,它应当考虑到在任何膜基底上的应用,在那个系统中附着力、防腐触或电接触是个问题。为了熟识离子镀膜的程序将要求比我们现在掌握的更详细的有关气体放电物理学知识和中间层形成的原理。当获得这种知识并改进技术,便期望着,这种技术的更完善的应用将到来。当淀积化合物,合金和玻璃的时候,便集中注意应用这种技术。在淀积膜过程中的继续离子轰击情况下基本上可改变淀积物的成份和性能。如果遇到这些问题,便好好地限翩离子镀膜去形成中间层区域,并用一些其它的方法来建立淀积膜层。     

电弧离子镀膜研制成功

<正> 电弧离子镀膜(也称多弧镀、离子键合)是一种新的镀膜方法。最近几年,始见国外报道并开始用于商业。在各种不同类型机加工刀具、耐磨件及模具表面,涂复氮化钛等硬质涂层,效果显著。我们对不同结构电弧源进行了试验改进和性能测试,该源结构简单,工作稳定。对不同材料,在不同的气、电参数下进行了电弧离子镀膜工艺实验,取得了较好结果。根据我们的工作体会,电弧离子镀膜与目前使用的离子镀膜相比较,具有如下优点:被镀材料电离率高,视不同材料。其电离率可达到50—100％。因此,被镀件可以在200℃以下温度形成附着力极好的致密膜     

磁控溅射镀膜玻璃在建筑业的应用

磁控溅射镀膜玻璃在建筑业的应用北京仪器厂李云松厚度几纳米到几十微米的特殊形态的材料，称之为薄膜。利用各种物理或化学原理和方法，将一种或几种特定材料淀积在基底材料表面，获得所需特性或功能的薄膜，已广泛应用到当代科学技术和国民经济的各个领域。一些发达国家...     

LDH─1200多弧离子镀设备

ＬＤＨ─１２００多弧离子镀设备北京仪器厂真空技术研究所刘桂敏，张守忠真空离子镀技术，是在特定的真空条件下在基体表面镀制金属膜、化合物膜，膜层致密与基体结合极好。可镀制各种色彩的装饰膜和超硬耐磨、耐蚀工艺膜，节能节原料，无污染，生产成本低，效益高，用途...     

电弧离子镀膜设备中节流阀开度的检测与控制

本文介绍了电弧离子镀膜设备中基于PCL-836板卡和MCGS组态软件对节流阀开度进行检测与控制的方法.通过相应的硬件配置和软件设计,计算机直接操作PCL-836,使其输出PWM信号去控制步进电机从而驱动节流阀.同时,利用编码器将节流阀开度大小转换成电脉冲信号,由PCL-836对此脉冲信号进行计数并送入计算机.这种方法使得电弧离子镀膜设备镀膜室中的真空度控制及时、准确,从而提高了镀膜质量.     

玻璃镀膜设备研制

介绍了冰柜玻璃镀膜的镀膜工艺及设备 。     

磁控溅射镀膜技术在连铸结晶器中的应用初探

综述了几种国内外已应用或研发的结晶器表面处理技术及其特点,简要介绍了磁控溅射镀膜技术及其优点,同时提出采用磁控溅射镀膜技术对结晶器进行表面改性,以使其达到使用要求。     

靶材刻蚀对磁控溅射镀膜厚度分布的影响

为考察实际磁控溅射镀膜生产过程中由于靶材不断刻蚀消耗而造成的膜厚分布变化,文中就圆形磁控溅射靶建立了沉积模型,采用泰勒级数展开方式得到了薄膜分布的三阶近似解,并采用数值积分的方法计算出不同溅射角分布和靶基距时新靶和旧靶的相对厚度分布.计算结果表明溅射角分布的变化对膜厚分布影响较小,而靶基距变化影响较大;随着靶基距增加,...     

GDM-2200B型高真空多层镀膜设备

GDM—2200B高真空多层镀膜设备,是我厂广大职工遵照伟大领袖毛主席关于“独立自主、自力更生”,“中国应当对于人类有较大贡献”的伟大教导,高举“鞍钢宪法”的伟大红旗与中国科学院安徽光机所大力协同共同奋斗,在     

复杂腔体件表面磁控溅射镀膜关键技术的研究

多轮廓型腔结构件具有复杂的内腔,采用化学镀膜方法在对工件内腔镀膜过程中存在膜基结合力差、薄膜厚度不均匀致密、内腔死角无法镀膜以及环境污染等诸多问题。磁控溅射镀膜技术作为一种新型镀膜工艺,其镀膜均匀致密且绿色无污染,能良好地应用于多轮廓型腔结构件中。论述了不同磁控溅射镀膜方法的特点,以及磁控溅射镀膜在复杂型腔结构件中的关键技术。