清洗预处理对手表外观件表面镀类金刚石薄膜性能的影响

为解决手表外观件镀层的附着力和硬度不高而产生的膜层脱落和磨损露底等问题,采用阳极层流型气体离子源结合非平衡磁控溅射技术制备了类金刚石膜层,研究了镀前清洗工艺对膜层附着力和耐磨性能的影响.结果表明,所制备的类金刚石膜均匀亮黑,显微硬度为2 232 HV,摩擦系数为0.15.在同一镀膜工艺条件下,手表外观件经彻底清洗后,其...     

我国对离线镀膜玻璃生产工艺技术的新发展

离线镀膜玻璃是当今国内、国际建筑物的隐框玻璃幕墙所广泛采用的建筑装饰玻璃材料。近些年来，我国现代化建筑所需的各种镀膜玻璃数量迅猛增加，但是由于离线镀膜玻璃其表面一层颜色膜为“软膜”，在离线镀制时，在200～300％条件下将金属氧化物耙材溅射堆积于玻璃表面的“软膜”层，其牢固度、耐磨性与耐腐蚀性均低于浮法玻璃在线镀制生产的镀膜玻璃。因为在线镀膜工艺(如电浮法、粉末喷涂、     

浮法玻璃在线制备双层复合薄膜的性能

将离子渗透着色技术(IPC)和化学气相沉积技术(CVD)加以结合,在浮法玻璃生产线的锡槽内和A0区进行2次镀膜形成复合膜,克服了单一镀膜技术存在的不足.已经试制出了咖啡色、金黄色、桔红色、蓝色、绿色、灰色等5个系列的复合膜产品,对这种产品的薄膜显微硬度、耐酸碱性、耐磨性、光谱性能、热学性能进行了测定,结果表明:这种复合膜层既具有装饰性,又具有节能性,膜层均匀、平整、牢固,是性能优良的阳光控制镀膜玻璃产品.     

影响真空蒸镀膜结合力的因素

讨论了真空蒸镀镀膜的形成和镀膜与基体的结合力.认为影响膜层结合力的因素包括有镀件基材、膜料材质、环境条件、所用机器设备、以及工艺参数如真空度、蒸发温度、镀距、镀件温度等.     

新型金黄色富硅氮化硅阳光控制膜的制备及性能

采用磁控溅射方法,以纯Si作为靶材,Ar和N_2为溅射气体在3 300 mm宽幅的玻璃基片上制备出大面积均匀的金黄色阳光控制膜。利用X射线衍射、X射线光电子能谱和椭偏仪对不同工艺参数下薄膜的结构、组成和光学参数进行了表征。结果表明:金黄色阳光控制膜的主要成分为富硅氮化硅相;溅射功率和溅射气体通过影响薄膜中硅/氮化硅含量比而改变薄膜的外观颜色。优化工艺条件下制备的金黄色阳光控制膜的色度指标为L*=62.4,a*=4.5,b*=31.6,遮阳系数可达0.59,具有良好的装饰和节能效果。     

非球面玻璃模造用碳化钨模仁磁控溅射铼-铱镀膜工艺优化

通过钽过渡镀层与铼-铱复合镀层相结合的膜层结构,解决了非球面玻璃模造碳化钨模仁热压寿命短、沾黏等问题。通过离子源和镀膜层厚度参数的优化调整,得到了最佳镀膜工艺和参数,改善了模仁的表面品质,延长了模仁的使用寿命。镀钽膜层15min及铼-铱膜层21min后所得镀膜的总厚度约为270nm,模仁热压寿命可超过3000次。     

手表蓝宝石玻璃上真空蒸镀增透膜的研究

基于蓝宝石玻璃在手表上的应用,在蓝宝石玻璃上制备了真空蒸发镀增透膜,研究了MgF2、Al2O3–MgF2、Al2O3–H4–Al2O3–MgF2(H4为LaCO3、TiO2等的混合物)、Al2O3–H4–Al2O3–H4–Al2O3–MgF2等4种不同膜层结构的增透膜对表玻的可见光透过率、耐磨性能和化学耐久性的影响。结果表明,蓝宝石衬底上镀单层及多层增透膜后,可见光透过率均得到较大提升。镀单层MgF2后,蓝宝石玻璃在420~780 nm波段的平均透光率从镀膜前的87.208%提高到90.610%;镀Al2O3–H4–Al2O3–H4–Al2O3–MgF2多层膜后,玻璃在可见光波段内的透光率较均匀,其平均透光率增加至91.208%,而且玻璃的耐磨性和化学耐久性均较好。     

真空离子精饰镀膜技术研究

黄铜基材装饰件表面采用高能级溅射离子镀，镀不锈钢代替电镀钯－镍合金，采用等离子体型阴极弧源－磁控溅射镀技术在不锈钢镀膜表面上镀制TiN/Au透明陶瓷保护膜SiO2,TiO2，并对各膜层的硬度，耐蚀性，耐磨性及相结构进行分析。     

工艺参数对磁控溅射TiN膜结构的影响

为研究工艺参数在磁控溅射中对TiN薄膜生长的影响,通过改变工艺参数使用直流磁控溅射设备在N_2流量5 sccm,N_2压强为5 Pa生长TiN薄膜。采用射频磁控溅射法在N_2流量5 sccm、N_2压强5 Pa等生长参数下,制备了TiN薄膜。采用电子扫描显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)对样品进行了分析,结果显示样品具有纳米级TiN薄膜的基本特征。实验表明,气氛中过多Ti原子的存在,影响了Ti原子和N原子的结合,也不利于TiN薄膜的生长。     

溶胶组成及催化剂对溶胶-凝胶制备二氧化硅薄膜开裂的影响

采用溶胶凝胶浸镀二氧化硅薄膜的方法修饰改善微晶玻璃表面缺陷.通过光学显微镜观察镀膜后膜层的典型形貌提出了较合适的溶胶组成范围.并通过改变催化剂的量观察镀膜后膜层情况,讨论了HCI作为催化剂对镀膜质量的影响.