干燥方法对化学沉淀法合成HA粉体团聚的影响

化学沉淀法合成羟基磷灰石粉体工艺简单,成本低廉,但这种方法得到的羟基磷灰石粉体极易团聚,限制了羟基磷灰石的广泛使用.本文研究了在羟基磷灰石粉体的合成过程中不同干燥方法对粉体团聚的影响.结果表明:在烘箱干燥得到的粉体团聚较严重,微波干燥使粉体的团聚程度有所减轻,冷冻干燥可有效地减弱粉体的团聚,所得到的粉体比表面积较高.同时,本文还讨论了粉体在干燥过程中团聚形成的机理.     

沉淀法制备羟基磷灰石粉料

本文研究了用沉淀法制备羟基磷灰石粉料的过程。对反应物的配比、反应温度、PH值、反应时间四因素进行了对比研究。结果表明沉淀法合成羟基磷灰石的含量和纯度均比较高。     

氢氧化钙-磷酸体系在沉淀法合成羟基磷灰石过程中原料粒度的影响

采用化学沉淀法,分别以3种不同颗粒尺寸的氢氧化钙[Ca(OH)2]与磷酸(H3PO4)反应制备羟基磷灰石(hydroxyapatite,HA)粉末,研究了原料粒度对合成HA的影响.测定了合成过程中溶液的pH值和不同反应时间内合成产物的摩尔比n(Ca)/n(P),并表征了所得粉末的组成、颗粒形貌和粒度分布.研究表明:在采用粒度为57～88 μm的中等尺寸的原料时,合成过程中,溶液大部分时间处于较高的碱性范围,得到的HA粉末的纯度高、颗粒尺寸分布范围较窄.采用较大尺寸的原料时,溶液的碱性较低,合成的HA粉末中存在磷酸钙β-Ca3(PO4)2(β-TCP)和氧化钙(CaO)且尺寸分布范围较宽.采用较小尺寸原料时,HA粉末存在较严重的团聚现象,团聚体尺寸较大.Ca(OH)2-H3PO4体系用化学沉淀法制备HA粉末时,Ca(OH)2颗粒尺寸是影响合成过程的重要因素之一.     

烧结温度和pH值对HA合成的影响

采用液相沉淀法制备了纳米级的HAP粉末,并进一步对合成的材料进行DTA和RD分析,研究了温度和pH值对羟基磷灰石粉体合成的影响。制备的羟基磷灰石粉体纯度较高,随着温度的增加其晶化程度增加。     

沉淀法制备羟基磷灰石反应条件控制研究

为了方便快速地获得高纯度羟基磷灰石,本研究以（NH4）2HPO4和Ca（NO3）.24H2O为原料,利用沉淀法制备纳米级羟基磷灰石粉末。对温度、pH值、分散剂添加比例、钙磷比、烧结温度等反应控制条件进行了研究,对钙磷比及烧结温度做了详细的讨论。结果表明：此法可以得到分散性、均匀性好,纯度高、颗粒小、晶形完整的纳米级羟基磷灰石。     

沉淀法制备羟基磷灰石反应条件控制研究

为了方便快速地获得高纯度羟基磷灰石,本研究以(NH4)2HPO4和Ca(NO3)2.4H2O为原料,利用沉淀法制备纳米级羟基磷灰石粉末。描述了制备过程。对温度、PH值、分散剂添加比例、钙磷比、烧结温度等反应控制条件进行了研究,对钙磷比及烧结温度做了详细的讨论。结果表明:此法可以得到分散性、均匀性好,纯度高、颗粒小、晶形完整的纳米级羟基磷灰石。     

氢氧化钙—磷酸钠体系沉淀法合成纳米羟基磷灰石

以固废磷化渣和NaOH为原料制得Na3PO4,再在超声波辅助下,采用化学沉淀法将Na3PO4溶液缓慢滴加到Ca(OH)2溶液中反应制备出纳米羟基磷灰石,并用FTIR、XRD和SEM等手段对羟基磷灰石进行表征分析。结果表明,在常温和超声波辅助条件下,Na3PO4溶液滴加速度为0.3 mL/min时,用无水乙醇洗涤沉淀物,可获得质量分数达99.5%、粒径为50 nm左右的高结晶度和高分散性纳米羟基磷灰石。     

沉淀法制备羟基磷灰石反应条件控制研究

为了方便快速地获得高纯度羟基磷灰石,本研究以(NH4)2HPO4和Ca(NO3)2·4H2O为原料,利用沉淀法制备纳米级羟基磷灰石粉末,并描述了制备过程。对温度、pH值、分散剂添加比例、钙磷比、烧结温度等反应控制条件进行了研究,并对钙磷比及烧结温度做了详细的讨论。结果表明,此法可以得到分散性、均匀性好,纯度高,颗粒小,晶形完整的纳米级羟基磷灰石。     

沉淀法制备羟基磷灰石反应条件控制研究

为了方便快速地获得高纯度羟基磷灰石,以磷酸氢二铵和四水硝酸钙为原料,利用沉淀法制备纳米级羟基磷灰石粉末。描述了制备过程;对温度、pH、分散剂添加量、钙磷物质的量比、烧结温度等反应控制条件进行了研究;对钙磷物质的量比及烧结温度做了详细的讨论。制备羟基磷灰石的最佳工艺条件：pH为10.5,n(Ca) /n(P)=2.0,反应温度为40 ℃,剧烈搅拌2 h,陈化温度为50 ℃,分散剂添加量为3%(质量分数),以酒精洗涤,120 ℃干燥2 h,900 ℃烧结2 h。此法可得到分散性、均匀性好,纯度高、颗粒小、晶形完整的纳米级羟基磷灰石。     

球磨过程对ZrO2粉末团聚的影响

本文采用两种不粒度的工业３ｍｏｌ％Ｙ２Ｏ３－ＺｒＯ２粉为原料,研究球磨过程对粉末粒度和ＺrＯ２粉末团聚系数的影响。实验表明：球磨能使大团聚粒子破碎,平均粒径减少 ,团聚系数降低,粉末粒度均匀, 球磨时间的延长,粉末平均粒径细化速度减慢。ＺrＯ２团聚粒子破碎过程将发生四方相t向单斜相m的相变。     

烧结温度对制备羟基磷灰石陶瓷粉体的影响

以化学沉淀法制备羟基磷灰石(HA)粉体,研究了烧结温度对羟基磷灰石晶化程度及粒子尺寸的影响。采用x射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、激光粒度仪等对HA粒子的晶化程度、形貌及尺寸进行表征。结果表明:HA理想的晶化温度在900℃左右,HA敏感的烧结温度区间在1000～1100℃。     

羟基磷灰石生物陶瓷的成型研究

在适宜的条件下，用化学沉淀法合成羟基磷灰石，加以不同粘合剂，并通过干压使其成型，控制不同温度将其烧结成陶瓷。简单分析烧结温度、时间及粘合剂等对HAP陶瓷成型的影响。结果表明：1100℃和3h是HAP生物陶瓷较佳的烧结温度和烧结恒温时间；比较之下，聚乙烯醇对HAP的干压成型工艺较适宜。     

无机粉添加工艺及其在聚酯中的分散效果

研究了不同无机粉添加工艺对其在聚酯中的分散性的影响 ,应用光学显微镜对含无机粉聚酯切片及纤维形态结构进行表征。结果表明 :不同的添加工艺对无机粉在聚酯中的分散性有较大的影响 ,将无机粉分散在乙二醇中经超声波处理可有效改善其在 PET中的分散状况 ,切片的可纺性很好     

纳米羟基磷灰石粉体制备工艺的研究

以Ca(NO3)2·4H2O、(NH4)2HPO4和柠檬酸为原料,浓硝酸为溶剂,NH4NO3为助燃剂,采用低温燃烧/水热法快速合成羟基磷灰石纳米粉体。通过对不同工艺条件下得到的试样进行XRD、SEM等分析,研究了柠檬酸和NH4NO3的加入量对燃烧反应的影响,以及水热处理的温度和时间对水热反应的影响。研究结果表明,选择合理的工艺条件能够快速合成高纯度的羟基磷灰石纳米粉体。     

TiB2在球磨中的氧化行为

用行星球磨对TiB2原粉进行处理,并用X射线光电子能谱仪,X射线衍射仪,能量色散X射线荧光光谱仪等对TiB2在球磨过程中的氧化行为进行分析.结果表明:在室温下TiB2粉末存在表面氧化,而球磨加速TiB2粉末氧化,随着球磨时间的延长,TiB2粉末的氧化程度加大;酸洗及离心作用造成硼的流失,使B和Ti的摩尔比失调,最终形成TiO2和少量硼酸包覆TiB2结构;通过改变不同球磨工艺,发现湿磨加Ar保护工艺使TiB2被氧化程度明显降低.     

用沉淀法制备超细草酸钴粉体

以硫酸钴(CoSO4)和草酸(H2C2O4)为原料,采用直接沉淀法制备超细草酸钴(CoC2O4·2H2O)粉体.用X射线衍射分析、热重-差热分析、激光粒度分析和高倍显微镜对制备的CoC2O4·2H2O粉体进行了表征.讨论了H2C2O4浓度、反应温度、表面活性剂,乙醇脱水和加料速率对CoC2O4·2H2O粉体粒度的影响.结果表明:较高的H2C2O4浓度、较低的反应温度、加入表面活性剂、乙醇脱水、较低的加料速率,都有利于制备较细的CoC2O4·2H2O粉体.     

振动强化对金属粉末注射成型中模腔压力的影响

介绍金属粉末振动辅助注射成型设备的原理、结构及其应用,利用自制的模腔压力传感器对振动力场强化金属粉末注射成型过程中模腔压力的变化历程进行实时采集。试验结果表明,振动力场可以改变熔体在模具内的流动方式;在试验研究的范围内,不同径向位置处的模腔最大压力随振动振幅、频率的增加而减小,从而可以在不影响制品性能的条件下降低注射成型中的压力,以拓宽金属粉末注射成型的适用范围。     

沉淀法纳米白炭黑的研制

用沉淀法(湿法)研制了纳米级白炭黑，对沉淀法纳米白炭黑采用胶体保护剂解决了常压干燥的微粉团聚问题，所制得的白发黑粒径20nm，具有明显的工业化规模生产的价值。     

INTEGRATING THE EFFECTS OF PROCESS CONTROLLERS WITH STEADY-STATE, EQUATION-BASED SIMULATION

Process controllers have a significant influence on the steady-state, as well as the dynamic, behavior of chemical processes. Thus, the steady-state simulation of processes should include the effects of control. A new method for including controllers in steady-state simulation is presented in this paper. The method provides equations that represent the steady-state control algorithm and can be solved simultaneously with the process model to yield the steady-slate behaviour of the closed-loop system. Most importantly, the controller models include saturation effects and can be formulated and solved within an open-form model. The method is general and can be applied to single-loop controllers, to complex control designs including split range and signal select, and to several single-loop controllers in a multiloop controller design.