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通过改进的水浴自组装技术,制备出由氧化石墨烯纳米片组成的氧化石墨烯(Graphene oxide,GO)薄膜,对该薄膜进行γ射线辐照后采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射光谱(XRD)对辐照前后的薄膜进行表征,分析辐照对GO薄膜的改性作用。结果表明,辐照后GO薄膜的层间距由0.94nm减小到0.80nm,薄膜中GO纳米片的平均厚度从1.69nm减小到0.86nm,证明了γ射线对GO薄膜良好的还原效应,使GO纳米片的层间官能团减少并导致了层间距和厚度减小。本文还探讨了γ射线辐照对GO薄膜的还原机理。 相似文献
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研究了通过磁控溅射方法制备高纯金属铀膜的可行性。采用X射线衍射(XRD)、俄歇电子能谱(AES)、扫描电镜(SEM)、表面轮廓仪分析了沉积在单晶硅或金基材上铀薄膜的微观结构、成分、界面结构及厚度、表面形貌和表面粗糙度。分析结果表明:磁控溅射制备的铀薄膜为纯金属态,氧含量和其它杂质含量均低于俄歇电子能谱仪的探测下限;溅射沉积的铀镀层与铝镀层之间存在界面作用,两者相互扩散并形成合金相,扩散层厚度约为10nm。铀薄膜厚度可达微米级,表面光洁,均方根(RMS)粗糙度优于15nm。 相似文献
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在不同偏压下,利用多弧离子镀技术在U和Si基体上制备了Ti/TiN多层薄膜。利用X射线衍射仪和扫描电镜对多层膜的组织结构和薄膜界面形貌进行了分析。研究表明:脉冲偏压不但影响多层膜物相各衍射峰的强度,还诱导新相Ti2N的出现。制备的多层膜呈“犬牙”交错的层状、柱状结构生长。随脉冲偏压的增加,柱状晶结构细化,薄膜变得更加致密。通过50μg/gCl-溶液腐蚀研究表明:Ti/TiN多层膜提高抗腐蚀性能源于层状失效,使得腐蚀介质到达基体更加困难,抗腐蚀性能优良。 相似文献
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结合Fensnel反射系数公式与Nevot-Croce模型,设计出了可以用于同步辐射单色器的W/B4C周期多层膜,并对其光学性能(反射率)做了模拟计算。采用高真空磁控溅射技术,实现不同周期的W/BaC周期多层膜的制备。利用英国BEDE公司出产的D1高分辨X射线衍射仪,完成W/B4C周期多层膜周期结构的测量。在北京同步辐射荧光束线(4W1B)上,利用W/B4C多层膜获取准单色光,实现材料的荧光分析实验。实验结果证明,W/B4C多层膜对同步辐射白光起到了单色的作用,可以得到高强度的准单色同步辐射X射线。 相似文献
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用磁控溅射法制备工作波长约8.0nm的Mo/B4C的多层膜作为正入射短波长(λ〈10.0nm)软X射线激光反射腔的反射镜,经X射线衍射仪和TEM检测,多层膜周期结构准确,热稳定性高。 相似文献
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软X射线干涉测量是通过软X射线激光经过马赫-詹德干涉仪完成的,是测量驱动激光临界面附近等离子体状态的重要方法。本基于软X射线多层膜的性能特点,指出软X射线干涉测量的干涉仪各光学元件的入射角越接近正入射越好,分束镜的设计应以其反射率和透过率的乘积为衡量标准。用离子束溅射法制作了类镍银13.9nm软X射线激光干涉测量所需的分束镜,实测表明其面形精度达到纳米量级,反射率和透过率乘积大于1.6%。 相似文献